「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(124ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate treatment method which can prevent metal impurity ions from attaching, without corroding metallic wirings, etc., in a substrate surface, and can improve the cleanliness level of a substrate by surely removing particle and metal impurities which attach to a recess and a step part generated in a metal wiring.例文帳に追加

基板表面の金属配線等を腐食させることがなく、かつ金属不純物イオンの付着を防止可能であり、金属配線に生じる窪みや段部に付着したパーティクル及び金属不純物を確実に除去して基板の清浄度を向上可能な基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sensor structure of a semiconductor image sensor, which avoids poor connection and the reduction in reliability of connection, which are caused because a rear surface of a thinned semiconductor substrate is not flat, and furthermore avoids risks of destruction of the semiconductor substrate due to a sudden force apt to occur after a thinning step, and to provide a method for manufacturing the semiconductor image sensor.例文帳に追加

半導体イメージセンサにおいて、薄膜化された半導体基板の裏面が平坦でないため発生する接続不良や接続信頼性低下、さらには、薄膜化工程以後に発生しがちな突発的な力による半導体基板の破壊危険性を回避するセンサ構造とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass molding die where the occurrence of cracks when working is suppressed without increasing the wear of a bite and the collapse of the shape of a die surface in a step after working is suppressed and to provide a method for manufacturing a glass molding using the glass molding die.例文帳に追加

バイトの摩耗を増大させることなく、加工の際におけるクラックの発生を抑制すると共に、加工後の工程における金型面の形状の崩れを抑制することができるガラス成形用金型の製造方法、及び、該ガラス成形用金型を用いたガラス成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Paste prepared by mixing SiC, a liquid solvent, and a binder is applied to the electrode surface of a fuel cell electrode with a natural roll coater or the like (steps S1, S2, S3), and then smoothing treatment such as applying of the ultrasonic vibration, leaving to stand under humidified environment, or spraying the liquid solvent is conducted to the paste (step S4).例文帳に追加

ＳｉＣ、液体溶媒、バインダーを混合して形成したペーストを、ナチュラルロールコーター等により燃料電池電極の電極面に塗布した後（ステップＳ１，Ｓ２，Ｓ３）、その塗布後のペーストに超音波振動を与える、加湿環境下に放置する、液体溶媒を散布する等の平滑化処理を行う（ステップＳ４）。 - 特許庁

This method contains at least the resist pattern forming step in which after a resist pattern 3 is formed on a processing face 5, a resist pattern thickness increasing material 1 is applied so as to cover a surface of the resist pattern, whereby the thickness of the resist pattern is increased and the unwanted pattern formed together with the resist pattern is erased.例文帳に追加

被加工面５上にレジストパターン３を形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、レジストパターン厚肉化材料１を塗布することにより、該レジストパターンを厚肉化し、かつ該レジストパターンと共に形成された不要なパターンを消去するレジストパターン形成工程を少なくとも含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a surface acoustic wave device having an Al electrode containing 0.5 wt% or more of Cu density which is formed on the chip of the piezoelectric substrate comprises a step of treating a wafer having the Al electrode using water containing ozone.例文帳に追加

圧電性基板のチップ上に形成されたＣｕ濃度０．５ｗｔ％以上を含有するＡｌ電極を有する弾性表面波装置の製造方法において、オゾンを含有する水を用いて前記Ａｌ電極が形成されたウェハを水処理する工程を含む弾性表面波装置の製造方法。 - 特許庁

The method for ink jet recording includes a step of printing an ink jet recording material having at least one ink accepting layer on a support and having a layer disposed on the ink receiving layer and containing colloidal silica having a surface modified cationically at the farthest position from the support, as a main body, by using the pigment ink.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層のインク受容層を有し、該インク受容層の上に位置し、かつ前記支持体から最も遠い位置に、表面がカチオン性に修飾されたコロイダルシリカを主体に含有する層を有するインクジェット記録材料を顔料インクを用いて印字するインクジェット記録方法。 - 特許庁

The method for transferring the foreign gene to the plant by using the Agrobacterium involves a step for attaching the Agrobacterium having a vector incorporated with the foreign gene to the surface of the meristematic tissue of the shoot apex, and thereafter boring a plurality of fine holes in the site to which the Agrobacterium is attached.例文帳に追加

アグロバクテリウム菌を用いて植物へ外来遺伝子を導入する方法であって、外来遺伝子が組み込まれたベクターを保持するアグロバクテリウム菌を、植物の茎頂分裂組織の表面に付着させ、その後、アグロバクテリウム菌が付着した部位に複数の微小な孔を穿つ工程を含む植物への遺伝子導入法。 - 特許庁

Lens 1 molded in a mold 2 and taken out therefrom is annealed at a specified cooling rate in a specified temperature range determined by a resin material in an annealing step 10, thereby making a residual stress frozen inside of the lens 1 very small to prevent a shape of a transferred surface from being deteriorated.例文帳に追加

金型２内で成形加工して取り出したレンズ１に対して、徐冷工程１０で樹脂材料で定まる所定の温度範囲において所定の冷却速度で徐冷を行い、レンズ１の内部に凍結された残留応力を非常に小さくして転写面形状が劣化することを防ぐ。 - 特許庁

The toner is manufactured by a manufacturing method including a step of aggregating resin fine particles containing wax in a particle surface, wherein the toner has a relationship of 1,000≤Mw/A≤2,000, wherein Mw represents a weight average molecular weight of a tetrahydrofuran-soluble component in the resin fine particles, and A represents a wax content (wt.%).例文帳に追加

粒子表面にワックスを含有する樹脂微粒子を凝集させる工程を有するトナー製造方法により作製され、樹脂微粒子中のテトラヒドロフラン溶解成分の重量平均分子量をＭｗ、ワックス含有量をＡ（質量％）としたとき、１０００≦Ｍｗ／Ａ≦２０００の関係を有する。 - 特許庁

In the first step, a part of the outer peripheral surface of a porous sintered material 50 serving as the anode body is brought into contact with a liquid level 701a of chemical solution 701, and the chemical solution 701 is made to infiltrate into the plural holes existing in the porous sintered material 50, thereby chemically or electrochemically oxidizing the inner wall surfaces of the holes.例文帳に追加

そして、第１工程では、化成液701の液面701aに、陽極体となる多孔質焼結体50の外周面の一部を接触させて、該多孔質焼結体50内に存在する複数の孔へ化成液701を浸透させることにより、該孔の内壁面を化学的又は電気化学的に酸化させる。 - 特許庁

In the second step, the cold spray device 30 jets second copper powder 42 having a particle diameter R2 greater than the particle diameter R1 of the first copper powder, and smaller than a dimension V2 from the surface of the underlayer 21 to an interface between the aluminum film 12 and the silicon layer 11, and thereby a thick film layer 22 is formed overlaid on the underlayer 21.例文帳に追加

第２工程では、コールドスプレー装置３０が、第１銅粉末の粒径Ｒ１より大きく且つ下地層２１の表面からアルミ膜１２とシリコン層１１との境界面までの寸法Ｖ２より小さい粒径Ｒ２の第２銅粉末４２を噴射することにより下地層２１に重ねて厚膜層２２を形成する。 - 特許庁

A semiconductor chip 6 is soldered on the top surface of a lead terminal 3, a step 2aa formed by bending an auxiliary lead terminal 2 at a narrow part 2a is soldered to the upper electrode of the semiconductor chip 6 avoiding coming into contact with the oxide film of the semiconductor chip 6, and the auxiliary lead terminal 2 is soldered to a lead terminal 4.例文帳に追加

リード端子３の上面に半導体チップ６を半田付けし、補助リード端子２を狭幅部２ａにおいて屈曲させて形成した段差部２ａａを、半導体チップ６の酸化膜との接触を避けつつ、半導体チップ６の上面電極に半田付けし、補助リード端子２をリード端子４と半田付けする - 特許庁

The method for producing a protective film to be adhered to a polyvinyl alcohol-based polarizer via an adhesive layer comprises a step of saponifying a laminated body, having a hard coat layer containing silica particles with median diameter ranging from 30-300 nm on the outermost layer on one surface of a transparent substrate.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系の偏光子に、接着剤層を介して貼合される保護フィルムの製造方法であって、 透明基材の一方の面の最外層に、メジアン径が３０〜３００ｎｍの範囲内のシリカ粒子を含有するハードコート層を有する積層体を、ケン化処理する工程を含む保護フィルムの製造方法。 - 特許庁

And a laminate comprising at least two substrates contacting with the reaction product of at least one multi-functional Michael donor and at least one multi-functional Michael acceptor is provided, wherein at least one reaction promotor is existing on the surface of the above-mentioned at least one substrate before the lamination step.例文帳に追加

また、少なくとも１つの多官能性マイケルドナー、および少なくとも１つの多官能性マイケルアクセプターの反応生成物と接触する少なくとも２つの基体を含み、ここで、少なくとも１つの反応促進剤が、ラミネーション工程の前に、前記少なくとも１つの基体の表面に存在している、ラミネートも提供される。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a preheating step of heating the surface of a silicon layer during formation of a metal film, when the metal film is formed on the silicon layer and then the silicon layer is heated to make the metal film react with the silicon layer and to form the silicide layer on the silicon layer.例文帳に追加

シリコン層の表面に金属膜を形成し、次いで、このシリコン層を加熱して金属膜とシリコン層とを反応させ、シリコン層の表面にシリサイド層に形成するに際し、金属膜の形成時にシリコン層の表面を加熱する前加熱工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An antireflection film 22 comprising a film of magnesium fluoride (MgF2) is formed on the surface of a BO lens and six linear grooves each having a width of 0.1 mm and a depth of about 0.5 μm which is about equal to the depth of a step in a BO element are provided radially from the center to the outer periphery of the BO lens 1.例文帳に追加

このＢＯレンズ１の表面に、弗ッ化マグネシウム（ＭｇＦ_2 ）膜から成る反射防止膜２２が成膜され、更にＢＯレンズ１の中央部から外周部に向かって、放射状に幅０．１ｍｍ、深さはＢＯ素子の段差と同程度の深さ約０．５μｍの６本の直線状の溝２３が設けられている。 - 特許庁

To provide a device and a method for removing a sterile liquid wherein a sterile liquid remaining on a step defined by a sealing tape and a web on the inner surface of a container in a planar web of a packaging material, to the edge of which a sealing tape is welded, can be easily removed and dried.例文帳に追加

側端部にシーリングテープを融着した板状の包装材料ウエブにおける、シーリングテープと容器内面側となるウエブにより形成される段差部分に残留している滅菌液の除去・乾燥を容易に行うことができる滅菌液除去装置や滅菌液の除去方法を提供すること。 - 特許庁

The oscillating cam is formed in a slender raindrop shape, and has lamp sections 42b and 43b having long travel distance rolling and contacting with first and second follower surfaces 35a and 35b, and a stopper member 39 that abuts on a step surface 36b of the bracket if necessary and regulates over turning of the oscillating cam, is fixed to the end of the cam shaft.例文帳に追加

この揺動カムは、細長い雨滴状に形成されて、第１，第２フォロア面３５ａ、３５ｂに対して転接するトラベル量の長いランプ部４２ｂ、４３ｂを有していると共に、前記カム軸の端部にブラケットの段差面３６ｂに適宜当接して揺動カムの過回動を規制するストッパ部材３９が固定されている。 - 特許庁

There is provided a welding method having a welding step of achieving the MAG welding of steels 2 butted to each other, wherein the steels 2 are subjected to MAG welding in such a manner that the surface tension estimated value γ of weld metal expressed by expression (1) is ≥1.26, and satisfies expression (2).例文帳に追加

鋼材２同士を互いに突き合わせてＭＡＧ溶接する溶接工程を有する溶接方法であって、溶接工程の際、（１）式で示される溶接金属の表面張力推定値γが、１．２６以上で、かつ（２）式を満たすように鋼材２同士をＭＡＧ溶接する溶接方法を提供する。 - 特許庁

In the sensor substrate 1, a step is formed between a first region where the thermal infrared radiation detection section 13 is formed and a second region where a first metallic layer 19 for electric connection and a first metallic layer 18 for sealing are formed on an insulation layer of a first semiconductor substrate 10 at a main surface side.例文帳に追加

センサ基板１は、第１の半導体基板１０の主表面側の絶縁層において熱型赤外線検出部１３が形成された第１の領域と第１の電気接続用金属層１９および第１の封止用金属層１８が形成された第２の領域との間に段差が形成されている。 - 特許庁

In this flow control valve 1, a cylindrical opening part 43 at the tip 34 thereof is used as an inflow port, one sheet of disk-like strainer 20 is fixed to the step part 15 of the opening part by crimping the outer peripheral surface 21 with an opening part member 16 so that the center part 22 of the strainer can be deflected by a crimping force toward an inflow direction.例文帳に追加

円筒状の先端３４の開口部４３を流入ポートとする流体制御弁１であって、開口部の段付部１５に一枚円板のストレーナ２０をその外周周面２１で開口部部材１６でかしめ、このかしめ力によりストレーナの中央部２２が流入方向に向かってたわむようにする。 - 特許庁

The pinball game machine 10 is provided with a step part 237 on a rear sliding surface 236B of the advance/retreat member 230.例文帳に追加

本発明のパチンコ遊技機１０は、進退ガイド部材２３０の後側摺接面２３６Ｂに段差部２３７を設け、サイド始動入賞口４０Ａの前方に引っ張られた場合に、シーソー部材２５５の下端部に備えた下端連結凸部２５５が段差部２３７のストッパ当接面２３７Ｓに当接して下端連結凸部２５５の摺動を禁止する。 - 特許庁

A drawing portion 19 recessed or projecting from the other face by press molding is formed on a part of an outer surface of a face material 7 composed of a thin steel plate forming an outer hull of a main body 1, in a state that slot-shaped slits 21, 21' are formed approximately in parallel with a drawing step portion 20 near the drawing portion.例文帳に追加

本体１の外郭を形成する薄鋼板からなる面材７の外表面の一部に、プレス成形にて他の面から凹陥あるいは膨出する絞り成形部19を施すものにおいて、前記絞り成形部の近傍における絞り成形段部20とほぼ平行に長孔状のスリット21、21′を穿設したことを特徴とする。 - 特許庁

In a step of removing a resist layer formed on an electrode material layer, ashing using gas containing at least fluorine is carried out, and after the ashing, ashes of at least the resist layer formed on the surface of the electrode material layer, or a compound of the electrode material layer is removed.例文帳に追加

電極材料層上に形成されたレジスト層を除去する工程において、少なくともフッ素を含むガスを用いたアッシングを行い、該アッシング後に、前記電極材料層表面に形成された、少なくとも前記レジスト層の灰化物もしくは前記電極材料層の化合物のいずれかを除去する。 - 特許庁

Then, the silicon substrate is subjected to anodic oxidation in an electrolyte containing hydrofluoric acid in a porous area formation step, thereby a porous silicon area is selectively formed in an area surrounding the partial area and a surface thin film developing various colors is formed between the porous silicon area and the mask thin film.例文帳に追加

そして、シリコン基板は、多孔質領域形成工程において、弗酸を含有する電解液中で陽極酸化されることにより、一部領域を含む周囲領域に選択的に多孔質シリコン領域が形成され、多孔質シリコン領域とマスク薄膜との間に多彩な発色を示す表面薄膜が形成される。 - 特許庁

Thereafter, the minimum inter-data distance of a data group after the thinning out processing of the arrangement condition of the data remaining after the thinning out processing or the like is calculated as an evaluation index (step S4), the thinning out processing is continued or the thinning out processing is discontinued on the basis of the evaluation index, and the curved surface model is generated by using the processed data.例文帳に追加

その後、間引き処理後に残ったデータの配置具合の間引き処理後のデータ群の最小データ間距離等を評価指標として算出し（ステップＳ４）、この評価指標に基づき、間引き処理を継続するか、間引き処理を打ち切り、処理済みのデータを使用して曲面モデルの生成をする。 - 特許庁

The method for manufacturing the nut comprises thickness increasing steps (a) to (c) for increasing the thickness of a metallic material 10 around a through-hole 11 formed therein by enlarging the diameter of the through-hole 11 by press work, and a female screw forming step for forming a female screw on the inside peripheral surface of the through-hole 11 enlarged in the thickness increasing steps.例文帳に追加

貫通孔１１を有する金属素材１０の前記貫通孔１１をプレス加工によって拡径させることで該貫通孔１１の周囲の部分の厚さを増加させる増厚工程（ａ）〜（ｃ）と、該増厚工程にて拡径された貫通孔１１の内周面に雌ネジを形成する雌ネジ形成工程とを備える。 - 特許庁

To provide a hot dip galvanized steel which has high corrosion resistance and has excellent plating adhesion upon working by optimizing the structure of a plating layer in a two step plating process where the surface of a steel is subjected to hot dip galvanizing, and is thereafter subjected to hot dip Zn-Al-Mg alloy coating, and to provide a method for producing the hot dip galvanized steel.例文帳に追加

鋼材表面に溶融亜鉛めっきを施した後、溶融Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっきを行う２段めっき方法において、めっき層の構造を最適化することにより、高耐食性を有し、加工時のめっき密着性に優れた溶融亜鉛めっき鋼材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The production process comprises a step to form a first area comprising an inorganic material on a substrate precursor so as to form the substrate, wherein at least a part of the inorganic material is exposed on the surface of the substrate, and the first area makes a pattern on the substrate precursor.例文帳に追加

当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide coating techniques with excellent thickness accuracy of a coating resin to solve problems of workability, work time, and unnecessary plate making material occurring when a liquid photosensitive resin is applied to form an outermost surface layer of a printing plate according to an image area in a forming step for manufacturing a liquid photosensitive resin multilayer flexographic printing plate having different resin compositions selectively deposited on the outermost surface portion of the printing plate.例文帳に追加

印刷版最表面層部分に異なる樹脂組成物が選択的に配置された液状感光性樹脂多層化フレキソ印刷版を製造するための成型工程において、画像領域に応じて印刷版最表面層部分を成す液状感光性樹脂を塗工する際に生じる作業性、作業時間、不要な製版資材の問題を解消する、塗工樹脂の厚み精度に優れた塗工技術の提供。 - 特許庁

Substances which are supplied to a portion to be laser irradiated and its peripheral part through an atmosphere around illuminated laser light during laser irradiation in the marking step, and which generate minute surface roughness generated on the surface of a concavity by forming the concavity by laser irradiation are eliminated from the portion to be laser irradiated and its peripheral part, and marking by laser irradiation is carried out in this state.例文帳に追加

前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor having the photosensitive layer and the surface layer at the least on an electroconductive support in this order includes a step of irradiating the surface layer, which includes a curable substance to be cured by irradiation of an active energy ray, with the active energy ray having the width X of 2 mm≤X≤20 mm as that of irradiation light to cure the curable substance.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体の製造方法において、前記表面層は活性エネルギー線を照射することより硬化する硬化性物質を含み、照射光の幅Ｘが２ｍｍ≦Ｘ≦２０ｍｍである前記活性エネルギー線を前記表面層に照射し、前記硬化性物質を硬化させることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing an ocular lens material includes a step of reacting and covalently bonding a compound having a phosphorylcholine group expressed by the formula with the surface of an ocular lens material, wherein a compound, having a terminal amino group is introduced into the surface of the ocular lens material and then a compound containing a specified phosphorylcholine group, is introduced thereinto through the compound having the terminal amino group.例文帳に追加

眼用レンズ材料の表面に、下記式で示すホスホリルコリン基を有する化合物を反応させて共有結合させる工程を有する眼用レンズ材料の製造方法において、末端アミノ基を有する化合物を眼用レンズ材料の表面に導入し、次に、特定のホスホリルコリン基含有化合物を前記末端アミノ基を有する化合物を介して導入することを特徴とする眼用レンズ材料の製造方法。 - 特許庁

However, the inventive step of the claimed invention derived from the cited inventions is not denied when applicants sufficiently assert or prove the circumstances by which connecting the arts provided in the cited inventions 1 and 2 are hindered. For example, it is commonly known that carbon disk brakes are free from a problem of attachment of dust on the surface, which is a different point from metal disk brakes, and providing grooves on the surface of the carbon disk brakes to remove dust is an improbable idea. 例文帳に追加

ただし、出願人が引用発明1と引用発明2の技術を結び付けることを妨げる事情(例えば、カーボン製のディスクブレーキには、金属製のそれのような埃の付着の問題がないことが技術常識であって、埃除去の目的でカーボン製ディスクブレーキに溝を設けることは考えられない等)を十分主張・立証したときは、引用発明からは本願発明の進歩性を否定できない。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming patterns MK having a step with respect to a primary surface of a semiconductor substrate SUB, on the primary surface; forming a first semiconductor layer PS1 containing a semiconductor material above the patterns MK; forming a second semiconductor layer PS2 containing a semiconductor material above the first semiconductor layer PS1; and forming resist patterns RS above the second semiconductor layer PS2.例文帳に追加

半導体基板ＳＵＢの主表面上に、主表面に対して段差を有するパターンＭＫが形成される工程と、パターンＭＫ上に、半導体材料を含む第１の半導体層ＰＳ１が形成される工程と、第１の半導体層ＰＳ１上に、半導体材料を含む第２の半導体層ＰＳ２が形成される工程と、第２の半導体層ＰＳ２上にレジストパターンＲＳが形成される工程とを備えている。 - 特許庁

A method of manufacturing the ceramic package formed by dividing a ceramic substrate which is obtained by stacking an uncalcinated ceramics and firing the stacked ceramics, according to a groove formed in a prescribed pattern, includes a step of dividing the ceramic substrate while applying bending moment with a principal surface of the ceramic substrate as a point of action, and also applying drawing moment in a direction parallel to the principal surface.例文帳に追加

本発明にかかるセラミックパッケージの製造方法は、未焼成セラミックを積層し焼成して得たセラミック基板を所定のパターンに形成された溝に従って分割することによりパッケージとするセラミックパッケージの製造方法であって、セラミック基板の主面を作用点とし、曲げモーメントを加えるとともに、主面に平行な方向に引っ張りモーメントを加えながらセラミック基板を分割する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In this case, the method also includes a step to apply plasma dry etching surface treatment to the exposed polyimide surface of the film substrate 1 made of polyimide resin that is not covered with the wiring pattern 6 after the wiring pattern 6 is formed.例文帳に追加

ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１上にシード層２を形成してなる基板の表面に配線パターン６を形成する工程と、前記配線パターン６の表面にめっき層７を形成する工程とを有する半導体装置用テープキャリアの製造方法であって、前記配線パターン６を形成した後、当該配線パターン６で覆われておらず露出している部分の前記ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１のポリイミド表面にプラズマドライエッチング表面処理を施す工程を含んでいる。 - 特許庁

In manufacturing the aluminum material for electrolytic capacitor electrodes by sequentially subjecting the aluminum material to cold rolling, intermediate rolling, finish cold rolling, and final annealing, the intermediate rolling is conducted in an oxidative atmosphere and the surface layer of the aluminum material is removed by washing in a step after the intermediate rolling and before the final annealing.例文帳に追加

アルミニウム材に冷間圧延、中間焼鈍、仕上げ冷間圧延、最終焼鈍を順次実施して電解コンデンサ電極用アルミニウム材を製造するに際し、前記中間焼鈍を酸化性雰囲気中で行い、かつ中間焼鈍より後であって最終焼鈍より前の工程においてアルミニウム材表面層を洗浄により除去する。 - 特許庁

Provided is the bifocal lens for presbyopia correction characterized in that the lens comprises the base lens A1 and small lens A2 embedded therein and an eyeball-side two-lens joint part A3 has a surface which is vertically smooth and continuous and is joined to a horizontal joint part A3 with a step.例文帳に追加

台玉レンズＡ１とその一部にはめ込まれた小玉レンズＡ２からなるレンズにおいて、眼球側の該二つのレンズ接合部Ａ３の表面形状が垂直方向に滑らかな連続性を保ち、かつ水平方向の接合部Ａ３に対して段差をもち結合されて構成されることを特徴とする老視矯正用二重焦点レンズにより達成される。 - 特許庁

The method for preparing a modified polyisocyanate by carbodiimidizing a polyisocyanate using a phospholine catalyst is characterized by comprising a step of terminating the carbodiimidizing reaction by adsorbing and inactivating the phospholine catalyst by virtue of silicon dioxide particles having a specific surface area of at least 400 m^2/g and an oil absorption capacity of at least 180 ml/100 g.例文帳に追加

ホスホリン系触媒を用いて有機ポリイソシアネートをカルボジイミド化する変性ポリイソシアネートの製造方法において、比表面積が少なくとも４００ｍ^２／ｇで吸油量が少なくとも１８０ｍｌ／１００ｇの二酸化珪素粒子を使用することで触媒を吸着不活性化しカルボジイミド化反応を停止させる方法を提供する。 - 特許庁

When forming a sensor region by n-type ion implantation onto a silicon substrate and then providing an HAD structure by p-type ion implantation onto a surface of the sensor region, the step of p-type ion implantation is divided into multiple times and before or after sidewall formation of a transfer gate electrode, a p-type ion is implanted into the gate electrode by self-alignment with an approximately half concentration.例文帳に追加

シリコン基板にｎ型イオン注入でセンサ領域を形成後、センサ領域の表面にｐ型イオンを注入してＨＡＤ化を行う際に、ｐ型のイオン注入の工程を複数回に分け、転送ゲート電極のサイドウォール形成前後に、それぞれ約半分程度の濃度でｐ型イオンをゲート電極にセルフアラインで注入する。 - 特許庁

The base paper for the release paper comprises a carbonate or a phosphate of an alkali metal, preferably a salt having ≤10.0 pKa in an aqueous solution at 25°C in an amount of 0.03-1.0 g/m^2 expressed in terms of solids on at least one surface of the base paper formed by using pulp bleached without using elemental chlorine in a bleaching step during production.例文帳に追加

製造時の漂白工程において元素状塩素を使用せずに漂白したパルプを用いて抄紙した原紙の少なくとも片面に、アルカリ金属の炭酸塩もしくはリン酸塩、好ましくは、２５℃水溶液におけるｐＫａが１０．０以下である塩を固形分として０．０３〜１．０ｇ／ｍ^2含有している剥離紙用原紙。 - 特許庁

A power chip lead frame 2a is arranged approximately parallel to an integrated circuit chip lead frame 2c via a lead step 2e to a power chip lead terminal 2b, and the rear of the power chip lead frame 2a is closer to the outer surface of mold resin 12 than the rear of the integrated circuit chip lead frame 2c, whereon an integrated circuit chip 6 is mounted.例文帳に追加

パワーチップ用リードフレーム２ａは、パワーチップ側リード端子２ｂとはリード段差部２ｅを介して集積回路チップ用リードフレーム２ｃと略平行に配置され、パワーチップ用リードフレーム２ａの裏面が、集積回路チップ６が搭載された集積回路チップ用リードフレーム２ｃの裏面よりもモールド樹脂１２の外面に接近している。 - 特許庁

The resistance force against turning operation of the feed adjusting body 9 around a shaft is applied by making the pressure spring 10a abut on the outer peripheral surface of the collar 90 without any regard for wear, so that the step-out and dumping of a pulse motor 7 is prevented to allow a continuous stable high-speed operation of the sewing machine.例文帳に追加

送り調節体９の軸周りの回動動作に対する抵抗力は、加圧ばね１０ａをカラー９０の外周面に当接させることにより磨耗を考慮することなくを作用させることができるため、パルスモータ７の脱調及びダンピングを防止することができ、ミシンの安定した高速運転が継続的に可能となる。 - 特許庁