「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(894ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for production of wound treating agents having a mitogenicity to vascular endothelial cells accordingly useful for promotion of vascularization (vasculogenesis) and production of endodermis of intravascular surface, and to provide a method for production of the vascular endothelial cell growth factor by a recombinant DNA technology.例文帳に追加

血管内皮細胞に対して分裂促進性があり、従って新たな血管新生（脈管形成）および血管内表面の内皮新生を促進するのに有用な創傷治癒剤の製造方法を提供すること、ならびに、組換えＤＮＡ技術によって血管内皮細胞増殖因子を製造する方法および手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a carbon nanotube dispersion liquid having high dispersing stability, comprising carbon nanotubes uniformly dispersed without using a surface active agent or others, and its manufacturing method, and to provide a polymer composite comprising the carbon nanotubes uniformly dispersed without mixing impurities therein and its manufacturing method for manufacturing it with relatively simple operation.例文帳に追加

界面活性剤等を用いることなく、カーボンナノチューブを均一に分散させた分散安定性の高いカーボンナノチューブ分散液およびその製造方法を提供すること、並びに、不純物が混在せず、カーボンナノチューブを均一に分散させたポリマーコンポジット、および、それを比較的簡単な操作で製造することができるポリマーコンポジットの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a molding method for a composite molding material molding effectively a molding with smooth exhaustion, and preventing as much as possible a pinhole from being formed in the molding, and a molding method for the composite molding material eliminating a decoration process after molded, by imparting a decorative pattern on a surface of the molding at the same time of molding.例文帳に追加

排気がスムーズで成形品を効果よく成形し、且つ、成形品にピンホールがなるべく形成されない、複合材成形品の成形方法の提供、並びに、成形と同時に成形品の表面に装飾模様をつけることで、成形後の装飾工程を省くことができる、複合材成形品の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having depth changed depending on the place thereof, by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern, the method providing a distribution corresponding to the change in depth, of supply of etching seeds contributing etching.例文帳に追加

所望のパターンを有する第１のマスクと、所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが場所によって変化する前記所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種の供給に前記深さの変化に対応した分布を設ける。 - 特許庁

To solve a request of fine working of high quality having high pattern superposition accuracy without omission due to deformation of a pattern with a simple process/equipment scale in a reverse printing method for transfer onto a surface of a base material to be printed, which is developed instead of a photolithography method having problems of process complication and an increase of an equipment scale.例文帳に追加

工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。 - 特許庁

The second protective film 10 comprising the polyimide resin, etc. is formed on a top surface of the first protective film 5, containing five wiring parts 7c formed between connection pad parts 7b of predetermined adjacent two interconnections 7 and a peripheral part of the adjacent two connection pad parts 7b on both the sides of the wiring parts 7c, by a screen printing method and an inkjet method, etc.例文帳に追加

所定の相隣接する２本の配線７の接続パッド部７ｂ間に形成された５本の引き回し線部７ｃおよびその両側における相隣接する２つの接続パッド部７ｂの周辺部を含む第１の保護膜５の上面に、スクリーン印刷法やインクジェット法等により、ポリイミド系樹脂等からなる第２の保護膜１０を形成する。 - 特許庁

The light-emitting display element protective material includes porous silica particles where a specific surface area measured by a nitrogen absorption method is 300-1,500 m^2/g and an average pore diameter measured by the method is 0.5-4.0 nm and an average particle size is 10-100 nm, and a binder.例文帳に追加

窒素吸着法により測定した比表面積が３００ｍ^2／ｇ以上１５００ｍ^2／ｇ以下であり、前記方法により測定した平均細孔径が０．５ｎｍ以上４．０ｎｍ以下であり、かつ平均粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である多孔質シリカ粒子と、バインダーとを含む発光表示素子保護材料である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is capable of having a nitride-based group III-V compound semiconductor layer, forming an device structure having a surface which is flat and superior in crystallinity on a substrate, such as, a sapphire substrate without making a buffer layer grow, and to provide the semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加

表面が平坦でかつ結晶性が良好な、素子構造を形成する窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体層をサファイア基板などの基板上に、バッファ層を成長させることなく成長させることができる半導体素子の製造方法およびそのような方法により製造される半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon film forming method for forming a hard, fine, and hydrogen-containing carbon film which has high wettability with respect to a lubricant and has a smooth surface, to provide a magnetic recording medium having the hydrogen-containing carbon film formed by the carbon film forming method, and to provide a magnetic recording and reproducing device.例文帳に追加

本発明は、潤滑剤に対する濡れ性が高く、平滑な表面を有し、高硬度で緻密な水素を含む炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法、並びに、該炭素膜の形成方法により形成された水素を含む炭素膜を有する磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the partition of the biochip 100 including a substrate 10 and the partition 20 for partitioning its surface includes a first film formation process for forming a first film on the substrate 10 by using the radiation-sensitive composition containing a color former (A), and a partition forming process for forming the partition 20 by patterning the first film by a lithography method.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、カラーフォーマー（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板１０上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁２０を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁

By the method of manufacturing a display device including a thin-film transistor, where a gate electrode, a gate insulation film, a semiconductor film, and source/drain electrodes are stacked successively on a substrate including a display section, the gate insulation film is formed by allowing the surface to include hydrogen, and the semiconductor film is formed by a reactive thermal CVD method.例文帳に追加

表示部を備える基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極が順次積層されて構成される薄膜トランジスタを具備する表示装置の製造方法であって、 前記ゲート絶縁膜はその表面に水素を含ませて形成し、前記半導体膜は反応性熱ＣＶＤ法を用いて形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the floating seal by a centrifugal casting method includes: a preheat step for heating a die; a pouring step for pouring a melt into the die while rotating it; and a solidification step for heating the die and solidifying the melt while accelerating cooling at the inner circumferential surface of the melt annually spread in the die.例文帳に追加

遠心鋳造法によるフローティングシールの製造方法は、金型を加熱する予熱工程と、金型を回転させながら、金型内に溶湯を注入する注湯工程と、金型を加熱するとともに、金型内部で円環状に広げられた溶湯の内周面における冷却を促進させながら、溶湯を凝固させる凝固工程と備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive film capable of simply and conveniently forming a conductive pattern, having full adhesiveness with a substrate and full small surface resistivity on the substrate with full resolution, and provide a forming method of a conductive membrane, using the photosensitive conductive film, and the forming method of the conductive pattern, and to provide a conductive film substrate.例文帳に追加

基板上に、基板との接着性が十分であり且つ表面抵抗率が十分小さい導電パターンを十分な解像度で簡便に形成することを可能とする感光性導電フィルム、並びに、この感光性導電フィルムを用いた導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for supporting a plurality of works, usefully applied to an automatic work hanging method and an automatic hanging device using the same for automating work for hanging the works on work transfer hangers and unloading the works after completing treatment to attain laborsaving and improved efficiency and in addition to improve the quality of the surface-treated faces of the works.例文帳に追加

ワーク移送用ハンガーへのワークの掛け作業及び処理完了後のワークの降し作業を、作業の省力化と効率向上、更にはワークの表面処理面の品質向上を目的として自動化するためのワークの自動掛け方法やその方法を使用した自動掛け装置に適用して有用な複数ワークの支持方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a quartz glass substrate capable of obtaining a quartz glass substrate having a high flatness (subnanometer level) which can meet the demand for a lithography reflection mask substrate using an extreme ultraviolet ray (EUV) in the field of LSI or the like, and a hydrogen radical etching apparatus suitably used for the treatment method.例文帳に追加

本発明は、ＬＳＩ分野の極端紫外線（ＥＵＶ）を用いたリソグラフィ反射マスク基板などに対する要望に応えることができるようにした高平坦度（サブナノメータレベル）石英ガラス基板を得ることができるようにした石英ガラス基板の表面処理方法及びその処理方法に好適に用いられる水素ラジカルエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a water repellent member having excellent water repellency and durability with a simple process and coated with a film having water repellency only on a required surface without limiting materials and passing through a process such as masking and to provide a method of manufacturing an ink jet head provided with an orifice plate having improved ink repellent performance.例文帳に追加

材料の限定がなく、必要な表面のみにマスキング等の工程を経ず簡単な工程で撥水特性かつ耐久性に優れた、撥水性を有する膜で被覆された撥水性部材の製造方法を提供し、更に、撥インク性能の向上したオリフィスプレートを備えるインクジェットヘッドの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method of forming the film on a surface of a workpiece W in a treatment vessel 22 where evacuation is carried out includes steps of: forming a metal film 8 containing titanium as a thin film by a plasma CVD method using material gas in the treatment vessel ; and annealing the metal film in the treatment vessel.例文帳に追加

真空排気が可能になされた処理容器２２内で被処理体Ｗの表面に対して薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスを用いて処理容器内でプラズマＣＶＤ法により薄膜としてチタンを含む金属膜８を形成する金属膜形成工程と、処理容器内で金属膜に対してアニール処理を行うアニール工程とを有する。 - 特許庁

To provide a bonding method capable of achieving easy bonding while controlling a bonding region of a member to which a bonding film has been transferred, so that the bonding film in a desired shape can be easily transferred to a surface of the member; and to provide a method of manufacturing a sealed type device in which the sealed type device with high reliability can be efficiently manufactured.例文帳に追加

部材表面に所望の形状の接合膜を簡単に転写することができるので、これにより接合膜を転写された部材の接合領域を制御しつつ簡単な接合を可能にする接合方法、および信頼性の高い封止型デバイスを効率よく製造し得る封止型デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the laminate photospacer is formed, a shading pattern formed by using an inkjet method or a printing method is arranged on a part having no use for the laminate photospacer on a resist for forming the laminate photospacer to be masked and after that, the whole surface of the substrate is exposed and next, the shading pattern and the unexposed resist for forming the laminate photospacer on the part of the shading pattern part are removed.例文帳に追加

前記積層フォトスペーサを形成する際に、積層フォトスペーサ形成用レジスト上の積層フォトスペーサを不要とする部分に、インクジェット法または印刷法を用いて形成された遮光パターンを配置してマスキングし、その後基板を全面露光し、その後、前記遮光パターンと遮光パターン部分の未露光の積層フォトスペーサ形成用レジストを除去する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photoelectric flexible wiring board, a method by which warping is reduced of the photoelectric flexible wiring board during the manufacturing, by which mixing of contaminations on an optical waveguide forming face during the manufacturing is reduced, irregularities on the surface of the flexible wiring board caused by contaminations are reduced, and by which bending resistance, sliding resistance, and quality improvement of optical transmission loss can be achieved.例文帳に追加

光電気フレキシブル配線板の製造工程中のそりの低減が図れると共に、製造工程で光導波路形成面の異物混入や異物によるフレキシブル配線板表面の凹凸が低減され、耐屈曲、耐スライド性や光伝搬損失の品質向上が図れる光電気フレキシブル配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the rustproof-processing method of a heat exchanger, the heat exchanger which is flux-brazed by the Nocolock (R) brazing method is subjected to surface treatment with lithium treatment liquid of ≥pH7 containing lithium, subjected to cerium chemical conversion treatment with solution of cerium chemical conversion treatment of pH1.5-3 containing cerium, and thereafter, subjected to zirconium chemical conversion with solution of zirconium chemical conversion treatment of pH3-5 containing zirconium.例文帳に追加

ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７以上のリチウム処理液で表面処理した後、セリウムを含有するｐＨ１．５〜３のセリウム化成処理液でセリウム化成処理し、その後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁

To provide a production method by which, when photosemiconductor particles each consisting of a base made of a metal compound photosemiconductor and a ceramic fixed on at least part of the surface thereof is produced by a liquid phase method, solid-liquid separation is easily carried out and the effect of the resulting photosemiconductor particles as a photosemiconductor is not affected.例文帳に追加

金属化合物光半導体である基体と、該基体の表面の少なくとも一部に固定化されたセラミックスからなる光半導体粒子を、液相法で製造するに際して、固液分離を簡便に実施でき、且つ、得られた前記光半導体粒子の光半導体としての作用に影響しない製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrode having a single layer of a conductive fine particle layer selectively arranged on the surface of a wire end part or one or more layers of the conductive fine particle layer, and its manufacturing method, a lead wire and its connecting method, and an electronic component and an electronic apparatus using them.例文帳に追加

導電性微粒子本来の機能を損なうことなく保持しており、配線末端部の表面に選択的に配列した単層の導電性微粒子層又は複数層の導電性微粒子層を有する電極及びその製造方法、リード配線及びその接続方法、並びにそれらを用いた電子部品及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a shaped article excellent in wear resistance, slidability, moisture impermeability, and the lowness in surface tack having a DLC coating film on a cured layer of an ionization radiation curable resin, a manufacturing method of the same, the shaped article, and a seal member for an electronic component and the electronic component using the shaped article obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

耐摩耗性、摺動性、耐透湿性及び表面タック低減性に優れた、電離放射線硬化性樹脂の硬化層上にＤＬＣ皮膜を有する成形体、及びその製造方法、並びに前記成型体およびその製造方法によって得られた成形体を用いる電子部品用シール部材と電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flat type insulated wire with superior insulation preventing exposure of a conductor surface and forming a uniform coat throughout a whole face including corner parts after baking without extensively changing a manufacturing method of the flat type insulate wire of applying and baking insulating coating on an outer circumference of a flat type conductor a plurality of times.例文帳に追加

平角導体の外周に絶縁塗料を複数回塗布焼付する平角絶縁電線の製造方法に大幅な変更をすることなく、焼付後に角部を含む全面に渡って均一な皮膜が形成され、導体表面が露出することがなく、絶縁性に優れた平角絶縁電線の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of lightweight and very thin copper foil laminated-film easy-to-convey, formed by laminating the copper film on a heat-resistant insulating film, then by thinning by chemical polishing, preservable over a long time by subjecting the copper foil surface after the chemical polishing to the rustproofing treatment, and a transferring method thereof.例文帳に追加

本発明は、耐熱性絶縁フィルムと銅箔を積層後、化学研磨で薄化させることにより製造する極薄銅箔積層フィルムであって、化学研磨後の銅箔表面を防錆処理する事により、長期保管が可能で、軽量で搬送が容易な極薄銅箔積層フィルムの製造方法及びこれらの移送方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of treating a fragile member capable of stably holding the fragile member when the fragile member such as a semiconductor wafer is conveyed or the rear surface thereof is ground, and after a predetermined treatment is completed, capable of peeling the fragile member without being damaged, and also provide an adhesive sheet used desirably for the method.例文帳に追加

半導体ウエハ等の脆質部材の搬送や裏面研削等の加工を施す際に、脆質部材を安定して保持でき、しかも所要の処理が終了した後には、脆質部材を破損することなく剥離することができる脆質部材の処理方法ならびに該処理方法に好ましく用いられる粘着シートを提供する。 - 特許庁

In the optical amplitude detection method and the amplitude control method, reflective scattering surfaces are provided on both sides of an emitting mirror surface along a scanning direction within the scanning mirror, reflected lights from the reflective scattering surfaces are detected to optically detect the deflection angle of the scanning mirror, and the deflection angle is controlled to be below an angle at which the reflective scattering surfaces can be broken.例文帳に追加

走査ミラー内の走査方向に沿った出射ミラー面の両側に反射散乱面を設けて、それらの反射散乱面からの反射光を検出して走査ミラーの振れ角度を光学的に検出し、反射散乱面が破損され得る角度を下回るように制御する光学的振幅検出方法及び振幅制御方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device capable of previously preventing occurrence of various kinds of inconveniences caused by occurrence of voids because of non-filling of a mold resin for a semiconductor device, where a die pad for mounting a semiconductor chip is exposed to a surface at a packaging side of a resin package, and for a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

半導体チップの搭載されたダイパッドを、樹脂パッケージの実装側表面に露出させて成る半導体装置、および半導体装置の製造方法に関し、モールド樹脂の未充填によるボイドの発生に起因した、様々な不都合の発生を未然に防止することの可能な、半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing the conductive powder for obtaining conductive powder submits the powder having tin oxide coated on the surface of inorganic compound particles under wet shredding processing with the use of a nonaqueous solvent to which the tin oxide is not soluble, and later drying the powder, thereby obtaining the conductive powder in the manufacturing method.例文帳に追加

無機化合物粒子表面に錫酸化物を被覆した粉末を、前記錫酸化物が不溶である非水溶媒を用いて湿式解砕処理し、その後乾燥させることにより導電性粉末を得る導電性粉末の製造方法と、この製造方法で得られた導電性粉末を採用することによって上記課題を解決した。 - 特許庁

In a manufacturing method of a magnetic recording medium by which at least a magnetic layer, a protective film layer and a lubricant layer are sequentially stacked on a non-magnetic substrate, the manufacturing method of magnetic recording medium is adopted for carrying out surface treatment of the lubricant layer by using gas activated by plasma generated under pressure near the atmospheric pressure.例文帳に追加

非磁性基板上に少なくとも磁性層、保護膜層、潤滑剤層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法において、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマによって活性化されたガスを用いて潤滑剤層を表面処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を採用する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polycrystalline thin film and a method for producing a composite nanocrystal layer, with which variation in size of a great number of columnar crystals grown in a direction perpendicular to one surface of a substrate and variation in formation positions can be suppressed, and a field-emission electron source enhancing electron emission efficiency and a luminescent device enhancing luminous efficiency.例文帳に追加

基板の一表面に垂直な方向へ成長させる多数の柱状結晶のサイズや形成位置のばらつきを抑制可能な多結晶薄膜の製造方法および複合ナノ結晶層の製造方法、並びに、電子放出効率の向上が可能な電界放射型電子源、発光効率の向上が可能な発光デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical information recording medium by which a position irradiated with laser light is more accurately adjusted and a transferred layer part is processed by short time irradiation with laser light and whose productivity is enhanced in a method of removing the transferred layer part existing on the outside of an outer diameter of a light incident surface side substrate by irradiation with laser light.例文帳に追加

本発明の目的は、光入射面側基板外径よりも外側に存在する転写層部分をレーザー光を照射することで取り除く方法において、レーザー光照射位置の調整をより正確にし、且つ、短時間のレーザー光照射で転写層部分の処理が可能な、より生産性の向上した製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The manufacturing method of a tape carrier and the manufacturing method of a tape carrier semiconductor comprise a process for providing an identification code for each manufacturing unit of a long tape, a process for providing a protection tape covering the identification code on the identification code surface, a plating process, and a process for forming a tape carrier by a protection tape peeling process.例文帳に追加

長尺テープの製造単位毎に識別コードを設ける工程、該識別コード表面上に該識別コードを覆う保護テープを設ける工程、メッキ工程、保護テープ剥離工程によりテープキャリアとする工程からなることを特徴としたテープキャリアおよびその製造方法およびテープキャリア半導体の製造方法などを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor and a method for measuring the thickness of the film of the semiconductor with which the concentration of an impurity in a semiconductor layer can be accurately controlled by introducing the impurity into the semiconductor layer on appropriate conditions corresponding to the thickness of an insulating film formed on the surface of the semiconductor layer without increasing the number of steps.例文帳に追加

工程数を増加させることなく、半導体層の表面上に形成される絶縁膜の膜厚に応じた適切な条件で、半導体層へ不純物を導入して、半導体層の不純物濃度を正確に制御することができる半導体の製造方法および半導体の膜厚測定方法を提供する。 - 特許庁

To achieve a method and an apparatus for brazing a material without generating martensite i.e., without generating harmful structural change (formation of the martensite) in some kind of the material, such as a steel, related to a new method for brazing a connecting piece of an electric conductive material of a metal or the like onto a metallic surface with a new kind of temperature-controlled brazing.例文帳に追加

新規な種類の温度制御されたろう付けにより金属等の導電性材料の接続片を金属面にろう付けする新規な方法に関連し、鋼等のある種の材料ではマルテンサイトの生じないろう付け、即ち有害な構造変化（マルテンサイトの形成）のないろう付けの方法及び装置を達成することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of elastic roller by which the shape of recessed grooves formed on the surface of an elastic part can be uniformly formed, to provide a developer carrier, manufactured by the manufacturing method of elastic roller, to provide a developing device, having the developer carrier, and to provide an image forming apparatus on which the developing device is mounted.例文帳に追加

本発明の課題は、弾性部の表面に形成される凹状溝の形状を均一に形成することができる弾性体ローラの製造方法を提供することにあり、この製造方法により製造される現像剤担持体、この現像剤担持体を有する現像装置及びこの現像装置を搭載する画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

This sterile homogenization method of the particle including liquid, is a sterile homogenization method of the particle including liquid for homogenizing the particle including liquid by sending the liquid to the homogenizing valve by the plunger pump 10, and cleans a surface of a plunger 12 by the electrolytic water in the rear of the packing (the first packing 51) loaded in the cylinder 11 in the plunger pump 10.例文帳に追加

本発明の粒子含有液の無菌均質化方法は、プランジャポンプ１０により粒子含有液を均質バルブに送液して均質化する粒子含有液の無菌均質化方法において、プランジャポンプ１０におけるシリンダ１１内に装填されたパッキング（第１のパッキング５１）より後方にてプランジャ１２表面を電解水で洗浄する。 - 特許庁

To provide a cell culture base material which has a cell adhesive surface used as the scaffold of cells and routes for supplying nutrients and removing waste products and whose formed two- or three-dimensional tissues can simply be recovered, to provide a method for producing the cell culture base material, and to provide a method for culturing cells with the cell culture base material.例文帳に追加

細胞培養を行うに際しての、細胞の足場となる細胞接着面、栄養の供給、及び老廃物の除去ルートを有しており、かつ形成された２次元又は３次元組織体を簡便に回収できる細胞培養基材、該細胞培養基材の製造方法、並びに、該細胞培養基材を用いた細胞培養方法を提供する。 - 特許庁

The method also includes: applying a resist 5 on the hydrophilic portion 4; forming an opening on a desired part of the resist 5; forming an opening on the hydrophilic portion 4 and the silicon-containing thin film 1 by using a chemical containing fluorine to expose the surface of the GaAs semiconductor substrate 2; and forming a via hole 6 by etching on the GaAs semiconductor substrate 2 by a dry etching method.例文帳に追加

この親水化部４上にレジスト５を塗布し、該レジスト５の所望の部位に開口部を形成し、フッ素を含む薬液によりレジスト開口部内の親水化部４および含シリコン薄膜１に、開口部を形成してＧａＡｓ半導体基板２の表面を露出し、ドライエッチ法によりＧａＡｓ半導体基板２にビアホール６をエッチング形成する。 - 特許庁

The horizontal gap of specific portions (bold face portions) is different from the horizontal gap of the other portions (fine type portions) in the plurality of same texts A' displayed adjacent to each other, so that the specific portions are displayed stereoscopically as if they are shifted relative to the other portions in the depth direction when the display surface is viewed by a parallel method or a cross method.例文帳に追加

左右に複数表示されている同一の文章Ａ′のうち特定部分（太字部分）の左右方向間隔が他の部分（細字部分）の左右方向間隔と相違されることによって、平行法または交差法によって表示面を目視したときに、該特定部分が該他の部分に対して前後方向にずれて見える立体視状態とされる。 - 特許庁

To provide an optical recording/reproducing device which can easily recognize whether the surface temperature of an optical recording medium capable of high multiple recording by a colinear system is outside a predetermined temperature range during recording/reproducing, and attain good reproduction having no image shifting or distortion, an optical recording method and an optical reproducing method.例文帳に追加

前記コリニア方式における高多重記録可能な光記録媒体の表面温度が、記録時及び再生時に所定の温度範囲を逸脱しているか否かを容易に認識することができ、記録及び再生の際に、画像のずれや歪がない優れた再生が得られる光記録再生装置、光記録方法及び光再生方法を提供。 - 特許庁

In the method for which a wire rod is wiredrawn and formed through a die, the wiredrawing method comprises a wetting process which wets a surface of wire rod with water before the wire rod gets through a die, a wiredrawing process which sends the wetted wire rod to the die and forms a prescribed diameter and shape, and a coiling process which coils the drawn wire.例文帳に追加

線引抜き方法は、線材を金型にて引抜き成型する線引抜き方法において、該金型に入る前に該線材の表面に水で湿潤させる湿潤工程と、上記湿潤された線材を該金型へ送り所定の線径及び形状にさせる線引抜工程と、線引抜きされた線材を巻き取る巻取り工程とからなる。 - 特許庁

This method of intracellular introduction is a method for introducing a protein and/or peptide into a cell, which comprises the process of introducing a conjugate generated by binding of a compound adsorbable on a cell surface to a protein and/or peptide via a polysulfide bond into a cell and treating with a reducing agent.例文帳に追加

タンパク質及び／又はペプチドを細胞内に導入する方法であって、該細胞内導入方法は、タンパク質及び／又はペプチドと細胞表面に吸着する化合物とがポリスルフィド結合を介して結合した結合体を細胞内に導入し、還元剤により処理する過程を含んでなるタンパク質及び／又はペプチドの細胞内導入方法である。 - 特許庁

To provide a method of processing a semiconductor substrate capable of alternatively removing a contaminant (undesired substance) which resides near a front surface of the semiconductor substrate, to provide semiconductor components with a high reliability which are manufactured by using such a method, and to provide electronic equipment with a high reliability equipped with the semiconductor components.例文帳に追加

半導体基板の表面付近に存在する汚染物質（不要物質）を選択的に除去することができる半導体基板の処理方法を提供すること、このような方法を用いて製造される信頼性の高い半導体部品を提供すること、また、前記半導体部品を備えた信頼性の高い電子機器を提供すること。 - 特許庁