「re-defect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Thereby, the defect on the optical disk is skipped without re-encoding and recorded continuously.例文帳に追加

それによって、再エンコードしないで光ディスク上の欠陥をスキップして連続的に記録することができる。 - 特許庁

The part recognized as a re-deposition region 8 of the black defect material is etched with an electron beam 4 to remove the re-deposition while xenon fluoride is introduced to flow from a gas gun 9.例文帳に追加

黒欠陥材料の再付着領域８として認識したところにガス銃９からフッ化キセノンを流しながら電子ビーム４でエッチングを行い除去する。 - 特許庁

A defect region size measuring circuit 4 retrieves defect management information before re-initialization when re-initializing the optical disk 10, divides a whole user data region into a plurality of segments, measures defect region size for each segment, then, an alternative region size setting circuit 5 decides alternative region size which is allocated to each user data region after re-initialization based on the defect region size for each segment.例文帳に追加

欠陥領域サイズ計測回路４は光ディスク１０の再初期化時に、再初期化前の欠陥管理情報を検索し、ユーザデータ領域全体を複数のセグメントに分割して、各セグメント毎の欠陥領域サイズを計測し、代替領域サイズ設定回路５は各セグメント毎の欠陥領域サイズに基づき、再初期化後の前記各ユーザデータ領域に割当てる代替領域サイズを決定する。 - 特許庁

To provide a data recording and reproducing device which records data continuously by skipping a defect on a disk without re-encoding.例文帳に追加

再エンコードしないで光ディスク上の欠陥をスキップして連続的に記録可能なデータ記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To improve flexibility in the layout of re-wiring at a wafer level CSP which saves a defect, by disconnecting a fuse.例文帳に追加

ヒューズの切断によって欠陥救済を行うウエハレベルＣＳＰにおいて、再配線のレイアウトの自由度を向上させる。 - 特許庁

A primary judgement and a final judgement of re-broadcasting are made for the broadcast receiver/player judged as a reception defect.例文帳に追加

受信不良と判定した放送受信再生機に対し、再放送の一次判定と最終判定とを行う。 - 特許庁

Since the jogger fence 8 is closed during the re-feeding of paper, defect such as skew can be prevented from occurring in the re-feeding of paper to increase the transportability when the transfer paper is advanced into the jogger part.例文帳に追加

再給紙の間だけジョガーフェンス８を閉じるため、再給紙時にスキュー等の不具合の発生を防ぎジョガー部への転写紙進入時の搬送性を高めることができる。 - 特許庁

To quickly determine the presence of a defect in a product while eliminating labors and times for precision re-inspection.例文帳に追加

再度精密検査行うという手間を省いて、製造物の欠陥の有無を高速に判別することができるようにすること。 - 特許庁

To inhibit film defect from occurring due to the re-vaporization of elements when forming a thin film by vapor-depositing a plurality of the elements.例文帳に追加

複数種の元素を蒸着させて薄膜を形成する際の元素の再蒸発に起因する膜欠陥を抑制する。 - 特許庁

To obtain an image forming apparatus effectively preventing generation of an image quality defect resulting from re-adhesion of shaving power on the surface of an image carrier.例文帳に追加

像担持体表面の削れ粉の再付着に起因する画質欠陥の発生を効果的に防止することのできる画像形成装置を得る。 - 特許庁

When a defect such as a void 34 and a gap 35 is produced inside the X-ray absorption parts 24, the defect such as the void 34 and the gap 35 is eliminated by melting the X-ray absorption parts 24 and a recess 24a produced by the defect elimination is re-filled with the X-ray absorber.例文帳に追加

Ｘ線吸収部２４内にボイド３４やシム３５等の欠陥が生じている場合には、Ｘ線吸収部２４を溶融してボイド３４やシム３５等の欠陥を修復し、欠陥修復により生じた凹部２４ａ内にＸ線吸収材を補充する。 - 特許庁

The control instruction value calculation part 32 re-sets the control instruction value which is output to the actuator 20 when a defect occurs in the actuator 20.例文帳に追加

そして、制御指令値算出部３２は、アクチュエータ２０に不具合が生じた場合に、アクチュエータ２０に出力する制御指令値を再設定する。 - 特許庁

The method includes: a step of directing radiation at the object, the radiation having a wavelength that is substantially equal to twice the optical depth of the recess; a step of detecting radiation that is re-directed by the object or by a defect on the object; and a step of determining the presence or absence of a defect from the re-directed radiation.例文帳に追加

この方法は、凹部の光学的深さの２倍に実質的に等しい波長を有する放射をオブジェクトへ誘導するステップと、オブジェクト又はオブジェクト上の欠陥によって再誘導された放射を検出するステップと、再誘導された放射から欠陥の存在又は不在を判定するステップとを含む。 - 特許庁

The size of an image or the number of pixels in re-detection is changed in accordance with the accuracy distribution of defect position information in an external inspection device without changing resolution.例文帳に追加

解像度を変更することなく、外部の記検査装置における前記欠陥位置情報の精度分布に応じて再検出の際の画像サイズまたは画素数を変更する。 - 特許庁

Consequently, a crystal defect due to re-crystallization can be prevented at a border part between a lightly-doped impurity diffusion region and a heavily-doped diffusion region.例文帳に追加

これにより、低濃度不純物拡散領域と高濃度不純物拡散領域との境界部において、再結晶化による結晶欠陥の発生を防ぐことができる。 - 特許庁

Consequently, a the occurrence of crystal defect resulting from re-crystallization is prevented at a boundary portion between a low-concentration impurity diffusion region and a high-concentration impurity diffusion region.例文帳に追加

これにより、低濃度不純物拡散領域と高濃度不純物拡散領域との境界部において、再結晶化による結晶欠陥の発生を防ぐことができる。 - 特許庁

To reduce a carrier re-coupling loss by reducing a transparent electrode/p-layer interface defect (or relaxing a composition mismatching between p-layer and i-layer).例文帳に追加

透明電極／ｐ層界面欠陥を減少させる（又はｐ層とｉ層の組成不整合を緩和させる）ことにより、キャリア再結合損失を低減することを課題とする。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing a defect detected by the optical defect inspection device or the optical appearance inspection device has a constitution wherein an optical microscope 14 for re-detecting the defect is loaded, and a distribution polarization element and a space filter are inserted onto a pupil surface when performing dark field observation by the optical microscope 14.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing the defect detected by an optical defect inspection device is mounted with an optical microscope 6 for re-detecting the defect, and has a constitution where, when focusing of the optical microscope 6 is performed, a lighting position and a detecting position of the optical microscope 6 to a sample 1 are not changed.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡５において、欠陥を再検出する光学式顕微鏡６を搭載し、この光学式顕微鏡６の焦点合わせを行う時に、試料１に対して光学式顕微鏡６の照明位置と検出位置を変化させない構成とする。 - 特許庁

If the closure possibility 19 and the early stage defect possibility 39 are high, the set concrete mixture, conditions of the structure and the like are judged to be not appropriate, and re-examination is made.例文帳に追加

閉塞確率１９および初期欠陥確率３９が大きい場合には設定したコンクリートの配合、構造物の条件等が適切でないと判断して、再検討を実施する。 - 特許庁

To provide a repair device capable of detecting and repairing a defect while performing efficient access to the whole region of electric lines on an LCD substrate without detaching and re-attaching the substrate.例文帳に追加

ＬＣＤ基板を取り外して再装着することなく基板上の電気配線の全領域に効率的にアクセスして、欠陥を検出、修正することができるリペア装置を提供する。 - 特許庁

In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.例文帳に追加

障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁

The film-forming apparatus can prevent Se from re-vaporizing from the formed CIGS film and inhibit the film defect, because the apparatus always supply Se excessively not only in a film-forming step performed while placing a substrate 4 in a high-temperature atmosphere but also in a slow cooling step.例文帳に追加

基板4を高温下におく成膜工程だけでなく徐冷工程でもSeを常に過剰に供給することにより、形成されるCIGS膜からのSeの再蒸発を防止し、膜欠陥を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a radiographic image reading system capable of easily re-storing information even if a defect occurs in a storing part of a controller and information on each photographing apparatus is lost, and to provide an easy maintenance method for the radiographic image reading system.例文帳に追加

コントローラの格納部に不具合が生じ、各撮影装置に関する情報が失われても容易に再格納できる放射線画像読取システム、かかる放射線画像読取システムのメンテナンスが容易な方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, even after physical reformatting is performed, a defective cluster, if any, in the spare area 15 can still be recognized as a defect and the control operation can be performed so that a replacement cluster is not re-allocated to the defective cluster (i.e., the defective cluster is not used).例文帳に追加

また、物理再フォーマットを行った後も、スペア領域１５中の欠陥クラスタに対して欠陥であることを認識して、そこを交替クラスタとして再割り当てしない（使用しない）ように制御することができる。 - 特許庁

To provide a multi-layer film with low odor properties, without defect in appearance such as gel and fish eye and which can be continuously manufactured for a long time and has good re-sealability, a method for manufacturing it, a lid material for a container and a bag consisting of the multi-layer film.例文帳に追加

低臭性で、ゲル、フィッシュアイ等の外観不良がなく、しかも長時間の連続製造が可能な再封性の良好な多層フィルム、その製造方法、該多層フィルムからなる容器の蓋材、および、袋を提供すること。 - 特許庁

To make it possible to carry out re-bonding quickly and easily without a defect even if there exists a fragile structure below or a low heat-resistant component in the vicinity, by improving the correcting method of the solder bonding for electric wiring of a minute electronic device.例文帳に追加

微小な電子デバイスの電気配線用ソルダーボンディングの修正方法を改良して、下方に脆弱な構造物が有ったり、付近に耐熱性の低い部品が有ったりしても、不具合無く、迅速容易に再ボンディングできるようにする。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of reducing development defect due to deposition of a resist film and re-adhesion of a semi-insoluble material in a developing and rinsing process with a normal hardware environment, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

通常のハード環境のままで、現像、リンス工程において、レジスト膜の析出及び半不溶化物の再付着による現像欠陥を低減させることができるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The retry determining section 11 executes: determining whether the reproducing position is a defect part or not and detecting the defect part based on a signal of a signal processing section 6, measuring the time in which defects are successively detected when the defect is detected, and determining whether to perform re-reading based on the measured time measuring and a threshold stored in the storage.例文帳に追加

リトライ判断部１１が実行する処理には、信号処理部６からの信号に基づいて、再生位置が欠陥部であるか否かを判断して前記欠陥部の検知を行う欠陥部検知処理と、前記欠陥部が検知された場合に、前記欠陥部が連続して検知される時間を計測する時間計測処理と、前記時間計測結果と、前記記憶部に記憶される閾値と、に基づいて再読み出しを行うか否かを判断するリトライ判断処理と、が含まれる。 - 特許庁

In such a manner, since the secondary transfer residual toner on the intermediate transfer belt 1 can be excellently removed, the device is respectively prevented from the cleaning defect, the negative ghost or the like, and the occurrence of color mixture can be prevented even in the case of performing the toner re-use for respective image forming unit A to D.例文帳に追加

これにより、中間転写ベルト１上の二次転写残トナーを良好に除去することができるので、クリーニング不良、ネガゴーストを防止し、また、各画像形成ユニットＡ〜Ｄ毎にトナーリユースを行う場合においても混色の発生を防ぐことができる。 - 特許庁

When a defect occurs in an optional sector f, and it is decided as the fault sector, plural sectors d, e, f containing the fault sector equal to a data size of a recording or reproducing command for the address of the fault sector sent to an information recording/reproducing device are re-arranged in an alternate area 11.例文帳に追加

任意のセクタｆで欠陥が生じ不良セクタと判定した場合、情報記録再生装置に送られた当該不良セクタのアドレスに対する記録又は再生命令のデータサイズと等しい当該不良セクタを含む複数のセクタｄ，ｅ，ｆを、交替領域１１に再配置する。 - 特許庁

To solve a problem wherein there is similarly no reference in the result of defect inspection of a circular sample such as a disk substrate where a reference position cannot be created, so that the re-inspection of the same sample, comparing inspection between manufacturing processes, reproducibility evaluation of an inspection apparatus, and matching with other inspection apparatuses are ambiguous.例文帳に追加

ディスク基板のような基準位置を作成できない円形の試料において、欠陥検査の結果も同様に基準が無いため、同一試料の再検査、製造工程間での比較検査、検査装置の再現性評価、他検査装置との突合せなどが曖昧である。 - 特許庁

After the defect has been relieved by having the fuse irradiated with a laser beam, an organic passiation film (photosensitive polyimide resin film) 5 is filled inside a fuse opening hole part 11 and thereafter, the re-wiring 2, a bump land 2A, a top layer protective film 12 and a solder bump 14 are formed on the upper part of the organic passivation film 5.例文帳に追加

ヒューズにレーザビームを照射して欠陥救済を行った後、ヒューズ開孔部１１の内部に有機パッシベーション膜（感光性ポリイミド樹脂膜）５を充填し、その後、有機パッシベーション膜５の上部に再配線２、バンプランド２Ａ、最上層保護膜１２、半田バンプ１４を形成する。 - 特許庁

Thereby, pixel patterns of wirings, TFT elements and the like formed on the TFT array substrate 11 of the liquid crystal display panel 10 can be made easy to be seen and when the defect existing in the pixel patterns is detected or repaired, the operation to peel or to re-stick the polarizing plate 11a is unnecessitated.例文帳に追加

これにより、液晶表示パネル１０のＴＦＴアレイ基板１１に形成されている配線やＴＦＴ素子などの画素パターンが見え易くなり、画素パターンに存在する欠陥検出の際あるいは欠陥リペアの際に、偏光板１１ａを剥がしたり貼り直したりする作業が不要になる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of preventing the occurrence of a defect due to solder re-fusion and flow-out in reflow heating, in which chip type electronic components are connected and fixed with solder on the main plane of a substrate, and the semiconductor device resin sealed integrally in the main plane side, is soldered to a mounting substrate such as the printed wiring board.例文帳に追加

基板の主面上にチップ型電子部品がはんだで接続、固定され、その主面側が一体に樹脂封止された半導体装置をプリント基板等の実装基板にはんだ付けするリフロー加熱時に、はんだの再溶融流れ出しによる不良発生を防止することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a hot-rolled steel plate by performing rough rolling and finish rolling of a plurality of passes after re-heating a steel slab, the hot-rolled steel plate free from any scaly defect can be obtained by performing the rolling in which the draft of the final pass of the rough rolling is ≥ 35%, preferably at the slab heating temperature being ≥ 1,130°C.例文帳に追加

鋼スラブを再加熱した後、複数パスの粗圧延と仕上圧延とを行い熱延鋼板を製造する方法において、好ましくはスラブ加熱温度を1130℃以上とした上で、粗圧延の最終パスの圧下率を35％以上とする圧延を行うことによりスケール性欠陥のない熱延鋼板を得る。 - 特許庁

To provide CMP pad design for combining a structure of high rigidity necessary for excellent planarization efficiency, in addition to achievement of larger actual contact area with a workpiece and reduction or elimination of necessity for re-forming the texture, with a shape adaptability structure of low rigidity necessary for low defect ratio.例文帳に追加

加工物とのより大きな実接触面積を達成するだけでなく、テキスチャ再形成の必要性を減らすか、又は解消する加えて、良好なプラナリゼーション効率のために必要な高剛性の構造を、低い欠陥率のために必要な低剛性の形状適合性構造と組み合わせるＣＭＰパッド設計が要望されている。 - 特許庁