「second- stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

This thin-film magnetic head has an equidistant two-stage structure in which a first turn part of a first conductor layer and a second turn part of a second conductor layer overlap vertically along the ABS, and which has the same front distance from respective front side faces closer to the ABS.例文帳に追加

この薄膜磁気ヘッドは、第１の導体層の第１のターン部と、第２の導体層の第２のターン部とがＡＢＳに沿った上下方向に重なり、かつＡＢＳに近い前側面からＡＢＳまでの前側距離の等しい等距離二段構造を有している。 - 特許庁

Scattering lights from the first and second alignment marks enter an observation optical system having an optical axis oblique from the first surface of the first member held on the first stage to form the images of the first and second alignment marks on an image plane.例文帳に追加

第１のステージに保持された第１の部材の第１の面に対して斜めの光軸を有する観測光学系に、第１のアライメントマーク及び第２のアライメントマークからの散乱光が入射し、第１のアライメントマーク及び第２のアライメントマークが像面に結像する。 - 特許庁

To carry out compactification while facilitating assembling work and facilitating machining of a second sun gear in a two-stage planetary gear type reduction gear comprised by providing first and second planetary gear mechanisms between an input shaft and an output shaft, and housed in a gear case.例文帳に追加

第１および第２の遊星ギヤ機構が入力軸および出力軸間に設けられて成り、ギヤケースに収容される２段遊星ギヤ式減速機において、組付け作業を容易とするとともに第２サンギヤの加工を容易としつつコンパクト化を可能とする。 - 特許庁

Output from the driver stage amplifier 230 is supplied to the inputs of the first and second RF amplifier 270a and 270b, and the mounting element size of the first RF amplifier 270a is set larger than that of the second RF amplifier 270b.例文帳に追加

ドライバー段増幅２３０の出力は第１と第２のＲＦ増幅器２７０ａ、２７０ｂの入力に供給され、第１のＲＦ増幅器２７０ａの実効素子サイズは第２のＲＦ増幅器２７０ｂのそれより大きな素子サイズに設定される。 - 特許庁

The pressurizing device has a protection sheet supply section 26 for supplying a protection sheet 10 so that the protection sheet 5 is interposed between a second component 5 and a tool 21, when the tool 21 exists at a position where the second component 5 is pressed to a first component 11 on a stage 19.例文帳に追加

加圧装置は、ツール２１がステージ１９上の第１の部品１１に対して第２の部品５を加圧する位置にあるときに、第２の部品５とツール２１との間に介在するように保護シート１０を供給する保護シート供給部２６を備える。 - 特許庁

The second control switch part 6 inputs the detection voltage Vdet and reference voltage Vref2, and stops feeding bias voltage Vbias2 to the amplifying part 2 of the second stage when the detection voltage Vdet is larger than the reference voltage Vref2.例文帳に追加

第２の制御スイッチ部６は、検出電圧Ｖｄｅｔ及び基準電圧Ｖｒｅｆ２を入力し、検出電圧Ｖｄｅｔが基準電圧Ｖｒｅｆ２よりも大きな場合、バイアス電圧Ｖｂｉａｓ２を２段目の増幅部２に供給するのを停止する。 - 特許庁

When the delay control is selected and advance running is selected, and a height position of a working machine device is a set value or more, if the vehicle speed is a second upshift allowable vehicle speed or more for an advance set time, a speed stage of a transmission is upshifted from second gear to third gear.例文帳に追加

遅延制御が選択され、前進走行が選択されると、作業機装置の高さ位置が設定値以上の場合は、車速が第２シフトアップ許可車速以上を前進設定時間継続すると、トランスミッションの速度段を２速から３速へシフトアップする。 - 特許庁

That means, the respective microlenses 11 of the first microlens group and the respective microlenses 13 of the second microlens group are made in two-stage structure, and the respective microlenses 11 of the first microlens group and the respective microlenses 13 of the second microlens group are alternately arranged to be checkered.例文帳に追加

即ち、第１マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１１と第２マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１３が二段構造とされ、かつ、第１マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１１と第２マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１３とが市松模様状に交互に配列される。 - 特許庁

Then the external transfer device 30 moves a finger assy 32 holding the wafer 1 with the lower finger 32b to a second load lock chamber 14b and picks up a wafer 1 at a first-stage mounting part 28 of the support base 20 of the second load lock chamber 14b with an upper finger 32a.例文帳に追加

続いて、外側移載装置３０は下フィンガー３２ｂでウエハ１を保持したフィンガーアッシー３２を第二ロードロック室１４ｂに移動させ、第二ロードロック室１４ｂの支持台２０の第１段目の載置部２８のウエハ１を上フィンガー３２ａによって掬い取る。 - 特許庁

The end part of a gas passage hole 111 of a valve pin 104 is arranged such that it is opened above the second seal ring 108 when the valve pin 104 is placed at its lifting position and it is opened below the second seal ring 108 when the valve pin 104 is depressed at the first stage.例文帳に追加

バルブピン１０４のガス通路孔１１１の端部を、バルブピン１０４が上昇位置にあるときに第２シールリング１０８よりも上方に開口し、バルブピン１０４の第１段押し込み時に第２シールリング１０８の下方に開口するように配置する。 - 特許庁

A deflection stress generated in the second passage constituting member 116B when the ink passage 114 is closed can be made small, so that the second passage constituting member 116B which constitutes the ink passage 114 can be prevented from being fatigue-broken at the early stage.例文帳に追加

したがって、インク通路１１４を閉じる際に第２通路構成部材１１６Ｂに発生する撓み応力を小さくすることができるので、インク通路１１４を構成する第２通路構成部材１１６Ｂが早期に疲労破断してしまうことを防止できる。 - 特許庁

The replacement stage 1 comprises a first frame 10 installed on a floor F, a second frame 20 comprising the feeder bank 30, and a vertical moving means (bolt 14 and a hole 25a) which vertically moves the second frame20 relative to the first frame 10 in a stepless manner.例文帳に追加

交換台１は、床Ｆ上に設置される第１フレーム１０と、フィーダバンク３０が備えられる第２フレーム２０と、上記第１フレーム１０に対して、上記第２フレーム２０を無段階に昇降移動させる昇降移動手段（ボルト１４、穴２５ａ）と、を備えている。 - 特許庁

In a state where a mask M is held on the mask stage 1, the pressure in a first space S1, formed by the rear face Mb of the mask M and the first holding part 4, and the pressure in a second space S2, formed by the rear face Mb of the mask M and the second holding part 6, are mutually different.例文帳に追加

マスクＭをマスクステージ１に保持した状態において、マスクＭの裏面Ｍｂと第１保持部４で形成される第１空間Ｓ１の圧力と、マスクＭの裏面Ｍｂと第２保持部６で形成される第２空間Ｓ２の圧力とが異なる。 - 特許庁

The pattern drawing device controls, in a drawing process, the position of a stage on the basis of a position parameter measured by first and second interferometers and on the basis of a given environmental parameter (in a fixed value mode).例文帳に追加

パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。 - 特許庁

When a second condition stipulated in accordance with a state where distortion does not occur is satisfied, the correction step is returned from the present correction step by one stage (-1dB is subtracted in level correction value).例文帳に追加

また、歪みが発生していないとされる状態に対応して規定される第２条件を満たした場合には、現在の補正ステップから１段階補正ステップを戻す（レベル補正値を−1dB減算）。 - 特許庁

Then, because a portion of silicon nitride film has a strong oxidation resistance, the film thickness does not increase and keeps a determined film thickness in the early stage, and the silicon oxide 11 having the second thickness is formed on the other portion.例文帳に追加

この時シリコン窒化膜の部分は耐酸化性が強いため膜厚は増えず初期に決定した膜厚であり、他の部分は第２の厚みを持ったシリコン酸化膜１１が形成される。 - 特許庁

Intermediate data D^1_n+1 and S^1_n+2 of two points within a target area A1 are used to calculate the temporary data (S^2_n+2) of a second stage on a sequence with even numbered input data Y (2n + 4) defined as a start point.例文帳に追加

対象領域Ａ１内の２点の中間データＤ^1_n+1，Ｓ^1_n+2を用いて、偶数番目の入力データＹ（２ｎ＋４）を始点とする系列上の第２段階の一時データ（Ｓ^2_n+2）が算出される。 - 特許庁

A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23.例文帳に追加

ウエハステージ２３の基準板３６上に、前記各レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影光学系１１を介した投影像に各別に受光する第１センサパターン及び第２センサパターンを設ける。 - 特許庁

When correcting the posture of a substrate 2 easily placed on the surface of a stage, a first pressurization arm 7 and second pressurization arm 8 are advanced toward a substrate butting part 4 together with a stay 6.例文帳に追加

ステージの表面上に無造作に置かれた基板２の姿勢を修正する場合、ステイ６と一緒に第１の押圧アーム７及び第２の押圧アーム８を基板突当て部４に向けて前進させる。 - 特許庁

A secondary transfer nip which is the transfer section of the previous stage is formed in the shape of bringing the front end side of transfer paper held therein into tight contact with the surface of the second intermediate transfer belt 16 on the downstream side of the nip.例文帳に追加

そして、前段転写部たる２次転写ニップを、そこに挟み込ませた転写紙の先端側をニップ下流側で第２中間転写ベルト１６表面に密着させる形状で形成した。 - 特許庁

First and second beam splitters 23 and 29 for branching one part of illuminating lights IL from an excimer laser light source 14 to a wafer stage RST are arranged on the optical path of the illuminating lights IL.例文帳に追加

エキシマレーザ光源１４からウエハステージＲＳＴの近傍に至る照明光ＩＬの光路上に、その照明光ＩＬの一部を分岐させる第１及び第２ビームスプリッタ２３，２９を配置する。 - 特許庁

The substrate S is adsorbed and fixed on the surface-A inspection and adsorption tables 22 from a substrate supply part 7 and, after the surface A of the substrate S is imaged by a surface-A inspection head 4, the substrate S is delivered to a second inspection stage 3.例文帳に追加

基板Ｓは、基板供給部７からＡ面検査吸着テーブル２２に吸着固定され、Ａ面検査ヘッド４でＡ面が撮像され、第２検査ステージ３に受け渡される。 - 特許庁

When the bail rotates at degrees more than 45 degrees and enters into a 2nd stage, the handle is energized so as to advance the inside of sliding paths on the tranceiver module by the cooperation of a 1st axial pin and a second axial pin.例文帳に追加

ベイルが４５度以上に回転して第２ステージに入ると、第１の軸ピンと第２の軸ピンとの協働により、ハンドルはトランシーバモジュール上の摺動路内を前進するように付勢される。 - 特許庁

The shot blast treatment in the second stage is performed desirably at an injection rate of 30 to 80 m/s and a projection amount of ≤100 Kg/min using a shot material made of steel with a grain size of 0.3 to 0.7 mm.例文帳に追加

前記第２工程のショットブラスト処理は、粒径０．３〜０．７ｍｍの鋼製ショット材を用い、３０〜８０ｍ／ｓの投射速度で、１００Ｋｇ／分以下の投射量で行うことが望ましい。 - 特許庁

As just described, at the initial stage of growth, a good single crystal is grown in the first process, and thereafter the single crystal is further grown at a higher growth speed in the second process.例文帳に追加

このように、成長初期においては、第１工程によって良好な単結晶を成長させ、その後は、第２工程によって速い成長速度で単結晶を成長させるようにする。 - 特許庁

Further, each of the nozzle box 30 and second-stage nozzle side structure 40 includes at least a pair of seal contact surfaces which are not parallel to a turbine rotor axis and coming in contact with each other.例文帳に追加

また、ノズルボックス３０および第２段ノズル側構造体４０のそれぞれには、タービンロータ軸に平行でなく、かつ互いに当接する、少なくとも一対のシール当接面が備えられている。 - 特許庁

While the second nozzle 81 descends to the surface of the application stage 70b and resist liquid is applied to the glass substrate G, the first nozzle 81 puts out resist liquid on the first rotating roll 100 on trial.例文帳に追加

第２のノズル８１が塗布ステージ７０ｂ表面まで下降し，ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布している間に，第１のノズル８１は，第１の回転ロール１００上で試し出しを行う。 - 特許庁

Each beam is deflected into upper or lower stage with a micromirror of the second deflection means 4, deflected through a cylindrical lens 5 with a first deflection means (polygon mirror) 7, to scan each of different faces to be scanned 12.例文帳に追加

第二の偏向手段４のマイクロミラーにより各ビーム毎上下段に偏向され、シリンドリカルレンズ５を通り、第一の偏向手段（ポリゴンミラー）７により偏向され、異なる被走査面１２を走査する。 - 特許庁

A surface height position of a plate member 2 is measured in each of the cases when the plate member 2 is mounted at a first position POS1 of a mounting surface 10 of the stage 1 and when it is mounted at a second position POS2.例文帳に追加

板状部材２をステージ１の載置面１０の第１位置ＰＯＳ１に載置したときと、第２位置ＰＯＳ２に載置したときとにおける、板状部材２表面の高さ位置をそれぞれ測定する。 - 特許庁

A portion of the placement plane of the earth plate, superposed on a rotational center C2 of the second rotary table, is superposed on a rotational center C1 of the first rotary table in downward view of the rotary stage device.例文帳に追加

アース板のこの載置面は、回転ステージ装置を上方から見たときに、第２の回転台の回転中心Ｃ２に重畳する部分が第１の回転台の回転中心Ｃ１に重畳している。 - 特許庁

Concentrated water is introduced into a second stage unit 20 from connection piping 5 to flow from above to below and transmitted water is taken out through pipings 6, 4 while concentrated water is taken out of piping 5.例文帳に追加

濃縮水は、連結配管５から第２段濾過ユニット２０に導入され、上から下向きに流れ、透過水が配管６，４を介して取り出され、濃縮水が配管７から取り出される。 - 特許庁

The succeeding second stage lottery is the lottery having no pure loss and relating to whether a shift to a first time shortening state (chance zone) is substantially performed, and thereby having a higher added value.例文帳に追加

次の第２段階抽選は、そこでの純粋なはずれがなく、実質的に第１時間短縮状態（チャンスゾーン）に移行するか否かに関わる抽選であり、それだけ高い付加価値が設けられている。 - 特許庁

In an area having a larger cutting length of the corrugated board sheet, only the first stage cutter device 12 is selectively operated, and in an area having a smaller cutting length, the second cutter device 14 is selectively operated.例文帳に追加

段ボールシートの切断長が大きい領域では第１段カッタ装置１２のみを選択的に稼動させ、該切断長が小さい領域では第２段カッタ装置１４を選択的に稼動させる。 - 特許庁

When one kind of liquid crystal is injected to form a second liquid crystal layer 19 as a first stage, the liquid crystal is prevented from entering the first liquid crystal layer 16 side by the guard seal 33.例文帳に追加

最初の段階として第２液晶層１９を形成するため一種目の液晶を注入するとき、ガードシール３３があるので第１液晶層１６側にこの液晶は入り込まない。 - 特許庁

In this stage, the image data and image synchronizing signals relating to images to be displayed in the first display unit 1 and the second display unit 2 are transferred in a time-sharing way through a common signal line.例文帳に追加

このとき、第１の表示部１と第２の表示部２のそれぞれに表示する画像に関する画像データおよび画像同期信号を、共通の信号線を通して時分割で転送する。 - 特許庁

The combination lottery mode in the game selected from among the plurality of kinds of combination lottery modes and the second combination lottery table 62B corresponding to the lottery result of the combination of the first stage are selected.例文帳に追加

そして、複数種類の役抽選モードの中から選択された当該遊技における役抽選モードと、第１段階の役の抽選結果とに対応する第２役抽選テーブル６２Ｂが選択される。 - 特許庁

Pseudo whiskers in the tin film are prevented and the appearance of the film can satisfactorily be held by the combination of the control of the film thickness in the plating stage using the first bath and the plating in the second bath different in the composition.例文帳に追加

第１浴を用いたメッキ工程での膜厚制御と、組成の異なる第２浴でのメッキの組み合わせにより、スズ皮膜の疑似ホイスカーを防止し、皮膜外観を良好に保持できる。 - 特許庁

If much the same trend is shown in process variability in the transistor 415 and a transistor 408-2 of a second-stage circuit, then a direct-current voltage potential at the A-point has a value according to a threshold voltage of the transistor 408-2.例文帳に追加

トランジスタ４１５と第２段回路のトランジスタ４０８−２のプロセスばらつきが同様の傾向を示す場合、Ａ点の直流電位は、トランジスタ４０８−２の閾値電圧に応じた値となる。 - 特許庁

A control device adjusts, in accordance with an expansion amount of a wafer, a formation condition in forming a pattern on the wafer (steps S14, S15) when the wafer is installed on a wafer stage in a second chamber (step S13).例文帳に追加

制御装置は、ウエハが第２チャンバ内のウエハステージに設置されると（ステップＳ１３）、ウエハにパターンを形成する際の形成条件を、該ウエハの膨張量に応じて調整する（ステップＳ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

Supply of a clean gas to the first gas holder 26 is made through multi-stage orifices (first and second vertical grooves 31, 32) separated in peripheral direction and through the chambers S1, S2 arranged in multi-stages.例文帳に追加

第１ガス溜め26へのガスの供給を周方向に離間した多段のオリフィス（第１、第２の縦溝31、32）を通じて多段に配置したチャンバS1、S2を通じて第１ガス溜め26にガスを供給する。 - 特許庁

In the substrate inspection device 1, a first conveyance section 12 and a second conveyance section 13 for conveying a glass substrate W floated by a floating stage 11 are installed sequentially in the conveyance direction.例文帳に追加

基板検査装置１は、浮上ステージ１１で浮上させたガラス基板Ｗを搬送するための第１の搬送部１２と、第２の搬送部１３が搬送方向に順番に設置されている。 - 特許庁

The accumulator contains at least one second stage and it has an incremental/decremental unit means 18 for executing an incremental, decremental or identification operation on the most significant output of the accumulator.例文帳に追加

アキュムレータはさらに少なくとも１つの第２の段を含み、これはアキュムレータの出力の最上位部に増分、減分または識別動作を行なうための増分器／減分器手段（１８）を有する。 - 特許庁

The humidifier 50 has three-stage constitution of a first humidifier 51 disposed at the downstream side of the coil 41, a second humidifier 52 and a third humidifier 53 disposed at the downstream side of the coil 42.例文帳に追加

気化式加湿器５０は、前段コイル４１の下流側に配置された第１加湿器５１と、後段コイル４２の下流側に配置された第２加湿器５２及び第３加湿器５３の３段構成とする。 - 特許庁

In the machining stage, the surface of a nitride semiconductor substrate is irradiated with a femto second laser, and a part of the surface of the nitride semiconductor substrate is removed, so as to form a recessed part on the surface.例文帳に追加

加工工程では、窒化物半導体基板の表面にフェムト秒レーザを照射して窒化物半導体基板の表面の一部を除去することにより、当該表面に凹部を形成する。 - 特許庁

The differential amplification circuit includes a differential input stage 110 for inputting an input signal to the input terminal and an output signal at the output terminal, and first and second current mirrors 130, 140.例文帳に追加

差動増幅回路は前記入力端子の入力信号と前記出力端子の出力信号を入力する差動入力段１１０と第１及び第２のカレントミラー１３０、１４０を備える。 - 特許庁