「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

At this time, information on the filter array, etc., of a sensor necessary for interpolation, setting information on color balance, an outline emphasis degree, image side, compressibility, etc., color temperature information obtained by a colorimetry means of the silver camera, information necessary for general image formation, etc., are also transmitted for processing on the image storage device side.例文帳に追加

その際、補間に必要なセンサのフィルタ配列などの情報、カラーバランス、輪郭強調度合い、画像サイズ、圧縮率などの設定情報、銀塩カメラの測色手段で得られる色温度情報、汎用画像作成に必要な情報なども画像蓄積装置側での処理のため送信する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the heat-resistant thermoplastic resin film with a glass transition temperature of 160°C or higher, foreign matter contained in a resin raw material or formed at the time of molding processing is removed by a filter wherein the intermediate pore size of a filter medium calculated by a bubble point pressure measuring method is 1-10 μm.例文帳に追加

樹脂原料に含まれるか、成形加工時に生成される異物をバブルポイント圧測定法で求めたフィルターメディアの中間孔径が１〜１０μｍであるフィルターで除去するガラス転移温度が１６０℃以上の耐熱性熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。 - 特許庁

The data analyzing apparatus 1 comprises an image capturing part 5 for capturing thermal images of a biological surface in the form of moving images and a data processing part 7 for detecting the transition of changes in the temperature of the biological surface from the moving image of the thermal images captured by the image capturing part 5 to analyze the sweating status of a living body.例文帳に追加

データ解析装置１に、生体表面の熱画像を動画で撮影する画像撮影部５と、画像撮影部５により撮影された熱画像の動画から生体表面の温度変化の推移を検出して生体の発汗状況を解析するデータ処理部７とを設ける。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having high initial adhesion power to fix an adherend strongly, and easily peeling off by irradiating a light even after a high-temperature processing of 200°C or more, and to provide an adhesive tape using the adhesive composition.例文帳に追加

高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、２００℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープを提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment equipment which is capable of preventing ions from diffusing by heating a substrate, up to a processing temperature in a short time and making the substrate undergo a thermal treatment stably, even if a flash radiated from a flash heating means changes in light quantity.例文帳に追加

基板を短時間に処理温度まで昇温させることによりイオンの拡散を防止することができ、また、フラッシュ加熱手段から出射される閃光の光量に変化が生じた場合においても基板を安定して熱処理することが可能な熱処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a treating agent for synthetic fibers which deals with speed-up and temperature rise in a spinning process and a processing process of synthetic fiber today and sufficiently controls generation of static electricity and deposition of tar-like substances on a heating body, and to provide a method for treating synthetic fibers.例文帳に追加

近年における合成繊維の紡糸工程や加工工程での高速化及び高温度化にも対応して、静電気の発生や加熱体上へのタール状物質の付着を充分に抑制できる合成繊維用処理剤及び合成繊維の処理方法を提供する。 - 特許庁

In a control unit separate from the sensor chip 6, there are provided an A/D conversion circuit 50 (51) for converting the analog output of the Hall element output via the amplifying circuit into a digital signal and a digital processing circuit 54 (55) for performing the temperature compensation and zero-span adjustment of the Hall element on a digital basis.例文帳に追加

センサチップ６と別体のコントロールユニットに、前記増幅回路を介して出力されるホール素子のアナログ出力をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換回路５０（５１）と、ホール素子の温度補償及び零スパン調整をデジタル的に行うデジタル処理回路５４（５５）とを設けた。 - 特許庁

To provide a drawing and ironing can coating film which can be used as a laminate film for two-piece can, is excellent in molding processing in can manufacturing and is excellent in impact resistance upon low-temperature storage and upon transferring, to provide a film laminate metal plate and ironing can coating film, and to provide a film laminate metal container.例文帳に追加

２ピース缶用のラミネートフイルムとして適用できる、製缶における成形加工性に優れかつ低温保管時や移送時の耐衝撃性に優れた絞りしごき缶被覆用フイルム、フイルムラミネート金属板及びフイルムラミネート金属容器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a processing liquid which is excellent in safety, sanitation and economical efficiency and which can efficiently process carbon material/acid anhydride-curing epoxy resin composite material at or below temperature necessary for usual pyrolysis, thereby reutilizing the carbon material and a resin cured material.例文帳に追加

安全衛生上および経済性に優れ、なおかつ通常熱分解に必要とされる温度以下で効率的に炭素材料／酸無水物硬化エポキシ樹脂複合材料を処理することのできる処理液を提供することで、炭素材料と樹脂硬化物を再利用する。 - 特許庁

To provide catalytic combustion equipment for lengthening the service life of a catalyst, and always performing processing of combustible organic compound at an optimal reaction temperature while sufficiently purifying the combustible organic compound by easily monitoring a purification state of the combustible organic compound.例文帳に追加

可燃性有機化合物の浄化状態を簡易にモニタリングし、可燃性有機化合物を十分に浄化しつつ触媒の高寿命化を図ることができる最適反応温度で可燃性有機化合物の処理を常時行うことが可能な触媒燃焼装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low fog and high Dmax (maximum density), less liable to increase fog even after long-term storage and after short-term storage at high temperature and less liable to increase fog even after long-term storage after processing.例文帳に追加

カブリが低く、Ｄｍａｘ（最高濃度）が高く、かつ感光材料を長期間保管したり、高温で短期間保管したりしてもカブリの上昇が少なく、さらに処理後の感光材料を長期間保管してもカブリの上昇が少ない熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To obtain a conductive ink composition with a high PCT resistance variance magnification, excellent processability, and excellent mechanical property or durable stability after processing together with a plane heating element that is not destroyed with an abrupt temperature change, and maintains its mechanical and electrical properties stably for a long time.例文帳に追加

ＰＣＴ抵抗変化倍率が高く、加工性に優れ、かつ加工後の機械的特性や長期安定性に優れた導電性インキ組成物を得、急激な温度変化においても破損することがなく、その機械的特性、電気的特性が長期に安定して保たれる面状発熱体を得る。 - 特許庁

In a method for heating and/or drying a flowable bulk material, synthetic resin granule in particular, wherein the material is supplied to a processing machine, an injection molding machine in particular, a high- temperature air flow 18 runs through transversely to the flowing direction of the flowable bulk material.例文帳に追加

ばら物が加工機械、特に射出成形機に供給される、流動可能なばら物、特に合成樹脂顆粒を加熱およびまたは乾燥するための方法において、高温空気流１８は流動するばら物４をその流動方向に対して横方向に流通する。 - 特許庁

The image processing part 30 then detects whether or not the pedestrian is detected, ends pedestrian detection since there is no decline in contrast in the affirmative judgement, and detects the pedestrian on the basis of the thermal image of the substrate temperature Tb (Tb<Ta, for instance) in the negative judgement.例文帳に追加

そして、画像処理部３０は、歩行者を検出できたか否かを検出し、肯定判定のときはコントラストの低下がなかったので歩行者検出を終了し、否定判定のときは基板温度Ｔｂ（例えばＴｂ＜Ｔａ）の熱画像に基づいて歩行者を検出する。 - 特許庁

In the processing method of optical element, compression forming is performed by using a free curved plane die having the surface roughness Ra ≤6 nm and the shape precision PV ≤1 μm in the superplasticity flow temperature region of the amorphous metal thin film and the surface roughness and shape precision of the free curved plane die is applied.例文帳に追加

加工方法において、非晶質金属薄膜の超塑性流動温度域で、面粗度Ｒａ≦６ｎｍ及び形状精度ＰＶ≦１μｍ以下の自由曲面型を用いて圧縮成形し、自由曲面型の表面粗度及び形状精度を付与させる。 - 特許庁

The surface of a fuel cell separator material A produced by subjecting a material consisting of graphite powder and a resin to a molding process or machining is contacted with flames B from a burner C and subjected to a flame processing at a temperature of 500-1200°C for a period between 0.5-30 sec so that the fuel cell separator equipped with hydrophilic property is accomplished.例文帳に追加

黒鉛粉と樹脂からなる材料を成形又は機械加工をして得られる燃料電池セパレータ材Aの表面を、バーナCからの火炎Bと接触させて500〜1200℃の火炎温度で、0.5〜30 secの処理時間でフレーム処理することにより親水性が付与された燃料電池セパレータとする。 - 特許庁

After a source region, a drain region, and a channel region are formed by doping a dopant to a polysilicon film and activating the dopant by heat treatment, a substrate temperature is maintained within a range of 350°C to 420°C, and a substrate is exposed to hydrogen gas plasma for a processing time of 3 to 60 minutes.例文帳に追加

ポリシリコン膜にドーパントを注入し、加熱処理によって注入したドーパントを活性化し、ソース領域及びドレイン領域、及びチャネル領域を形成した後、基板温度を、３５０℃〜４２０℃の範囲内に保って、３分〜６０分の処理時間、基板を水素ガスによるプラズマに晒す。 - 特許庁

To provide acceleration electrode structure, which prevents adhering of an insulating substance to an acceleration electrode when processing a high temperature insulation substance, and stabilizes acceleration of an electron beam for a long time, in electron beam excitation plasma generating equipment, which has the acceleration electrode installed in a process room.例文帳に追加

プロセス室内に加速電極を設置した電子ビーム励起プラズマ発生装置において、高温絶縁性物質の処理を行うときに加速電極に絶縁性物質が付着することを防ぎ電子ビームの加速を長時間安定化する加速電極構造を提供する。 - 特許庁

A sensitivity correction standard 110 is designed to radiate three or more infrared rays each having uniform reference temperature, a multi pixel infrared detector 130 is designed to perform photoelectric conversion after detecting an infrared ray, and an sensitivity correction processing unit 140 is designed to perform sensitivity correction and the determination of the defective pixel using three or more electronic signals.例文帳に追加

感度補正基準１１０が３つ以上の均一な基準温度の赤外線を放射し、多画素赤外線検知器１３０が赤外線を検知して光電変換を行い、感度補正処理部１４０が３つ以上の電気信号を用いて感度補正および欠陥画素判定を行う。 - 特許庁

The inside of an interface station S3 located between a processing station S2, at which a development process is carried out and an exposure system S4 is cooled down to a temperature of 10 to 15°C at which a resolution reaction hardly proceeds, and a heating section 31 promoting a resolution reaction in resist is provided inside the interface station S3.例文帳に追加

現像処理等を行う処理ステ−ションＳ２と露光装置Ｓ４との間のインターフェイスステーションＳ３内をレジストの解像反応の進行を抑える程度の温度例えば１０〜１５℃程度に冷却すると共に、ここにレジストの解像反応を促進させる加熱部３１を設ける。 - 特許庁

To equalize heating temperature in the peripheral direction of a substrate to be processed, and effect uniform processing for the substrate to be processed by a method wherein, in a single wafer heater, a container housing to be processed is made to have the same degree of insertion port of the substrate as the inner peripheral face, excluding it in the degree of heat absorption.例文帳に追加

枚葉式の加熱装置において、被処理基板を収納する容器の、基板挿入口とそれを除く内周面との熱吸収度を同程度にすることによって、被処理基板の周方向での加熱温度を等しくし、被処理基板に対して均一な処理を行うこと。 - 特許庁

The failure diagnosing device is equipped witch a measuring device 40 having at least a first to a third temperature sensor and a rate-of-flow sensor and an analytical processing device 43 to specify the rate-of-flow varying factor of a seal fluid and perform judgement whether any failure exists in the seal.例文帳に追加

また、異常診断装置においては、少なくとも第１〜第３の温度センサ及び流量センサを有する測定装置４０と、シール流体の流量変動要因の特定及び漏洩限定型軸シールの異常有無の判定を行う解析処理装置４３とを備えた構成を採用した。 - 特許庁

Before start of a process for supplying the ultraviolet light and the ozone-containing gas to the substrate 10, the ozone-containing gas is introduced intermittently into the ozone processing furnace 2, and the temperature of the substrate 10 before start of the process is detected based on the ozone concentration measured by the ozone concentration measuring part 3 in each introduction.例文帳に追加

基板１０に紫外光及びオゾン含有ガスを供するプロセスの開始前にオゾン処理炉２はオゾン含有ガスを間欠的に導入し、この導入毎にオゾン濃度測定部３によって測定されたオゾン濃度に基づきプロセス開始前の基板１０の温度を検出する。 - 特許庁

The actual valve clearance quantity can be estimated in response to an operation condition by calculating the actual valve clearance quantity by being associated with the exhaust gas temperature just after being exhausted from a combustion chamber, and an arithmetic operation load and memory capacity can also be reduced by simplifying arithmetic processing.例文帳に追加

燃焼室から排出されて直ぐの排気ガス温度に関連付けて実バルブクリアランス量を算出することにより、運転条件に応じた実バルブクリアランス量の推定を可能とし、さらに、演算処理を簡略化して演算負荷及びメモリ容量の軽減を実現することができる。 - 特許庁

To provide a piezo-electric vibrator and its manufacturing method that can realize structural processing of a piezo-electric substrate required for energy confinement with high accuracy, excellent reproducibility and most suitable mass-productivity and prevent such problems as dispersion in resonance characteristics, temperature characteristics of frequency and equivalent circuit constants of the piezo-electric vibrator due to deterioration in chamfering processing size accuracy of a small-sized piezo-electric substrate.例文帳に追加

小型の圧電基板の面取り加工寸法精度の低下による圧電振動子の共振特性や周波数温度特性のバラツキ、等価回路定数値のバラツキ等の問題を防止することを可能とするエネルギー閉じ込めに必要な圧電基板の構造的な加工を高精度に再現性良く実現し、且つ、量産においても好適な圧電振動子及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A protective film 107 of a carbon polymer is formed on a sidewall of a polysilicon film 105 with plasma containing carbon after the polysilicon film 105 is etched to prevent side etching and sidewall roughening of the polysilicon film 105 even when the metal material 104 forming a lower-layer film is subjected to etching processing with plasma of halogen-based gas under etching conditions of volatility increased by keeping a wafer at higher temperature and processing pressure lower.例文帳に追加

ポリシリコン膜１０５をエッチングした後に、カーボンを含むプラズマによりポリシリコン膜１０５の側壁にカーボンポリマの保護膜１０７を形成させることで、ウェハの高温化や処理圧力の低圧力化により揮発性をあげたエッチング条件下で、ハロゲン系ガスのプラズマにより下層膜である金属材料１０４のエッチング処理を行っても、ポリシリコン膜１０５のサイドエッチ及び側壁荒れを防止することができる。 - 特許庁

The processing method for the radioactive waste liquid containing phosphate ester includes an oxidative decomposition processing process of adding a solution containing copper salt capable of producing copper ions or copper ions produced from copper salt and hydrogen peroxide to the radioactive waste liquid, and oxidatively decomposing the phosphate ester within a temperature range of 20-60°C in the presence of the copper ions produced from the copper salt.例文帳に追加

本発明の放射性廃液の処理方法は、リン酸エステルを含む放射性廃液の処理方法であって、前記放射性廃液に、銅イオンを生成し得る銅塩または銅塩から生成した銅イオンを含む溶液と過酸化水素とを添加し、前記銅塩から生成した銅イオンの存在下、２０〜６０℃の温度範囲で、前記リン酸エステルを酸化分解する酸化分解処理工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The processing circuit 50 has a coil voltage detection circuit 59 for detecting the magnet temperature correlation value correlated to the temperature of the magnet 40, a first inversion amplifier 64 for correcting the voltage generated in the coil 41 by the operation of the needle valve 36 based on the correlation value detected by the circuit 59, and an integrator 56 for detecting the operational state of the needle valve 36 from the voltage corrected by the amplifier 64.例文帳に追加

処理回路５０には、磁石４０の温度に相関する磁石温度相関値を検出するコイル電圧検出回路５９と、この回路５９にて検出された当該相関値に基づいてニードル弁３６が動作することによりコイル４１に発生する電圧を補正する第一反転増幅器６４と、この増幅器６４にて補正された電圧からニードル弁３６の動作状態を検出する積分器５６とが設けられる。 - 特許庁

The manufacturing process of the carbon nanotube-containing structure comprises the step of applying, on at least one surface of the base material, the carbon nanotube-containing composition containing the carbon nanotube (a), the urethane compound (b), and the granular substance (c), and a step of irradiating with an active energy beam and/or leaving at an ordinary temperature or heat processing.例文帳に追加

基材の少なくとも一つの面上に、カーボンナノチューブ（ａ）と、ウレタン化合物（ｂ）と、粒状物質（ｃ）とを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を塗工し、活性エネルギー線を照射及び／または常温で放置、もしくは加熱処理することを特徴とするカーボンナノチューブ含有構造体の製造方法。 - 特許庁

To provide a film formation apparatus and a film formation method which can prevent temperature rise caused by a housing frame, pipelines or the like heated due to a magnetic field generated by coils, reduce a leakage field leaking to the outside of the apparatus and reduce an installation area of the device, when performing film formation processing by induction heating.例文帳に追加

誘導加熱により成膜処理する際に、コイルが発生する磁界により、筐体のフレーム等又は配管等が加熱され、温度が上昇することを防止し、装置の外部に漏洩する漏れ磁界を低減し、装置の設置面積を低減することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

An organic resist material has not heat resistance, so that the metal sacrificial layer is previously formed, resist removal is performed before spatter of the shape memory alloy film, the metal sacrificial layer is removed after spatter and heat processing of the shape memory alloy performed at high temperature, and surplus shape memory alloy film is lifted off.例文帳に追加

有機系レジスト材は耐熱性がないことから、予め金属犠牲膜を形成し、形状記憶合金膜のスパッタ前にレジスト除去を行ない、高温下で行なわれる形状記憶合金のスパッタおよび熱処理後に金属犠牲膜を除去して、余剰の形状記憶合金膜をリフトオフする。 - 特許庁

When a printing state is a processing state such as printing quality adjustment, toner feeding operation or fixing temperature adjustment in which output is temporarily stopped during sheet output operation, a control part 90 sets an interval between sheets to be carried to a value shorter than an initial set value so as to compensate the stop period.例文帳に追加

制御部９０は、印字状態が用紙出力動作中に一時的に出力が停止する処理状態である場合、例えば、印字画質調整や、トナー補給動作、定着温度調整などの状態である場合には、その停止時間を補うように、搬送する用紙間の間隔を初期設定値より短くする。 - 特許庁

To provide an improved heat-developable image forming material, to put it concretely, a material ultrahigh in contrast and extremely small in change of photographic performances and fog due to fluctuation of developing time and temperature at the time of heat development and superior in stability in heat development processing and suitable for forming printing plates.例文帳に追加

改良された熱現像画像形成材料、より具体的には、超硬調で、かつ、熱現像時の現像温度および時間の変動などによる写真性能変化やカブリが極めて少なく熱現像処理安定性に優れた印刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材料を提供すること - 特許庁

To provide an improved heat-developable image forming material, to put it concretely, a material ultrahigh in contrast and extremely small in change of photographic performances and fog due to fluctuation of developing time and temperature at the time of heat development and superior in stability in heat development processing and suitable for forming printing plates.例文帳に追加

改良された熱現像画像形成材料、より具体的には、超硬調で、かつ、熱現像時の現像温度および時間の変動などによる写真性能変化やカブリが極めて少なく熱現像処理安定性に優れた印刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材料を提供すること。 - 特許庁

In the drying processing, the substrate W is thus heated while the high-temperature nitrogen gas is supplied to the substrate back surface Wb, so even if many steam components are present at a periphery of the substrate, no drop of water sticks on the substrate surface Wf and the substrate W is securely dried.例文帳に追加

このように乾燥処理の間、基板裏面Ｗｂに高温窒素ガスを供給して基板Ｗを加熱しているため、仮に基板の周辺に多量の水蒸気成分が存在していたとしても、基板表面Ｗｆに水滴は付着することなく、基板Ｗを確実に乾燥することができる。 - 特許庁

Detection precision and discrimination for a micro-wave type are enhanced since a threshold value is set not to affect a comparison result even when the output of the FM detection circuit 8 is varied by the temperature of the circuit 8 in the case where the output of the circuit 8 is compared with the threshold value in a detection-processing process.例文帳に追加

すると、ＦＭ検波回路８の出力を検出処理過程においてしきい値と比べる際に回路の温度によってＦＭ検波回路８の出力が変化しても比較結果に影響が出ないようなしきい値に設定できるので検出精度並びにその受信したマイクロ波のタイプの識別が良好になる。 - 特許庁

This manufacturing method for the rotor core steel plate having magnets therein, comprises a step for processing and hardening parts 11, 12 of bridge portion 15, 16 holding the magnets in one rotor core steel plate and a step for heating the processed and hardened rotor core steel plate to a prescribed temperature.例文帳に追加

磁石を内蔵するモータ用のロータコア鋼板の製造方法であって、１枚のロータコア鋼板における磁石を抱えるブリッジ部１５、１６の一部１１、１２を加工硬化する段階と、加工硬化したロータコア鋼板を所定温度で加熱処理する段階と、を有することを特徴とするロータコア鋼板の製造方法。 - 特許庁

In the production of the oriented electromagnetic steel plate by using as a raw material a steel slab having a predetermined component composition and using cold rolling two or more times, heat processing for between 10 minutes and 480 hours at a temperature range of 500°C to 750°C is performed before one of the cold rollings, except the final cold rolling.例文帳に追加

所定の成分組成になる鋼スラブを素材とし、２回以上の冷延を利用して方向性電磁鋼板を製造するに際し、最終冷間圧延を除くいずれかの冷間圧延に先立って、５００℃以上７５０℃以下の温度範囲で、１０分以上４８０時間以下の熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a near IR absorption filter having large and wide absorption in a near IR region, high transmittance in the visible light region, no large absorption at a specified wavelength in the visible light region, preferable processing property and productivity, and stable performance in a long time even in a high temperature or high humidity environment.例文帳に追加

近赤外域に大きく且つ巾の広い吸収を有し、さらに可視領域の光透過性が高く、且つ可視領域に特定波長の大きな吸収がなく、加工性および生産性が良好で、高温または高湿下でも長時間性能的に安定な近赤外線吸収フィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain granular silica causing no foams in a silica glass product in processing the silica glass product, consequently having neither a problem of giving rise to crystal defects of silica in the use of it as a crucible for pulling up, for example, single crystal silicon nor a defect of deformation at a high temperature and a method for producing the granular silica.例文帳に追加

シリカガラス製品に加工した際に、シリカガラス製品中に気泡が生じず、従って、例えば単結晶シリコンの引上げ用ルツボとしての使用にあたってシリカの結晶欠陥を引起こす等の問題がなくかつ高温で変形するという欠点もない粉粒状シリカ及びその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a PPS resin composition capable of melt-processing at lower temperature compared with a conventional one, and exhibiting very small breeding-out of phosphoric acid ester, and to provide a thermoplastic resin composition having excellent flame retardancy without affecting heat resistance and mechanical properties such as impact resistance.例文帳に追加

従来と比較して低温での溶融加工が可能で燐酸エステル化合物のブリードアウトが極めて少ないＰＰＳ樹脂組成物および、耐衝撃性などの機械的特性、耐熱性を損なうことなく難燃性に優れた熱可塑性樹脂組成物および成形品とその製造方法を得ることを課題とする。 - 特許庁

In the processing method of wafer, a silicon wafer (10) containing oxygen is irradiated with infrared rays having a wavelength of 7-25 μm while being heated, and formation of oxygen precipitate (11) in the silicon wafer is controlled by combining the heating temperature and the irradiation intensity of infrared rays selectively.例文帳に追加

ウェーハ処理方法は、酸素を含むシリコンウェーハ（１０）を加熱しつつ波長が７μｍ〜２５μｍの赤外線を照射し、前記加熱温度と、前記赤外線の照射強度を選択的に組み合わせることによって、前記シリコンウェーハ中の酸素析出物（１１）の形成を制御することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a silver halide emulsion from which a silver halide photosensitive material is obtained, the material having suitability to digital exposure such as laser scanning exposure and suitability to rapid processing, having high sensitivity and excellent in exposure temperature dependence and to provide a silver halide photosensitive material (particularly a silver halide photographic sensitive material) obtained by using the same.例文帳に追加

レーザー走査露光のようなデジタル露光適性および迅速処理適正を持ち、高感度で、露光温度依存性に優れたハロゲン化銀感光材料を得ることができるハロゲン化銀乳剤、およびそれを用いたハロゲン化銀感光材料（特にハロゲン化銀写真感光材料）を提供すること。 - 特許庁

The adhesive sheet for processing use is essentially composed of a substrate and an adhesive layer, wherein the adhesive layer contains a radiation-polymerizable compound, and there is an intermediate layer based on an acrylic polymer 20°C or higher in glass transition temperature in between the substrate and the adhesive layer.例文帳に追加

少なくとも基材および粘着剤層を有する加工用粘着シートであって、前記粘着剤層は放射線重合性化合物を含み構成されており、前記基材と粘着剤層との間には、ガラス転移温度が２０℃以上のアクリル系ポリマーを主成分とする中間層が設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

When a space 105 is opened by a battery pack holding part 104 capable of contacting the confronted faces of a battery pack 103 and the main body of device tightly or while having a gap, in a main body 101 of device, heat is hardly propagated to the battery pack 103 so that the temperature elevation of a central processing unit(CPU) 109 is more allowed.例文帳に追加

装置本体１０１が、電池パック１０３と装置本体が対向する面を密着させるあるいは間隙を持たせることのできる電池パック保持部１０４によって、空間１０５を開くと、電池パック１０３に熱が伝導しにくくなるので、中央処理装置１０９の温度上昇は、より許容される。 - 特許庁