「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wafer lens laminate, a method of manufacturing an imaging lens, a method of manufacturing an imaging module, and a method of manufacturing an electronic apparatus, capable of preventing moisture absorption of lens parts with a functional film applied thereon and capable of minimizing deformation of the lens parts due to moisture absorption and occurrence of cracks or wrinkles in the functional film after high temperature reflow processing.例文帳に追加

機能膜を塗布したレンズ部の吸湿を防ぎ、吸湿によるレンズ部の変形や高温リフロー処理後の機能膜のひび割れや皺の発生を最小限に抑えることのできるウェハレンズ積層体、撮像レンズの製造方法、撮像モジュールの製造方法及び電子機器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive film which can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss in the high-frequency region, has good workability such as tackiness at normal temperature and flexibility of a film in the step of processing the film, and is used in electric and electronic applications and an epoxy resin composition which is used in preparing the adhesive film.例文帳に追加

高周波領域での低誘電率化および低誘電損失化を達成することができ、かつ、常温でのタック性、フィルムの可撓性などフィルムの加工工程における作業性が良好な電気・電子用途の接着フィルム、および、該接着フィルムの作成に用いるエポキシ樹脂組成物の提供。 - 特許庁

This invention relates to the method of manufacturing the thin film solar cell including a deformation processing process S102 that simultaneously impresses a first vertical tension in a longitudinal direction and a first horizontal tension in a width direction of the flexible substrate, while letting the temperature of the belt-shaped flexible substrate reach equal to or higher than the glass transition point of the substrate material.例文帳に追加

帯状の可撓性基板をその基板の材質のガラス転移点以上の温度に到達させながら、可撓性基板の長手方向の第１の縦張力と幅方向の第１の横張力とを同時に印加する変形処理工程Ｓ１０２を含む薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁

Those optical circuits are composed of a semiconductor waveguide (for example, silicon Si, indium phosphate InP, gallium arsenide GaAs, etc.), and defect increasing processing by impurity doping, low-temperature growth, ion implantation, etc., is performed on the first arm waveguide 103 to increase the absorption coefficient of the first arm waveguide 103.例文帳に追加

これらの光回路を半導体導波路（例えばシリコンＳｉ、リン化インジウムＩｎＰ、ヒ素化ガリウムＧａＡｓ等）で構成し、第１アーム導波路１０３に不純物ドーピング、低温成長やイオン注入等による欠陥増大を行うことによって第１アーム導波路１０３における吸収係数を高める。 - 特許庁

The organic substance processing system is provided with a reactor for decomposing an organic substance making the slurry including water and an organic substance to a high temperature and a high pressure; a separator 9 for separating a decomposed substance produced in the reactor 4 to a liquid decomposition product, a gas decomposition product and a residual solid; and a generation device 10.例文帳に追加

有機物処理システムは、水と有機物を含むスラリーを高温高圧として有機物を分解する反応装置４と、反応装置４で生成した分解物を液体分解生成物と、気体分解生成物と、残固形物とに分離する分離装置９と、発電装置１０とを備えている。 - 特許庁

By processing the carrier core material or the used carrier for electrophotography by supercritical water or subcritical water on a condition that temperature is ≥300°C and pressure is 20 MPa, the wettability of the carrier core material is made ≥3.5 g (per 50 g core material), whereby the adhesiveness of the core material to the coating resin is improved.例文帳に追加

キャリア芯材又は使用済みの電子写真用キャリアを温度３００℃以上、圧力２０Ｍｐａ超臨界水または亜臨界水で処理することにより、キャリア芯材の濡れ性を３．５ｇ以上（芯材５０ｇ当たり）とすることにより、被覆樹脂に対する芯材の接着性を改善する。 - 特許庁

In this method, when the sludge containing the phosphorus is treated under high temperature with the melting furnace 21 to be converted to slag, raw sludge 23 is mixed with polyferric sulfate 24 and dehydrated with a dehydrator 22 as a pre-processing, and a dehydrated cake is dried with a sludge dryer 27, and is charged to the fusion furnace 21.例文帳に追加

リンを含む汚泥を溶融炉２１において高温処理してスラグ化するに際し、前工程として、脱水機２２において原料汚泥２３にポリ硫酸第２鉄２４を混合して脱水処理し、脱水ケーキを汚泥乾燥機２７において乾燥し、乾燥ケーキを溶融炉２１へ投入する。 - 特許庁

To provide a bleaching or bleach-fixing concentrated composition which reduces stain due to a residual sensitizing dye in a photosensitive material after processing, is excellent in desilvering performance, ensures little bleach fog and does not cause precipitation or deposition even when allowed to stand at low temperature over a long period of time.例文帳に追加

処理後の感光材料中の残留増感色素に起因するステインを低減し、脱銀性に優れ、漂白かぶりも少なく、更に低温度条件下に長期放置しても沈殿あるいは析出が生じない漂白濃縮組成物または漂白定着濃縮組成物を提供すること。 - 特許庁

A sensor part 10 for outputting voltage according to an applied pressure, an amplifier 4 for processing an output from the sensor part 10, amplifying the output from the sensor part 10, and compensating offset and an offset temperature characteristic of the sensor part, and a circuit block 20 for inspection for outputting a reference voltage for inspection are provided.例文帳に追加

印加される圧力に応じた電圧を出力するセンサ部１０と、センサ部１０からの出力を処理し、センサ部１０からの出力を増幅すると共に、センサ部のオフセット及びオフセット温度特性を補償するアンプ４と、検査用の基準電圧を出力する検査用回路ブロック２０とを有している。 - 特許庁

To provide a fixing device constituted so that a warming-up time may be shortened, and also, it may be unnecessary to rotate a fixing roller even in a fixation standby state, and to provide an image forming device constituted so that a temperature may rapidly rise again in the case of switching from the standby state to a fixing processing.例文帳に追加

主たる目的は、ウォーミングアップ時間が短く、かつ、定着の待機状態にある場合でも定着ローラの回転を行う必要のない構成の定着装置、および、待機状態から定着処理に切り替えられたとき迅速な再昇温を可能とする画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a polymer alloy comprising mixing a plural kinds of resins with a high-temperature high-pressure fluid or a supercritical fluid, which gives a polymer alloy hardly suffering from destruction of an ultrafine phase separation structure thereof even when the polymer alloy is subjected to processing accompanied with heating such as heat-pressing.例文帳に追加

高温高圧流体または超臨界流体と共に複数種の樹脂を混合してポリマーアロイを得る製造方法であって、得られたポリマーアロイを加熱プレスなどの加熱を伴う加工に供したとしても該ポリマーアロイにおける超微小相分離構造が破壊され難いポリマーアロイを製造する方法を提供する。 - 特許庁

It is newly found that it is possible to improve binding properties of coating with ingredients in fried food, and improve crispy feeling of coating by using for fried food a processed starch which is produced by adding soybean powder to starch and heat processing the product at high temperature of 151-165°C in a short time.例文帳に追加

本発明者らは、デンプンに大豆粉を加え、１５１〜１６５℃の温度域で、高温短時間の加熱処理を行って加工デンプンを製造し、その加工デンプンをフライ食品に用いることにより、衣と具材の結着性を向上させ、かつ、衣のサクサク感を向上させることができることを、新規に見出した。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

A gas composition in an exhaust gas is measured when coal, as a raw material, is decarbonized by using a rotary kiln or a batch type carbonization furnace and when the exhaust gas is a hydrogen gas, exhaust of the hydrogen gas is maintained to adjust decarbonization processing temperature in the range of 650 to 850°C, and thus the char as the fuel coal material for sintering is produced.例文帳に追加

石炭を原料とし、これをロータリーキルンまたはバッチ式炭化炉により乾留する際に排ガス中のガス組成を測定し、排ガスが水素ガスであると、水素ガスの排出を維持して乾留処理温度を６５０〜８５０℃の範囲内に調整し、焼結用燃料炭材としてのチャーを製造する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a stator, a coil line material 5a is wound on the tooth part 13 of a split core 3 made of a magnetic green compact thereby forming a coil 5, and then the press processing for improvement of space factor to the coil 5 is performed in condition that the coil 5 is heated to the softening temperature of its conductive material or over.例文帳に追加

このステータの製造方法では、圧粉磁性体により形成された分割コア３のティース部１３にコイル線材５ａを巻回してコイル５を形成した後、コイル５をその導体材料の軟化温度以上に加熱した状態で、コイル５に対する占積率向上のためのプレス加工を行うようになっている。 - 特許庁

To provide a protective sheet for a solar cell improved in barrier property and high-temperature and high-humidity resistance properties while achieving stable processing of an overcoat layer prohibiting barrier deterioration and stabilization in laminating two or more layers, without causing contamination in a barrier application process, and to provide a solar cell module using the same.例文帳に追加

バリア付与加工時に異物等の付着もなく、バリア劣化を防止するオーバーコート層の安定加工及び２層以上のラミネート時の安定化を実現し、さらなるバリア性向上および高温高湿耐性の向上を可能とする太陽電池用保護シート、並びにこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

The nuts which have crunchy and crispy palate feeling while leaving flavor originated from nuts more than conventional nuts can be obtained by bringing raw beans to a moist condition by boiling, processing the nuts at constant pressure (1,400-2,500 hPa) and temperature (110-280°C) for 4-6 min, and soaking the nuts in sugar solution followed by frying.例文帳に追加

生豆をボイルにより湿潤状態にした後、ナッツに一定の圧力（１４００〜２５００ｈＰａ）、温度（１１０〜１２８℃）において、４〜６分間処理し、その後、糖液浸漬し、フライすることにより、従来よりもナッツ本来の風味を残しつつ、カリッとかつサクサクした食感を有するナッツ類を得ることができる。 - 特許庁

To provide a system for direct injection of predetermined thermal-infrared (IR) wavelength radiation or energy into articles for a wide range of processing purposes, which includes heating, raising or maintaining the temperature of articles, or stimulating a target item in a range of different industrial, medical, consumer, or commercial circumstances.例文帳に追加

様々な産業、医学、民生又は商用環境において、物品を加熱しその温度を上昇又は維持するか、或いは目標物を刺激することが含まれる、種々の処理目的のために特定の熱赤外線（ＩＲ）波長放射又はエネルギーを物品に直接注入するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material for plate making excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development, less liable to curl even when provided in a roll shape and suitable for multi-plate printing, a processing method for the photosensitive material, a photographic substrate constituting the photosensitive material and a method for adjusting the substrate.例文帳に追加

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、ロール状形態で提供されても巻き癖カールが少ない、多版印刷に好適な印刷製版用熱現像感光材料およびその処理方法並びに感光材料を構成する写真用支持体及びその調整方法を提供する。 - 特許庁

As a result, higher the RF power representing plasma generation energy set to the device side is raised, from 700 W to 900 W or higher, when forming the plasma SiN film 22, the larger the amount of hydrogen leaving from the plasma SiN film 22 will be, at a low temperature processing during later sintering treatment, thereby making the sintering treatment sure.例文帳に追加

これによって、プラズマＳｉＮ膜２２の成膜時に装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗから９００Ｗさらにそれ以上に上げるほど、後のシンター処理時にプラズマＳｉＮ膜２２から低温で離脱する水素量が多くなってシンター処理が確実に行われる。 - 特許庁

To provide a cooling method and a system, and a continuous cooling method and a system, applicable to a batch method or a continuous method, without regularly making cold air flow in one direction, by highly maintaining the temperature and humidity of the cold air contacting with a processing object, by reducing a supply speed of dry cooling gas.例文帳に追加

乾燥冷却気体の供給速度を低下させて、被処理物と接触する冷気の温度と湿度とを高く維持し、冷気を一方向に規則的に流すことがなく、バッチ法又は連続法に適用可能な冷却方法及び装置、並びに連続式冷却方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lead-free glass material for sealing which melts at a low temperature, has no toxicity unlike lead-based glass, has a low coefficient of thermal expansion and good thermal stability to facilitate sealing processing, exhibits excellent water resistance enabling the material to be converted to ultrafine particles by wet milling, and has a high aptitude as a sealant for an organic EL display panel.例文帳に追加

低融性で鉛系ガラスのような毒性がなく、熱膨張係数が低く、熱的安定性がよく封着加工を行い易く、耐水性に優れて湿式粉砕による超微粒化が可能であり、有機ＥＬディスプレイパネル用のシール材として高い適性を備える封着用無鉛ガラス材を提供する。 - 特許庁

Additionally, as the resin or rubber material of the mask base part 3, the silicone-based resin material without stickiness on the surface, whose steam resistance is ≥100°C and JIS A rubber hardness is set between 1 and 10, is used, and the high temperature sterilization processing at about 110°C is easily executed even in the case of repeatedly using it.例文帳に追加

またマスクベース部３の樹脂またはゴム材料として、表面にベタ付きがないシリコーン系樹脂材料で、耐スチーム性が１００℃以上で、かつかつJIS A ゴム硬度が、１〜１０の間に設定したものを使用し、これにより繰返し使用する場合でも、１１０℃前後の高温減菌処理を容易に行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a method for producing an acid-curing resol resin that has a pot life enough to conduct an impregnation or cast molding is rapidly cured after the processing, and has good mechanical strength, and therefore is molded at ordinary temperature even if to a large product.例文帳に追加

含浸、注型作業等が円滑に行えるのに充分な可使時間を与え、且つ、前記作業時間の経過後には、速やかに硬化し、良好な機械強度が得られる性能を持つことで、大型の成形体であっても、常温で成形できる酸硬化型レゾール樹脂の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a water-dispersible resin composition for fiber processing having proper alkali thickening properties, forming a film at a relatively low temperature to make a soft coating film, readily water-redispersible even in cold water before heating the coating film, capable of forming a flexible coating film having excellent resistance.例文帳に追加

適度のアルカリ増粘性を有すると共に、比較的低温で成膜して柔軟な皮膜を形成するが皮膜の加熱前には冷水でも容易に水再分散が可能であり、加熱することにより柔軟で、優れた耐性を有する皮膜を形成しうる繊維加工用水分散性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

In the toner consisting of toner particles containing resin composition for toner containing crystalline polymer having 180 to 280°C melting point and noncrystalline polyester having 30 to 80°C glass transition temperature and silica particles adhered to the surface of the toner particles, surface processing by hexamethyldisilazane is performed to the silica particles.例文帳に追加

融点が１８０〜２８０℃である結晶性ポリマーと、ガラス転移温度が３０〜８０℃である非結晶性ポリエステルとを含有するトナー用樹脂組成物を含有するトナー粒子と、前記トナー粒子の表面に付着したシリカ粒子とからなるトナーであって、前記シリカ粒子は、ヘキサメチルジシラザンによる表面処理が施されているトナー。 - 特許庁

To provide an environmental recycling thermoelectric power generation system in which the volume of organic waste is reduced and organic waste is rendered harmless and recycled under environmental recycling by processing food waste and other organic waste with high temperature superheated steam and performing thermoelectric power generation by utilizing inflammable gas thus obtained.例文帳に追加

食品廃棄物その他の有機性廃棄物を高温過熱水蒸気により処理すると共にそれにより得られた可燃性ガスを利用して熱電発電を行なうことにより、環境循環下に有機性廃棄物の減容化、無害化及び再資源化を可能にした環境循環型熱電発電システムを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which performs fixation processing, based on the pixel density of a side end of an unfixed image, even if the temperature of the end of a fixing member is not high enough to have no fixation defect at the side end, and also acceletes energy saving by shortening a time of recovery from a preheat mode "waiting time" etc.例文帳に追加

定着部材の端部の温度が十分な温度になくとも、未定着画像の側端部の画素密度に基づいて定着処理を行い、側端部に定着不良がなく、予熱モード等からの復帰時間“待ち時間”を短縮し、省エネルギー化を促進する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a processing circuit 20 of a compensation data generating circuit 18, the data signal DP generated by the time numerical value converting circuit 16 is compensated to generate a compensated data signal DH on the basis of the reference data signal DK stored (recorded) previously in the memory 22 and a temperature data signal DT generated by an A/D converter 14.例文帳に追加

補正データ生成回路１８の演算回路２０は、予めメモリ２２に記憶（記録）してある基準データ信号ＤＫとＡ／Ｄコンバータ１４が生成した温度データ信号ＤＴとに基づいて、時間数値変換回路１６が生成したデータ信号ＤＰの温度補正を行って補正後データ信号ＤＨを生成する。 - 特許庁

The semiconductor film 3 formed on the substrate 2 is irradiated with laser light 21 in a non-oxidative processing atmosphere containing hydrogen gas 31 and while a temperature of the substrate 2 is held not higher than a fusion point, the semiconductor film 3 is heated to not lower than 1,000°C to be fused, and then solidified to crystallize the semiconductor film 3.例文帳に追加

水素ガス３１を含み且つ非酸化性の処理雰囲気中で基板２上に形成された半導体膜３にレーザ光１を照射し、基板２の温度を融点以下に保持したまま、半導体膜３を１０００℃以上に加熱して溶融させその後凝固させることにより、半導体膜３を結晶化させる。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor substrate includes the steps of: forming a first SiGe layer with a thickness of 10 to 200nm; applying anneal processing to the substrate at a temperature of 900°C; and forming a second SiGe layer with a thickness of 10 to 300nm on the first SiGe layer.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜２００ｎｍで形成する工程と、前記基板を９００℃以上でアニール処理する工程と、前記第１のＳｉＧｅ層上に、第２のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜３００ｎｍで形成する工程とを備えていることを特徴とする半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

The electron device is provided with an optical system 10, a board 30 having a plurality of infrared sensor elements 20 that are sealed by a cap body for each element, a Peltier element 50, a signal-processing circuit 60, an element-driving circuit 70, a temperature detection/Peltier element-driving circuit 80, and a shade 90 for inspection.例文帳に追加

本発明の電子デバイスは、光学系１０と、素子ごとにキャップ体によって封入されている複数の赤外線センサ素子２０を有する基板３０と、ペルチェ素子５０と、信号処理回路６０と、素子駆動回路７０と、温度検出＆ペルチェ素子駆動回路８０と、検査用遮光板９０とを備えている。 - 特許庁

This apparatus 100 for processing wafers arranges wafers 7 loaded on a boat 6 an inner reaction tube 2 which is surrounded by an outer reaction tube 1, heats the wafers by a heater located outside the outer reaction tube 1, and measures the temperature of the wafers 7 by a thermocouple 11 arranged inside the reaction tube to optimally process the wafer with reaction gas.例文帳に追加

本発明の基板処理装置１００は、ボート６に装填したウェーハ７を外部反応管１に囲まれた内部反応管２の中に配置し、外部反応管１の外側に配置したヒータで加熱し、処理ガスで最適に処理するために、反応管の中に配置した熱電対１１でウェーハ７の温度を検出する。 - 特許庁

This constitution enables setting of a heating amount of the heating means 26 and an air supply amount of the blower 25 to obtain maximum drying efficiency according to a kind and a quantity of refuse without exceeding the upper limit value of the internal temperature of the drying processing part 21, and promotes drying efficiency, resulting in shortening of a drying time.例文帳に追加

これによって、生ごみの種類や量に応じて、乾燥処理部２１の内部温度の上限値を超えることなく最大の乾燥効率が得られる加熱手段２６の加熱量と送風機２５の送風量が設定でき、そして乾燥効率が促進されるので乾燥時間の短縮が図れる。 - 特許庁

To provide a signal processing method and apparatus, and Coriolis flow meter, capable of always measuring with a constant precision even in the presence of the temperature change of a fluid to be measured, the mixing-in of bubbles and the rapid change from gas to liquid, having a high filtering capacity, and capable of performing a phase measurement with reduced computational complexity.例文帳に追加

被測定流体の温度の変化、気泡の混入、気体から液体への急速な変化がある場合でも、常に一定の精度で計測することができ、高いフィルタリング能力をもち位相計測を少ない演算量で行うことのできる信号処理方法、信号処理装置、およびコリオリ流量計を提供する。 - 特許庁

To provide a method for production of an organyloxy group-containing organosilicone compound that does not have a disadvantage that it needs a higher temperature than that usual at the mixing step, since the reaction time is very long, or needs such a high catalyst concentration that the catalyst must be removed or deactivated in the catalyst treatment and/or processing steps.例文帳に追加

反応時間が非常に長く、そのため混合に際して通常生じる温度より高い温度が必要とされ、もしくは触媒を付加的な処理工程において除去または不活性化させなければならないほど必要とされる触媒濃度が高いという欠点を有さない製造法。 - 特許庁

The method of manufacturing a nitride-based semiconductor layer includes a step of applying nitride processing to one main surface of the sapphire substrate at a temperature of 800-1,200°C before forming the nitride-based semiconductor layer, and a step of forming the nitride semiconductor layer by an organic metal vapor phase growing method on the surface of the nitride-processed sapphire substrate.例文帳に追加

窒化物系半導体層の形成方法は、窒化物系半導体層の形成前にサファイア基板の一主面を８００℃から１２００℃の範囲の温度で窒化処理し、その窒化処理されたサファイア基板面上に有機金属気相成長法により窒化物半導体層を結晶成長させる。 - 特許庁

To provide a washing-alternative stabilizing solution which prevents wet heat cyan fading and improves image preservability, when a processed photosensitive material is stored over a long period of time in a high-humidity or high-temperature environment, and which prevents adhesion of processing solution components to a squeeze roller in a stabilizing solution tank, roller contamination and occurrence of a dent on a photosensitive material surface.例文帳に追加

処理済み感光材料の高湿度又は高温度で経時したときの湿熱シアン褪色を防止して画像保存性を改良し、安定液槽のスクイズローラーに処理液成分の付着、ローラー汚れ、感光材料面に押し後発生を防止する水洗代替安定液を提供すること。 - 特許庁

To provide a copper foil for a printed wiring board, which is free of locally eroded recesses on a glossy face side thereof during soft etching processing and is not discolored even by high-temperature treatment at 300°C for 30 minutes and has an excellent solubility in acid solution, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

圧延銅箔の光沢面側において、ソフトエッチング処理の際、局部的に侵食された凹みが生じることがなく、また３００℃、３０分の高温処理でも変色を起こさず更に酸溶液に対する溶解性が良好なプリント配線板用銅箔およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this information processing display device, a display part has a thin display device, and the processor for the reversible recording medium capable of executing rewriting of the recording medium by heating the sheet-like reversible recording medium allowing recording and erasure of a visible image to a specific temperature is disposed on the rear face of the display part.例文帳に追加

情報処理表示装置において、表示部に薄型表示装置を備え、可視画像の記録及び消去が可能なシート状の可逆性記録媒体に対し、特定温度に加熱することで記録媒体の書き換えを実施可能な可逆性記録媒体用処理装置を、表示部の背面に配設する。 - 特許庁

To provide a technology for performing film deposition with high in-plane uniformity by solving the problem of temperature stability of a stage heater based on low thermal conductivity of a pressure withstanding vessel, when a film is deposited on a substrate by supplying processing fluid containing supercritical fluid and film deposition material into the pressure withstanding vessel.例文帳に追加

超臨界流体と成膜原料とを含む処理流体を耐圧容器内に供給して基板に対して成膜を行うにあたり、耐圧容器の熱伝導率が小さいことに基づく、ステージヒータの温度安定性の課題を解決し、面内均一性の高い成膜処理を行うことができる技術を提供する。 - 特許庁

A resin material including a tetrafluoroethylene resin of 80-90 wt.% and a polyamide resin of 10-20 wt.% is subjected to compression molding under cooling by using a metal mold followed by burning processing, then annealed for a specified period of time within a temperature range of, preferably, 250-320°C to form the face seal 21.例文帳に追加

四弗化エチレン樹脂８０〜９０重量％に、ポリイミド樹脂を１０〜２０重量％含んだ樹脂材料を所定の金型を用いて冷却圧縮成型後、焼成処理を行い、好ましくは２５０℃〜３２０℃の温度範囲で所定時間アニール処理を行ってフェイスシール２１を形成する。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with the image carrier 1, a charging member 2 for contact-charging the image carrier 1, a bias power source 8 which generates bias by superposing DC voltage and AC voltage and applies the bias to the charging member 2, a sensor 9 for sensing temperature and humidity, and CPU (central processing unit) 11 for controlling the bias power source 8.例文帳に追加

像担持体１と、像担持体１を接触帯電させる帯電部材２と、直流電圧及び交流電圧が重畳されてなるバイアスを生成して帯電部材２に印加するバイアス電源８と、温度及び湿度を検出するセンサ９と、バイアス電源８を制御するＣＰＵ１１と、を備える。 - 特許庁

To provide a method of producing a retort food, such as sweet red-bean soup or thick sweet red-bean soup with rice cake or dumpling like ingredients having a smooth and chewy texture, which maintains the firmness and has a good shape retention property even when the food is kept in bouillon or soup for a long time after retort processing in which pressure sterilization is performed at high temperature.例文帳に追加

高温で加圧殺菌を行なうレトルト処理後に汁またはスープ類中に長期間保持しても、煮崩れ等がなく保形性がよく、食感も滑らかで歯応えのある餅様または団子様の具材を含有するお汁粉やぜんざい等のレトルト食品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After a start of an engine or the like, in a condition in which the temperature of exhaust gas is relatively low, if desorption of HC is determined in the HC processing devices 10, 11, the lean degree of air-fuel ratio is temporarily increased upon initiation of the desorption, and thereafter, the air-fuel ratio is controlled to a small lean degree corresponding to the density of HC during desoprtion.例文帳に追加

機関の始動後など、排気温度の比較的低い状態において、ＨＣ処理装置１０、１１でのＨＣの脱離を判定したら、脱離開始時に一時的に空燃比のリーン度合いを大きくし、その後は脱離中のＨＣ濃度に対応したより小さなリーン度合いに空燃比を制御する。 - 特許庁