「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method which shortens the manufacturing time of a photomask by shortening a calculation time for finding corrections of a layout for compensation of an influence of proximity exposure effect when a layout pattern is formed on the photomask.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク上のレイアウトパターン形成する上で、近接露光効果の影響を補償ため、レイアウトの補正を求めるための計算時間を短縮して、フォトマスクの製造時間を短縮する製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of obtaining a condition without charging up an electrode surface of an electrostatic deflection apparatus and an electrostatic lens, maintaining highly precise exposure for a long time, and having an anti-oxidation function of the electrode surface for a long period of time.例文帳に追加

静電偏向器、静電レンズの電極表面をチャージアップすることが殆どない状態を実現し、高精度な露光を長時間維持することが可能で、且つ長期間に亘り電極表面の酸化防止機能を有する電子ビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

Time taken for mark detection sensors 520A and 520B to detect reference marks M1 and M2 from the time when an exposure section 430K starts writing the reference marks M1 and M2 on a photoreceptor 410K are clocked for the reference marks M1 and M2.例文帳に追加

露光部４３０Ｋによって感光体４１０Ｋに基準マークＭ１、Ｍ２の書込が開始された時からマーク検知センサ５２０Ａ、５２０Ｂによって基準マークＭ１、Ｍ２が検知された時間を基準マークＭ１、Ｍ２について各々計測する。 - 特許庁

A transmitting control means 9 for controlling transmitting timing in accordance with output of a detecting means 8 for detecting the amount of X-ray irradiation or the irradiation time is provided and adjustment of the exposure synchronized with the amount of X-ray irradiation or the irradiation time incoming on every photographing can be performed.例文帳に追加

Ｘ線照射量または照射時間を検知する検知手段８の出力に応じ転送タイミングを制御する転送制御手段９を備え、撮影の都度入射するＸ線照射量または照射時間に同期した露光調整ができる。 - 特許庁

To provide an X-ray generator which has such an advantage as can improve the availability factor of it by shortening the time for replacing optical elements or can reduce the time and costs required for the maintenance of the generator and an exposure device using it.例文帳に追加

光学素子の交換時間を短縮して装置稼動率を向上させることができる、あるいは、メンテナンスに要する時間や費用を削減できる等の利点を有するＸ線発生装置及びそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide inkjet recording paper which prevents a decrease in glossiness of a printed image even if the recording paper is stored in a roll shape for a long period of time, and prevents deterioration in the physical properties (film peeling) of a coating film even in exposure to outside light for a long time.例文帳に追加

本発明の目的は、記録用紙をロール形態で長期間保存しても、印字画像の光沢性が低下せず、かつ外光に長時間晒されても塗膜物性（膜剥がれ）の劣化のないインクジェット記録用紙を提供することにある。 - 特許庁

To provide a TiO_2-SiO_2 glass wherein the thermal expansion coefficient is substantially zero at the time of irradiation with high-EUV energy light when used as an optical member for an exposure tool for EUVL, and physical properties of a multilayer can be kept over a long period of time by releasing hydrogen from the glass.例文帳に追加

ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ_2−ＳｉＯ_2ガラスの提供。 - 特許庁

For the time being, therefore, data on chronic aquatic toxicity shall be used as a benchmark for judging whether NOECs exceed 1 mg/l.(Reliable data based on an exposure time longer than that of the tests described below, if any, shall be taken into account.)例文帳に追加

当面、慢性水生毒性試験データは、慢性水生毒性分類を行う際にNOECが1mg/Lを超えているかの判断の目安として用いる（以下で挙げる試験の暴露時間よりさらに長期間で信頼のおけるデータがある場合には、そのデータも考慮する）。 - 経済産業省

To provide an exposure mask which eliminate the necessity to inspect the mask and wafers for controlling contamination of the mask with haze, has versatility regardless of history of the mask, does not increase in time and cost to produce and inspect the mask, and prevents contamination with haze based on a management method for an exposure mask for using the mask in a clean condition at all times.例文帳に追加

露光用マスクの成長性異物による汚染を管理するためのマスクやウェハの検査が不要であり、マスクの履歴に依存せずに汎用性があり、マスク製造や検査のための時間・コストが増大せず、常に清浄な状態でマスクを使用できるように運用する露光用マスクの管理方法に基づき、成長性異物による汚染が生じない露光用マスクを提供する。 - 特許庁

The exposure unit 49 further comprises a switching mechanism 50 for positioning the pinhole 61 or the lens 54 for tele-shooting on the shooting optical axis by regulating the rotation position of the lens holder 52, and a shutter mechanism for controlling the time of exposure of the photo film 28 to subject light incident along the shooting optical axis.例文帳に追加

さらに、露光ユニット４９は、レンズホルダ５２の回動位置を規制してピンホール６１あるいはテレ撮影用レンズ５４のいずれかを撮影光軸に位置決めする切換え機構５０と、撮影光軸に沿って入射する被写体光への写真フイルム２８の露光時間を制御するシャッタ機構とを備える。 - 特許庁

An acceleration plan calculation unit 32 calculates, for a specific kind of lot put into a production line, a lot progress plan that a lot progress plan for a processable lot with a light exposure process therefor using a specific reticle expected to be completed before the predetermined time, up to the light exposure process, is progressed in priority to an existing lot progress plan set for the lot.例文帳に追加

加速計画算出部３２は、生産ラインに投入されている特定種について、特定のレチクルを使用する露光工程が所定時刻までに完了する予定である処理可能ロットの当該露光工程までのロット進行計画を、当該ロットに対して設定されている既存のロット進行計画に比べて優先進行させたロット進行計画を算出する。 - 特許庁

During imaging for obtaining image data of a plurality of frames, having temporal continuity, to be used for synthesis processing for obtaining a long-time-exposure effect, exposure adjustments are made to perform without using an electronic shutter function as much as possible to obtain a series of image data of a plurality of frames having temporal continuity, thereby minimizing absence of information as a subject video.例文帳に追加

長時間露光効果を得るための合成処理に用いる、時間的な連続性を有する複数フレームの画像データを得る撮像時に、電子シャッタ機能をなるべく使用しないで露光調整を行うようにすることで、時間的な連続性を有する複数フレームの一連の画像データとして、被写体映像としての情報の欠落を最小限とする。 - 特許庁

A controller 101 built into the image forming device 100 sets the time when the power source of the image forming device 100 is turned on as integration start time and integrates the time when an exposure device 18 for discharge is actually lighted and emits light with respect to the time when the power source of the image forcing device is dropped or before the point of the time a sleep mode is started.例文帳に追加

画像形成装置１００に内蔵された制御装置１０１は、画像形成装置１００の電源が投入された時を積算開始時間とし、その後、画像形成装置の電源が落とされた時、或いはスリーブモードに入った時点までの時間に対して、除電用露光装置１８が実際に点灯し、光を照射している時間を積算する。 - 特許庁

Immediately before timing t2 for reading out signal charges from second light receiving elements on the short-time exposure side, VCCDs and an HCCD are driven to execute idle transfer operation (high-speed transfer operation) for outputting unnecessary charges accumulated in the VCCDs corresponding to the first and second light receiving elements respectively as first and second noise signals in an exposure period tS of the second light receiving elements.例文帳に追加

短期間露光側の第２受光素子から信号電荷を読み出すタイミングｔ２の直前に、ＶＣＣＤ及びＨＣＣＤを駆動して、第２受光素子の露光期間ｔＳに第１及び第２受光素子に対応するＶＣＣＤに蓄積される不要電荷を、それぞれ第１及び第２ノイズ信号として出力させる空転送動作（高速転送動作）を実行する。 - 特許庁

To provide a heat mode-type original plate for a positive type lithographic printing plate, which is suitable for a heat-mode plate making method using laser exposure, which can be made by being directly mounted on a printing press, without processing after a short-time scanning exposure, which is excellent in printing resistance, and which reduces printing scums on a printed surface.例文帳に追加

レーザー露光を用いるヒートモードの製版方式に適した、短時間での走査露光ののちに現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能であり、耐刷性にすぐれ、印刷面上の印刷汚れも少ないヒートモード型のポジ型平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁

The image exposure device for exposing photosensitive material to the light obtained by modulating illuminating light emitted from a light source in accordance with the spectral sensitivity of the photosensitive material by the two-dimensional spatial optical modulation element is equipped with an optical system for preventing the two-dimensional spatial optical modulation element from being irradiated with the illuminating light in the non image- exposure time.例文帳に追加

感光材料の分光感度に応じた光源から射出された照明光を二次元空間光変調素子で変調した光によって感光材料を露光する画像露光装置であって、非画像露光時に前記照明光が前記二次元空間光変調素子を照射しないようにする光学系を備えたことを特徴とする画像露光装置を提供することにより前記課題を解決する。 - 特許庁

All exposure periods (t10-t40) are divided into first and second half portions, signal charges corresponding to a low sensitivity pixel signal are read at a moment in time t20 and used for an output signal, and signal charges, corresponding to a high sensitivity pixel signal, are read at the final timing t40 of electronic all exposure periods and used for an output signal.例文帳に追加

全露光期間（ｔ１０〜ｔ４０）を前半部と後半部とに分けて、時点ｔ２０にて低感度画素信号に対応する信号電荷を読み出して出力信号に使うようにするとともに、電子的な全露光期間の最終タイミングｔ４０にて高感度画素信号に対応する信号電荷を読み出して出力信号に使う。 - 特許庁

To provide a heat mode-type original plate for a positive type lithographic printing plate, which is suitable for a heat-mode plate making method using laser exposure, which can be made by being directly mounted on a printing press, without processing after a short-time scanning exposure, which is excellent in printing resistance, and which reduces printing scums on a printed surface.例文帳に追加

レーザー露光を用いるヒートモードの製版方式に適した、短時間での走査露光ののちに現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能であり、耐刷性にすぐれ、印刷面上の印刷汚れも少ないヒートモード型のポジ型平版印刷版用原版を提供する。 - 特許庁

To allow a distance from a projection lens of an exposure device to a surface of a workpiece to be correctly adjusted (set) to a focal length of the projection lens without the increase of time required for entire exposure processing, by eliminating the problem of an error in a measurement value of a distance measuring sensor in a method for adjusting the distance between the projection lens and the workpiece.例文帳に追加

露光装置の投影レンズとワーク間の距離調整方法において、距離測定用センサの測定値に生じる誤差の問題をなくし、露光処理全体にかかる時間も長くすることなく、投影レンズからワークの表面までの距離を投影レンズの焦点距離に正しく調整（設定）できるようにすること - 特許庁

If the date and time of the activation is later than the date and time of the first exposure, the types of software-functionality are not mixed on a single lot or substrate, but an old software-functionality is used for that lot or substrate.例文帳に追加

アクティベーションの日付および時刻が第１の露光の日付および時刻よりも後である場合、ソフトウェア機能のタイプは１つのロットまたは基板上に混在することはなく、そのロットまたは基板については古いソフトウェア機能が使用される。 - 特許庁

In long photographing processing, a time for exposure is divided by each fixed time decided in advance and stored/read, dark data are subtracted from the data, and outputted plural video signals are added to ultimately obtain a single sheet of video signal.例文帳に追加

長秒撮影処理では、露光時間をあらかじめ決められた一定時間ごとに区切って蓄積・読み出しを行ない、そのデータからダークデータを差し引き、出力される複数の映像信号を加算して、最終的に１枚の映像信号を得る。 - 特許庁

To facilitate the transportation of a conveyance apparatus during maintenance and also realize positional repeatability at the time of re-installation, while eliminating the need of teaching process for a conveyance robot, thereby reducing the down time of an exposure apparatus and a coater/developer.例文帳に追加

メンテナンスの際に搬送装置を容易に移動することを可能とし、かつ、再設置時に位置の再現性が得られるようにし、搬送ロボットのティーチングが不要とし、露光装置及びコータ・デベロッパの稼動停止時間の短縮を実現する。 - 特許庁

To provide a technique for: solving a problem of connection reliability over time, a problem of corrosiveness, and a problem of a Kirkendall void formed with time after long-period high-temperature exposure; and further leveling bump shapes and bump heights by avoiding formation of microvoids (fine air bubbles and gaps).例文帳に追加

マイクロボイド（微小な気泡や空隙）発生を回避し、経時的接続信頼性の問題、腐食性の問題、更には長期高温暴露後に経時的に発生するカーケンダルボイドの問題を解決し、更にバンプ形状とバンプ高さの均一化を図る技術を提供する。 - 特許庁

To provide highly refractive space glass having high UV-transmittance and at the same time high radiation resistance over an exposure time of at least 5 to 10 years, in particular, radiation resistance for the typical radiation field present in space, which consists of X-ray, electron and proton radiation with the total doses of 1,000 Gy as well as UV- and VIS radiation.例文帳に追加

高UV透過率および同時に少なくとも5から10年間に亘って高放射線抵抗性、特にUVおよびVIS放射線ばかりではなく1000 Gyの総ドーズを持つＸ線、エレクトロンおよびプロトンからなる宇宙の典型的放射線領域に対して、耐放射線性を持つ高屈折宇宙ガラスを提供する。 - 特許庁

Changing an output timing of e.g. a vertical synchronizing signal (TMC) by a time in the unit of horizontal lines to vary a time length of a frame for every prescribed frame corrects the shift of the exposure period with respect to the period of the commercial AC power supply.例文帳に追加

所定のフレームごとに、例えば垂直同期信号（ＴＭＧ）の出力タイミングを水平ライン単位の時間分変化させてフレームの時間長を可変することで、商用交流電源周期に対する露光周期のずれを補正する。 - 特許庁

When a prescribed time T1+T2 has elapsed after a voice recording operation is started, a switch SW1 for a second photographing operation is turned ON to start a second photographing operation, and a voice recording operation is started nearly at the same time when an exposure process in the second photographing operation is carried out.例文帳に追加

そして、音声記録動作開始から所定時間Ｔ１+Ｔ２時間経過した後に、２回目の撮影のためにＳＷ１がオンされ、２回目の撮影動作が開始され、その露光が行われるとほぼ同時に音声記録動作が開始される。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV capable of preventing the occurrence of particles in the dissolution of solid components in a solvent and in storage over time and a variation of sensitivity due to storage over time and excellent in correction of a halftone phase contrast shift mask.例文帳に追加

固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生及び経時保存による感度の変動を防止でき、ハーフトーン位相差シフトマスク適正に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

(1) As for the electrostatic image forming method comprising electrification, exposure, developing, transfer and fixation processes, transparent fine particles other than color toner are applied on an image forming surface at a time except a color-toner developing time in order to form an image.例文帳に追加

（１）帯電、露光、現像、転写、定着プロセスを有する静電写真画像形成方法において、画像を形成する為の有色トナー現像時以外に、該有色トナーとは別の透明粉体を画像形成面に塗布する事を特徴とする、静電写真画像形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suppressing generation of particles in a liquid of the composition even when stored for a long period of time, and having excellent storage stability as showing little change with time in characteristics such as superior sensitivity to radiation and a high receding contact angle during exposure.例文帳に追加

長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electron emitting source composition for a field emission display device in which exposure performance and development performance of photoetching at the time of manufacture and emission current property after the manufacture are improved, and degradation of vacuum and reduction of current density by the passage of time are alleviated.例文帳に追加

製造時における写真食刻の露光性，現像性及び製造後における放出電流特性が向上し，経時劣化による真空度低下及び電流密度減少を軽減した電界放出表示装置用電子放出源組成物を提供する。 - 特許庁

At the time of self-cleaning, a transparent board 20 on which a recess 22 in a concave lens form is formed at a center part of a silica glass board is set at a plate holder 16 for setting a pattern plate 15 at the time of regular exposure, and ultraviolet rays are irradiated from an optical source 11.例文帳に追加

通常の露光時にパターン原板１５をセットするための原板ホルダ１６に、自己洗浄時には、石英ガラス板の中央部に凹レンズ状の凹部２２が形成された透過板２０をセットし、光源１１から紫外線を照射する。 - 特許庁

In this exposure time, when the component 3 comes to a third position C, a fourth position and a fifth position E in the image pickup area 21, each of a first illuminator 5, a second illuminator 6 and a third illuminator 7 is emitted for a short time by illumination signals from an illumination control part.例文帳に追加

この露光時間において、照明制御回路からの発光信号により、部品３が撮像エリア２１内の第３位置Ｃ，第４位置，第５位置Ｅにきたとき、それぞれ第１照明装置５，第２照明装置６，第３照明装置７を短時間発光する。 - 特許庁

A control part of this image forming device is constituted so that the replenishing operation time T is decided longer, as the cumulative value of copy sheets Ca become larger by controlling the toner replenishing time or replenishing speed, by a means for computing variables such as the image forming operation frequency, the number of images, or exposure quantity.例文帳に追加

画像形成動作回数、画像数もしくは露光照射量等の変数演算手段により、トナー補給動作時間又は補給速度を制御し、累積コピー枚数Ｃａの値が大きくなるほど、補給動作時間Ｔを長く決定させるように、画像形成装置の制御部を構成した。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having superior sensitivity in the resolution of contact holes in the production of a semiconductor device, capable of preventing the occurrence of particles in the dissolution of solid components in a solvent or during storage with time and capable of also preventing a variation of sensitivity due to storage with time.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールの解像において優れた感度を有するとともに、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The correction processing part 500 computes the time required for a substrate to reach a desired exposure position from the measurement position of the substrate 90 length-measured by a laser length measuring device 70 and controls a light irradiation part 30 so as to irradiate a light with a delay delayed by the corresponding time portion.例文帳に追加

補正処理部５００は、レーザ測長器７０が測長した基板９０の測定位置から所望の露光位置にまで基板が到達するのにかかる時間を演算し、その時間分遅延させて光を照射するように光照射部３０を制御する。 - 特許庁

Furthermore, when a second stage release switch 32 is closed and the CCD 18 is exposed, the system controller 29 closes the shutter 15 for a time until at least an end time of read after the end of exposure to shut an incident light of the object onto the CCD 18.例文帳に追加

さらに、第２段レリーズスイッチ３２がオンになってＣＣＤ１８の露光が行われると、システムコントローラ２９は、その露光完了時から少なくとも読み出し完了時までの間、シャッタ１５を閉じて被写体光のＣＣＤ１８への入射を遮断する。 - 特許庁

To provide a method of controlling data output and the like, with which various internal data of control softwares can be outputted to outside at any time, and with which a trouble that otherwise consumes extraordinary time for analysis can be analyzed rapidly and solved, without degrading throughput of an exposure system.例文帳に追加

露光装置のスループットを落とすことなく、制御ソフトウェアの種々の内部データを常に外部へ出力可能であり、従来は解析に非常に時間を要したトラブルが迅速に解析、解決できるデータ出力制御方法等を提供する。 - 特許庁

After the eye closing time (T_X) is measured, it is monitored whether a state where the eyes are closed is longer than the eye closing time and when the state is observed, it is decided that the subject intends to close the eyes to instruct photographing, thereby performing exposure for an object image to be recorded in a recording medium.例文帳に追加

閉眼時間（Ｔ_X）の計測後、その閉眼時間よりも長く眼が閉じている状態の発生を監視し、その発生が観測された場合、撮影を指示するための被写体の意図的な閉眼があったと判断して、記録媒体に記録されるべき対象画像の露光を実行する。 - 特許庁

To provide a delay circuit in which the need for various kinds of exposure mask is eliminate and the time being elapsed before delivery can be shortened by making possible to stock wafers upon completion of wafer test, and a wafer test circuit in which test time can be shortened.例文帳に追加

多種類の露光マスクを不要とし、ウェハーテストまでを完了させた状態で在庫することができ、納品までの時間を短縮できる遅延回路、ウェハーテスト時のテスト時間を短縮することが可能なウェーハテスト回路を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure device by which costs for the replacement and the maintenance of a light source unit are reduced because the cycles of the replacement and the maintenance of the light source unit are extended by eliminating the variation of the residual life of the light source unit due to the deviation of the cumulative use time or the deterioration ratio with time of the output efficiency of the light source unit.例文帳に追加

各光源ユニットの積算使用時間または出力効率の経時劣化率の偏りによる光源ユニットの残寿命のばらつきをなくし、光源ユニットの交換、メンテナンス周期を延長することができ、その分のコストを削減することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The plurality of image data are distributed to an image for synthesis or an image for motion detection according to the distribution patterns, a motion amount of the imaging portion for time-division exposure is detected from the image data of the image for motion detection and synthetic image data are generated by synthesizing the image for synthesis.例文帳に追加

分配パターンに従い、複数の画像データを合成用画像又は動き検出用画像に分配し、動き検出用画像の画像データから時分割露光の際の撮像部の動き量を検出し、合成用画像を合成した合成画像データを生成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which solves problems in the techniques to improve the performance of microphotofabrication itself using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and to provide a positive photoresist composition for far UV exposure with low dependence on the PEB (post exposure bake) time.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、ＰＥＢ時間依存性が小さい遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored composition which is applied to an exposure method using a laser of 330-430 nm wavelength or a semiconductor laser of 405 nm as a light source and which cures in a short exposure time even with an increased pigment content, a method for producing a color filter using such a colored composition, and a color filter manufactured by such a method.例文帳に追加

波長３３０〜４３０ｎｍのレーザを光源とする、あるいは４０５ｎｍの半導体レーザを光源とする露光方式に適用される着色組成物であって、色素の含有量を多くした場合でも短い露光時間で硬化する着色組成物、そのような着色組成物を用いたカラーフィルタの製造方法、およびそのような方法により製造されたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

The light emitting time of a laser diode 13 is shortened without changing the image forming speed in the case of switching from low resolution to high resolution, and the exposure of the laser diode 13 is increased by transmitting a signal for increasing the exposure of the laser diode 13 in an APC circuit 12 according to a power switching signal from a printer engine circuit 11.例文帳に追加

低解像度から高解像度に切り換える際に、画像形成速度を変えず、レーザダイオード１３の発光時間を短くし、かつプリンタエンジン回路１１からのパワー切り換え信号によりＡＰＣ回路１２でレーザダイオード１３の露光量を上げるような信号を送信してレーザダイオード１３の露光量を上げる。 - 特許庁

To provide a silver halide emulsion having high sensitivity and excellent gray scale characteristic suitable for a silver halide color printing paper and excellent in rapid processing adaptability, latent image stability at an initial stage after exposure, and reciprocity law failure and specifically excellent in a gray scale stability in high luminance short time exposure, provide a silver halide photographic sensitive material, and also provide a method of forming an image.例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー印画紙に適した高感度でかつ優れた階調特性を有すると共に迅速処理適性、露光後初期段階の潜像安定性、相反則不軌に優れ、特に高照度短時間露光における階調安定性に優れたハロゲン化銀乳剤、ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法を提供する。 - 特許庁