「step method」に関連した英語例文の一覧と使い方(366ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and apparatus for modifying heavy oil to an improved level of modification such as obtaining low viscosity modified oil from the heavy oil comprising a reaction step obtaining emulsion by carrying out a supercritical water reaction or subcritical water reaction (supercritical water reaction or the like) to the heavy oil.例文帳に追加

重質油を超臨界水反応又は亜臨界水反応（超臨界水反応等）をさせてエマルションとする反応工程を含んで、重質油から低粘度の改質油を得る方法において、低粘度化等の改質レベルの向上が期待できる重質油の改質方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method in which toner remaining on a photoreceptor surface after a fixing step is efficiently removed with a cleaning blade (CB) even when toner containing spherical colored resin particles having a small particle diameter is used, and by which high definition and high quality images are formed in various environments.例文帳に追加

球形かつ小粒径の着色樹脂粒子を含有するトナーを用いた場合であっても、クリーニングブレード(CB)を用いて、定着工程後に感光体表面に残余するトナーを効率良く除去することができ、各種環境下でも、高精細で高画質の画像を形成することができる画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silicon single crystal pulling-up apparatus capable of producing a silicon single crystal ingot having a prescribed shape and no defect by suppressing the occurrence of a flushed burr in a growth process for the crown part of single crystal ingot which is the most important step in the pulling-up process for silicon single crystal by a Czochralski method.例文帳に追加

本発明は、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の引上げ過程で最も重要とされる単結晶インゴットのクラウン部成長工程においてフラッシュアウトの発生を抑制し、所望形状で欠陥のないシリコン単結晶インゴットを製造することができるシリコン単結晶引上装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing 1,3-dioxolane-4,6-dione compound from a ketonic compound and malonic acid comprises a step for precipitating 1,3-dioxolane-4,6-dione compound as a crystal from a mixture medium comprising an organic solvent having ≥10 permittivity and water and isolating the crystal by solid-liquid separation.例文帳に追加

ケトン化合物とマロン酸から１，３−ジオキソラン−４，６−ジオン化合物を製造する方法であって、誘電率１０以上の有機溶剤と水からなる混合媒体から１，３−ジオキソラン−４，６−ジオン化合物を結晶として析出させ、これを固液分離によって単離する工程を含む製造方法。 - 特許庁

In the signal processing method, a plurality of coefficients of an adaptive filter are collected to generate a plurality of coefficient groups, a coefficient representative value in the plurality of coefficient groups is found; and a coefficient updating step size of each coefficient in the coefficient groups is controlled by using the coefficient representative value.例文帳に追加

本発明の信号処理方法は、適応フィルタの係数を順に複数まとめて複数の係数グループを生成し、前記複数の係数グループにおける係数代表値を求め、前記係数代表値を用いて前記係数グループ内の各係数の係数更新ステップサイズを制御することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the microwiring structure having conductivity in one direction thereof comprises a step of attaching the forming each metal film between the streaks after spreading the polymeric material on the solid substrate to form a plurality of streaks composed of the polymeric material.例文帳に追加

一方向に導電性を有する微細配線構造の製造方法であって、固体基板上に高分子材料を擦り付けることにより該高分子材料からなる複数の筋状部を形成した後、該筋状部間にそれぞれ金属膜を付着形成することからなる微細配線構造の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a calcium chloride aqueous solution, by which a high-concentration calcium chloride aqueous solution can be produced while preventing the handling from becoming poor owing to viscosity increase at a lime milk production step, reducing the production cost, enhancing the production efficiency and dispensing with great capital investment.例文帳に追加

石灰乳製造工程での粘度の上昇による取り扱いの悪化を防止し、製造コストの低減及び生産効率の向上を達成し、且つ多大な設備投資を要することなく高濃度の塩化カルシウム水溶液を製造できる塩化カルシウム水溶液の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The screening method contains a step to select an agent for the treatment of male pattern alopecia from treating agent candidate compounds by using an activity inhibition against at least one substance selected from active TGF-β1 and TGF-β1 activation factor.例文帳に追加

前記目的を解決するために、本発明の男性型脱毛治療薬のスクリーニング方法は、活性型ＴＧＦ−β１およびＴＧＦ−β１活性化因子の少なくとも一方に対する活性阻害を指標として、治療薬候補化合物から男性型脱毛症治療薬を選択する工程を含むスクリーニング方法である。 - 特許庁

To provide a film forming method capable of embedding even a fine recessed section with a high step coverage by forming a Mn containing thin film, a CuMn containing alloy thin film, or the like by heat treatment such as CVD (Chemical Vapor Deposition) and greatly reducing the cost of a device by performing continuous processing with one and the same processor.例文帳に追加

Ｍｎ含有膜やＣｕＭｎ含有合金膜等を、ＣＶＤ等の熱処理によって形成することにより、微細な凹部でも、高いステップカバレッジで埋め込むことができ、しかも、同一の処理装置で連続的な処理を行うようにして装置コストを大幅に低減化することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the ink jet system image forming method, forming the image by forming dots employing slow dry ink and quick dry ink, the ambient temperature of a part, on which the image is formed, is detected upon forming the image and the dot density in a predetermined area is recognized based on the data of the image (step S3).例文帳に追加

遅乾性インクおよび速乾性インクを用いてドットを形成して画像を形成するインクジェット画像形成方法であり、画像形成の際に、画像を形成する部分の周囲温度を検知するとともに、画像データに基づいて、予め定められた画像上の領域におけるドット密度を認識する（ステップＳ３）。 - 特許庁

In the manufacturing method, the second laminate includes a firing sheet group mutually and directly laminated by the 10 to 100 firing sheets, and/or a temperature lowering speed from a maximum temperature to a temperature which is 100°C lower than the maximum temperature is 5°C/min or less in the firing in the step (II).例文帳に追加

本発明の製造方法では、前記第２の積層体を、１０〜１００枚の前記焼成シートが互いに直接積み重ねられた焼成シート群を含む積層体とする、及び／又は、工程（II）の焼成において、最高温度から、前記最高温度よりも１００℃低温までの降温速度を５℃／ｍｉｎ以下とする。 - 特許庁

The method for the production of a carbon fiber bundle comprises the adjustment of the water content of the acrylic fiber bundle as a carbon fiber precursor to <1.5 mass% immediately before introducing the acrylic fiber bundle coated with a lubricant containing a silicone compound into a flame-resisting step to heat the bundle in an oxidizing atmosphere at 200-300°C.例文帳に追加

シリコーン系化合物を含有する油剤を付与した炭素繊維前駆体アクリル繊維束を、２００〜３００℃の酸化性雰囲気中で加熱する耐炎化工程に導入する直前に、該炭素繊維前駆体アクリル繊維束の含水率を１．５質量％未満とする炭素繊維束の製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the glass substrate for the magnetic disk, which includes the polishing step for polishing the glass substrate by using a polishing liquid including abrasive grains, the polishing is conducted by using the polishing liquid containing a nonionic surfactant added thereto so that the frictional coefficient of the solvent of the polishing liquid is equal to or more than that of water.例文帳に追加

研磨砥粒を含む研磨液を用いて、ガラス基板を研磨する研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、上記研磨液の溶媒の摩擦係数が水と同等以上になるように、ノニオン系界面活性剤を添加した研磨液を用いて研磨を行う。 - 特許庁

This transmission rate control method includes a step that only when the Node-B has been successful in the reception of the uplink user data transmitted from user equipment UE, the Node-B transmits the relative rate grant channel RGCH for instructing the user equipment UE to reduce the transmission rate of the uplink user data to the user equipment UE.例文帳に追加

本発明に係る伝送速度制御方法は、無線基地局ＮｏｄｅＢが、移動局ＵＥから送信された上りユーザデータの受信が成功した場合のみ、移動局ＵＥに対して、上りユーザデータの伝送速度を低減させることを指示する相対速度制御チャネルＲＧＣＨを送信する工程を有する。 - 特許庁

The image forming method for electrophotographically forming the image on a recording medium having at least one transparent portion includes a step of applying a coating of an opaque liquid material onto the image forming area of the transparent portion, at least after the image is formed on the transparent portion by an image forming unit.例文帳に追加

少なくとも一部に透明部分を有する記録媒体に対して電子写真式に画像形成を行う方法であって、少なくとも前記透明部分上に画像形成部により画像を形成した後、前記透明部分の画像形成領域上に非透明の液体を塗布するステップを有する。 - 特許庁

The method for processing a substrate comprises a step for inserting a ply-sheet 101, having at least one charged surface between substrate 100 or removing the ply-sheet 101 therefrom, where at least one surface of the ply-sheet 101 has a surface roughness Ra of 1 μm-1 mm and surface resistivity of 1×109 Ω/cm2.例文帳に追加

少なくとも一方の表面が帯電した合紙１０１を基板１００間に挿入または除去する工程を有し、この合紙１０１の少なくとも一方の表面の表面粗さＲａが１μｍ〜１ｍｍ、表面抵抗率が１×１０^9Ω／ｃｍ^2以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a developing solution for preventing residue of a color photosensitive composition on a substrate and a black matrix, preventing uneven development within the surface of a large substrate, in a developing step for a color photosensitive composition layer applied on a substrate, and to provide an image forming method with good productivity, and a color filter preventing generation of residues.例文帳に追加

基板上に塗設された着色感光性組成物層の現像工程において、基板上、およびブラックマトリックス上に着色感光性組成物の残渣がなく、また大型基板でも面内での現像ムラがない現像液を提供し、生産性の良好な画像形成方法、残渣発生の少ないカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

A method for determining the arrangement of the power interconnection comprises a step of delimiting a semiconductor integrated circuit in grid form, calculating a numeric value as an index of the power consumption for every region of each grid form, dividing the semiconductor integrated circuit into a block region including not less than one grid region, and surrounding each block region.例文帳に追加

半導体集積回路を格子状に区切り、各格子状の領域ごとに消費電力の指標となる数値を算出し、半導体集積回路を１つ以上の上記格子領域を含むブロック領域に分割し、各ブロック領域を囲むように電源配線の配置を決定する。 - 特許庁

The printer menu structure is constituted by a method including a step (240) for forming the printer menu structure and steps (254, 256) for installing the printer menu structure in a printer (110) and installed in the erasable memory devices (122, 124, 126) in the printer (110).例文帳に追加

本発明のプリンタメニュー構造は、プリンタメニュー構造を作成するステップ（２４０）と、プリンタメニュー構造をプリンタ（１１０）にインストールするステップ（２５４、２５６）と、を含む方法により構成され、プリンタメニュー構造が、プリンタ（１１０）内の消去可能な記憶装置（１２２、１２４、１２６）にインストールされていることを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a plasma display panel 100 equipped with an exhaust pipe 10 includes the step of reheating the end 10a of the exhaust pipe 10 which has been melted and closed, by using a heating means 6 and at a temperature higher than a slow cooling point of the exhaust pipe 10 and is lower than a softening point thereof.例文帳に追加

排気管１０を有するプラズマディスプレイパネル１００の製造方法であって、加熱手段６を用いて、溶融し封じた前記排気管１０の先端部１０ａを、排気管１０の徐冷点を越えかつ軟化点よりも低い温度で再加熱することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an SOI wafer, with which the occurrence of voids or crystal defect, a problem of the conventional SOI wafer manufacturing step, can be suppressed by eliminating the surface roughness and an overhung shape formed by the difference in growth speeds in upper and lower layers in a silicon epitaxial growth layer.例文帳に追加

シリコンエピタキシャル成長層における、表面ラフネスの解消と上下層の成長速度差に基づいて形成されるオーバーハング形状の解消とを図ることにより、ＳＯＩウエハ製造工程において問題となっていたボイドや結晶欠陥の発生を抑えることのできるＳＯＩウエハの製造方法の提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the C/C composites is characterized in that, after a prepreg 2a containing a carbon fiber and a curable resin is pasted on a form 3, a pasting curing step of curing the prepreg 2a is repeatedly carried out several times to obtain a base material and heat-treating the base material to make C/C.例文帳に追加

本発明のＣ／Ｃ複合材料の製造方法は、炭素繊維と硬化性樹脂とを含むプリプレグ２ａを型３に貼り付けた後に、このプリプレグ２ａを硬化する貼付硬化工程を複数回繰り返すことによって得られる素材を、熱処理することによってＣ／Ｃ化することを特徴とする。 - 特許庁

A method for making a lithographic printing plate includes a step of forming an image area on a medium by ejecting an ink containing a pigment, a surfactant and a dispersant resin onto the medium to be a plate material from a head, as ink droplets each having the size of 1-60 ng per one droplet.例文帳に追加

本件の平版印刷版の製造方法は、顔料と、界面活性剤と、分散樹脂とを含有するインクを、１滴当たり１〜６０ｎｇの範囲の大きさのインク滴として、ヘッドから版材となる媒体に吐出することによって、前記媒体に画線部を形成する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method is characterized by including the step of: processing a substrate 22 to impart a plurality of thicknesses partially to the substrate; manufacturing a slider 24 from a part having a first thickness of the plurality of thicknesses, and simultaneously a tip 23 from a part having a second thickness of the plurality of thicknesses.例文帳に追加

基板２２を加工して部分的に複数の厚みを持つよう加工する工程と、前記複数の厚みのうち第一の厚みを持つ部分からスライダー２４を作製すると同時に、前記複数の厚みのうち第二の厚みを持つ部分からティップ２３を作製する工程と、を含むことを特徴とする作製方法とする。 - 特許庁

To provide a robot device and a walking control method for a robot device capable of changing walking control modes in accordance with the floor surface by discriminating the state of the walking floor surface for walking without modifying a step-based walking schedule and capable of providing stable walking even if floor surface states changes greatly.例文帳に追加

歩行する床面の状態を判別することで、一歩毎の歩行計画の修正ではなく、床面に応じて歩行制御形態を変更し、床面の状態が大きく変化するような場合でも安定した歩行を可能とするロボット装置及びロボット装置の歩行制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for stably transferring a semiconductor chip without pickup fault, etc. to a following assembling step of divided semiconductor chips by eliminating damage of the chip when a semiconductor wafer is divided into the chips, and to reduce a manufacturing cost by increasing the number of capturing the chips as compared with a prior art.例文帳に追加

半導体ウエハから半導体チップへの分割の際に半導体チップの損傷を無くし、分割された半導体チップの後続の組立工程へのピックアップ不良などの無い安定した移送方法および装置を提供し、半導体チップの取れ数を従来に比べて増加させることにより製造コストを下げる。 - 特許庁

To provide a low yield point thick steel plate excellent in low-temperature toughness and ductility by which a thick steel plate of ≥30 mm plate thickness having high ductility in addition to reduced yield point and low-temperature toughness can be attained without requiring increases in loads and costs in a steelmaking step and subsequent manufacturing steps, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

低降伏点化と低温靭性に加えて、高延性を有する板厚３０ｍｍ以上の厚鋼板を、製鋼工程やそれ以降の製造工程で大きな負荷やコストアップなしに実現する、低温靭性と延性に優れた低降伏点厚鋼板およびその製造方法を提案すること。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the gas sensor comprises a step of baking a composition containing one type or more selected from the group consisting of a main component having at least 57 to 88 mol% of a cobalt oxide and 12 to 43 mol% of a tungsten oxide, and an alkali earth or the like compound or a rare earth element or the like oxide containing yttrium at 600 to 1,000°C.例文帳に追加

少なくとも酸化コバルト５７〜８８モル％と酸化タングステン１２〜４３モル％とからなる主成分と、アルカリ土類化合物又はイットリウムを含む希土類酸化物から選択される一種以上を含有する組成物を６００〜１０００℃で焼成してガスセンサーを製造する。 - 特許庁

In a manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disk including a step for forming glass disks by cutting a cylindrical glass base material 3 vertically to the center axis thereof, the difference between outside diameters of the thickest part and the thinnest part of the cylindrical glass base material 3 is specified to be ≤0.5 mm.例文帳に追加

円柱状ガラス母材３をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状ガラス母材３は、最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差が、０．５ｍｍ以下とされている。 - 特許庁

To provide a method for producing coated paper for printing in which a coater of rod metering size press type is used to improve the surface contamination of the applicator roll causing trouble at the production step at which a coating solution including pigments and an adhesive to be coated on the base paper, and has excellent operability and product quality.例文帳に追加

ロッドメタリングサイズプレス方式の塗工装置を使用し、原紙上に顔料及び接着剤を含んだ塗工液を塗工する製造工程で問題となるアプリケーターロール表面汚れの改善、操業および品質に優れた印刷用塗工紙の製造方法および塗工紙を提供することにある。 - 特許庁

This method is provided with a ROM 114 for storing the formation data for indicating arrangements for forming the optional formation, formation arranging steps 4-6 for obtaining positions for arranging the player characters on the basis of the formation data read from the ROM 114 and a rearranging step 7 for correcting the positions obtained in the steps.例文帳に追加

任意の陣形を形成する配置を示す陣形データを格納するＲＯＭ１１４と、ＲＯＭ１１４から読み出した陣形データに基づいて選手キャラクタを配置する位置を求める陣形配置ステップ４からステップ６と、当該ステップで求めた位置を補正する再配置ステップ７とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for treating the granulated blast furnace slag comprises a step of crushing the slag so as to achieve a Wm/Wi value of ≥0.037 and, at the same time, carbonizing the slag.例文帳に追加

針状滓を含有する高炉水砕スラグの処理方法であって、破砕前後のスラグの粒子径を用いてＷｍ／Ｗｉ＝ １０／（ｄ_８０）^１／２ − １０／ （ｄ_８０^（０））^１／２で示されるＷｍ／Ｗｉの値が０．０３７以上となるようスラグを破砕処理しつつ、同時にスラグに炭酸化処理することを特徴とする高炉水砕スラグの処理方法。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of preventing deterioration in processing ability for a substrate to be processed, and generation of particles and watermarks on a surface of the substrate to be processed after it is dried, even when a process liquid is repeatedly used in a substrate processing step, a substrate processing apparatus, a program and a storage medium.例文帳に追加

基板処理工程において処理液を繰り返し使用した場合であっても被処理基板に対する処理が悪化することなく、しかも乾燥後の被処理基板の表面にパーティクルやウォーターマークが形成されることを防止することができる基板処理方法、基板処理装置、プログラムならびに記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which such a printed wiring board can be manufactured that fine irregularities can be formed easily on the surface of a circuit through a simple step and, even when a fine pattern having narrow line widths and line intervals is formed, the deficit, such as the edge chipping, etc., of the circuit can be suppressed.例文帳に追加

回路の表面に簡易な工程にて容易に微細な凹凸を形成することができ、更に、ライン幅及びライン間隔が狭いファインパターンを形成する場合であっても、回路の表面に凹凸を形成するにあたり、回路の角落ち等の欠損を抑制することができるプリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁

A mobile communication method has step A wherein the second wireless base station FBS adjusts the transmission timing of a downlink signal in a second cell under the control of the second wireless base station FBS, based on the measurement result of the reception timing of a downlink signal from a first cell under the control of the first wireless base station MBS.例文帳に追加

本発明に係る移動通信方法は、第２無線基地局ＦＢＳが、第１無線基地局ＭＢＳ配下の第１セルからの下り信号の受信タイミングの測定結果に基づいて、第２無線基地局ＦＢＳ配下の第２セルにおける下り信号の送信タイミングを調整する工程Ａを有する。 - 特許庁

To provide a method for measuring the alignment of a photolithographic step capable of correcting the error range of a pattern image to be transferred to the contraction and the expansion of the image, by measuring the aligning state to each short region on a wafer so as to be more effective and reliable.例文帳に追加

ウェハ上の各ショート領域に対するアライン状態を計測し、これをもとにアラインを補正することにより、転写されるパターンイメージの収縮膨張に対する誤差範囲をより効果的且つ信頼性のあるように補正することができるフォトリソグラフィー工程のアライン計測方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning method for a photomask-related substrate includes a deaerating step of preliminarily subjecting pure water to be used for the cleaning to a deaeration to remove dissolved gas, when a photomask-related substrate contaminated by a sulfate ion is cleaned with pure water, the photomask-related substrate being selected from a substrate for a photomask, a photomask blank, a photomask and a production intermediate thereof.例文帳に追加

硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 - 特許庁

A method for hierarchical estimation of motion includes the steps of calculating an energy function over a set of blocks for each of motion vectors and choosing a motion vector which minimizes the energy function over the set of blocks, and the calculation step implements a substep of calculating a Lagrangian constraint adapted to the size of the set of blocks.例文帳に追加

動きベクトルの各々についてブロックセット上のエネルギー関数を計算するステップと、ブロックセット上のエネルギー関数を最小化する動きベクトル選択するステップとを有しており、前記計算ステップがブロックセットのサイズに合わせたラグランジュ制約を計算するサブステップを実施する形の階層型動き推定の方法。 - 特許庁

To provide a film deposition method, a film deposition apparatus, an optical element, and a projection aligner of high time efficiency for omitting an atmosphere opening step of a vacuum vessel to exchange a masking means, and exchanging the masking means according to a thin film material and a substrate while evacuating the vacuum vessel.例文帳に追加

遮蔽手段を交換するための真空容器の大気開放工程を排除し、真空容器を減圧したまま薄膜用材料や基板に応じた遮蔽手段を交換する、時間効率の高い成膜方法、成膜装置、光学素子および投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for producing a color filter includes an exposure step of exposing a photosensitive layer formed of a photosensitive composition and located on a substrate surface by illuminating light at an illuminance of at least 500 mW/cm^2 onto the photosensitive layer, so that the cumulative exposure energy attains to 5-300 mJ/cm^2.例文帳に追加

感光性組成物からなり基材の表面に位置する感光層に対して、前記感光層に対し、照度が少なくとも５００ｍＷ／ｃｍ^２で照射し、該感光層に対する積算露光量が５〜３００ｍＪ/ｃｍ^２となるように露光する露光工程を含むカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a single-layer electrophotographic photoreceptor capable of effectively suppressing reduction in charging potential, even in the case where a photosensitive layer is liable to oxidation deterioration by an activated gas, such as, ozone generated in a charging step, an image forming apparatus including such a single-layer electrophotographic photoreceptor, and to provide an image formation method.例文帳に追加

帯電工程において発生するオゾン等の活性ガスによって、感光層が酸化劣化しやすい場合であっても、帯電電位の低下を効果的に抑制できる単層型電子写真感光体、そのような単層型電子写真感光体を含む画像形成装置、及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-containing cutting fluid composition excellent in surface accuracy and detergency after processing by adjusting viscosity and surface tension to be lower than those of conventional ones in the cutting step of a brittle material, and to provide an industrially advantageous method for producing the water-containing cutting fluid having such characteristics.例文帳に追加

本発明は脆性材料の切削工程において、従来品より低粘度かつ表面張力を低く調整することで加工後の表面精度と洗浄性に優れた含水切削液組成物；並びにこのような特性を有する含水切削液の工業的に有益な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method has the merits that the objective products are obtained in a single step reaction with a preferable yield, and the transesterification is carried out in a single phase and thus various substrates and enzymes can be used, and the process is free from organic solvents and thereby is gentle to the environment, and the solvent and enzyme can be recycled.例文帳に追加

一段階の反応で目的生成物が得られ収率がよく、また本発明のエステル交換反応は一相系で行われるため多様な基質と酵素を使用でき、また有機溶媒類を用いないので環境に優しく、溶媒および酵素がリサイクル利用できるといった利点を有する。 - 特許庁

In a process of manufacturing a composite material comprising the metal as the matrix phase and the ceramic powder as the dispersed phase, the method for manufacturing the composite material includes a camber-correcting step of correcting the camber by sandwiching the single or layered composite material between a pair of pressing molds, and heating it while pressing it.例文帳に追加

本発明の複合材料の製造方法は、金属をマトリックス相としセラミックス製粉末を分散相とする複合材料の製造方法において、一個もしくは積層された前記複合材料を一対の加圧型に挟み加圧加熱して矯正する反り矯正工程を有することを特徴とする。 - 特許庁