「upper process」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The liquid storages are each formed so that the periphery of an upper end opening of a relevant liquid storage forms a horizontal plane of the same level as the liquid surface of the liquid in cases where a predetermined amount of liquid is put into the liquid storage which is a process corresponding to the liquid storage.例文帳に追加

液体収容部は、当該液体収容部に対応する工程の予め定められた量の液体が注入された場合に、当該液体収容部の上端開口の周縁部が液体の液面と同レベルの水平面を形成するように形成される。 - 特許庁

Thus, in the case of forming the wiring of different potential below the external terminal 8 in a semiconductor assembling process, the cracks generated in the insulation film 5 formed between the electrode 4 of an upper layer and the wiring layer 3 of a lower layer by the stress at the time of wire bonding are suppressed.例文帳に追加

このため、半導体組立プロセスにおいて外部端子８下に異電位の配線を有する場合、ワイヤボンド時の応力により発生する上層の電極４と下層の配線層３の層間にある絶縁膜５中に発生するクラックを抑制することが可能である。 - 特許庁

In the production process of the semiconductor device, a base 1 having a p-type semiconductor region 2 with nitrogen implanted in the upper face thereof is prepared, and a gate insulating film 5 and a gate electrode 6 are laminated in order sequentially on the base 1.例文帳に追加

本発明の一実施形態における半導体装置の製造方法は、窒素が上面内に注入されたｐ型の半導体領域２を有する下地１を準備し、この下地１上にゲート絶縁膜５およびゲート電極６をこの順で積層して形成する。 - 特許庁

The spin coater is constituted of an inner cup receiving a glass substrate to rotate and the outer cup surrounding the inner cup and used in a process for uniformly coating the glass substrate with ink and a flap mechanism 15 is provided on the upper surface of the distribution plate 12 closing the inner cup.例文帳に追加

ガラス基板を入れて回転する内カップと、その内カップを取り囲む外カップとで構成され、ガラス基板に対しインキを均一に塗布する工程で使用されるスピンコータであって、内カップに蓋をする整流板１２の上面にフラップ機構１５を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

Further, an organic polymer material film 30 for burying the hole pattern and accelerating an etching velocity except a dye component is formed, and its upper layer is coated with an organic antireflection material film 32, thereby forming a uniform film by a multi-stage process.例文帳に追加

さらに、ホールパターン埋め込み用で、かつ色素成分を除いてエッチング速度を大きくしている有機系高分子材料膜３０を形成し、その上層に有機系反射防止材料膜３２を塗布することにより、多段階プロセスで均一な膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for burning a ceramic formed body which can significantly enhance geometry accuracy to thereby minimize or eliminate post processing and minimize production cost by aiming at equal shrinkage in the upper part and the lower part of the formed body in a burning process.例文帳に追加

焼成過程における成形体の上部と下部とでの均等な収縮を図り、それによって形状精度を著しく高めることができ、そのため後加工は最小限でよく、あるいは後加工自体が不要となり、しかも製作コストを低く抑えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a biaxial stretched, blow molded bottle having a shape which is narrow-mouthed and yet has a satisfactorily expanded body by creating biaxially stretching and blow molding process that can fully make up for a restricted upper limit to a preform body wall thickness.例文帳に追加

本発明は、プリフォームの胴部の肉厚の上限に係る制限を十分に補完することができる２軸延伸ブロー成形方法の創出を課題とし、もって細口でありながら胴部を十分に膨出させた形状の２軸延伸ブロー成形壜体を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In the jointing process, the junction region 33 of the base 3 is directed downward, the base 3 is brought closer to the cap 4 from upper portion, the cap 4 is jointed to the base 3 by the jointing material 7, and an internal space 6 of a package 5 is formed airtight for sealing the internal space 6.例文帳に追加

ここでいう接合工程では、ベース３の接合領域３３を下方に向けて、キャップ４に対してベース３を上方から近づけて、キャップ４とベース３とを接合材７により接合し、パッケージ５の内部空間６を形成するとともに内部空間６を気密封止する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a cushion pad including the process of arranging a load bearing frame along the inner wall of an upper mold as an insert, and a mold for the same, which is capable of preventing the disposal of the frame and the generation of disadvantageous products due to the difference in dimension of the load bearing frame.例文帳に追加

耐力フレームを、上型の内壁に沿ってインサートとして配置する工程を含むクッションパッドの製造方法、及びこのための金型において、耐力フレームの寸法のバラツキによる該フレームの廃棄や不良品の発生を防止することができるものを提供する。 - 特許庁

In this process, in the upper of the part where the second group III nitride-based compound semiconductor 32 is grown laterally in epitaxial manner, propagation of through dislocation which group III nitride-based compound semiconductor layer 31 has is restrained and a region where through dislocation is reduced can be made in the filled steps.例文帳に追加

このとき第２のIII族窒化物系化合物半導体３２が横方向エピタキシャル成長した部分の上部は、III族窒化物系化合物半導体層３１が有する貫通転位の伝搬が抑制され、埋められた段差部分に貫通転位の軽減された領域を作ることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor memory element wherein deterioration of characteristics of a ferroelectric capacitor which is to be caused by increase of electron density and ion density can be prevented in a process, in which an interlayer insulating film which covers an upper part of the ferroelectric capacitor is etched by using a plasma.例文帳に追加

本発明は、プラズマを利用して強誘電体キャパシタ上部を覆う層間絶縁膜をエッチングする過程において、電子密度及びイオン密度増加による強誘電体キャパシタ特性低下を防止できる、半導体メモリ素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

An upper end of a process cup 40 enclosing a periphery of the spin base 21 is placed lower than a holding surface 21a of the spin base 21 and a cleaning liquid is supplied from a discharge head 31 to the holding surface 21a while the spin base 21 is being rotated at a speed ranging from 250 rpm to 350 rpm (a first rotation number).例文帳に追加

スピンベース２１を２５０ｒｐｍ〜３５０ｒｐｍ（第１の回転数）にて回転させつつ、スピンベース２１の周囲を取り囲む処理カップ４０の上端をスピンベース２１の保持面２１ａよりも低くして吐出ヘッド３１から保持面２１ａに洗浄液を供給する。 - 特許庁

The plasma chemical deposition apparatus is equipped with a process chamber comprising upper and lower chambers 40 and 42, a reaction gas discharge ring 44 for discharging a reaction gas, a susceptor 52 that has a heater at the inside and fixes a wafer 56 for rotating, a plasma correction ring 54, a vacuum pump 60, and a power supply.例文帳に追加

プラズマ化学蒸着装置は、上部チャンバ４０と下部チャンバ４２からなる工程チャンバ、反応ガスを放出する反応ガス放出リング４４、ヒーターが内設され、ウェーハ５６を固定して回転させるサセプタ５２、プラズマ補正リング５４、真空ポンプ６０及び電源を備える。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus with a non-contact floating conveyance function which can convey a substrate without touching the lower surface of the substrate and which can process both upper and lower surfaces or only the lower surface of the substrate without causing the contamination of the substrate or roller tracks while transferring the substrate at high speed and stably.例文帳に追加

基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

After appropriately forming a lower layer 2 of a multilayer wiring structure on a semiconductor substrate 1, an edge insulation film 14 is formed so as to cover a beveled portion 1a of the semiconductor substrate 1 and to have a thickness substantially equal to that of the lower layer 2, and then the surface of the upper insulation film 11a is planarized through a CMP process.例文帳に追加

半導体基板１上に、多層配線構造の下層部分２を適宜形成した後、半導体基板１のベベル部１ａを覆うように、下層部分２と略同等の膜厚に縁部絶縁膜１４を形成し、上部絶縁膜１１ａをＣＭＰで表面研磨して平坦化する。 - 特許庁

When the warming up of a catalist for purifying exhaust gas provided in an exhaust gas passage is required, a fuel is injected in the compression process so that an air-fuel ratio of the engine reaches the vicinity of a theoretical air-fuel ratio, and the catalist is warmed up by setting the ignition timing at the after-upper dead point.例文帳に追加

排気通路に設けられた排気ガスを浄化する触媒の暖機が要求されるときは、機関の空燃比が理論空燃比近傍となるように圧縮行程中に燃料を噴射すると共に点火時期を上死点後に設定することにより上記触媒の暖機を行なうようにする。 - 特許庁

In this method, a ring made of the same material with a crucible is set on the upper end of the crucible, and the location of a work coil relative to the crucible is varied during pulling and cooling of the cone part of the crystal, in the manufacturing method of a rare earth silicate single crystal ingot by Czochralski process by radio-frequency induction heating.例文帳に追加

高周波誘導加熱によるチョクラルスキー法による希土類珪酸塩単結晶インゴットの製造方法において、ルツボ上端にルツボと同じ材質でできたリングを設置し、該結晶のコーン部の引上げ時と冷却時において、ルツボに対するワークコイル位置を変化させる。 - 特許庁

To provide a multi-color thermal recording material which can detect the coating defect of the upper layer thermal coloring layer in a thermal coloring layer made of two layers in the multi-color thermal recording material, and to provide the manufacturing process of the multi-color thermal recording material which excludes a coating defect position.例文帳に追加

多色感熱記録体において、２層からなる感熱発色層中の上層の感熱発色層の塗工欠陥検出を可能した多色感熱記録体および塗工欠陥箇所を排除する多色感熱記録体の製造方法に関するものである。 - 特許庁

Then, the projected part projected upwards from the upper surface of the metal film 17 of the side wall 31 composed of a reaction product and formed on the inner side face of an etching part 18 in the process of the dry etching is removed by plasma treatment using gas containing fluorine elements.例文帳に追加

そして、前記ドライエッチングの過程でエッチング部位１８の内側面に形成された反応生成物からなる側壁３１の、金属膜１７の上面より上方に突出する突出部を、フッ素元素を含むガスを用いたプラズマ処理により行うこと除去する。 - 特許庁

To provide a new process comprising gasifying a solid fuel such as petroleum coke by a partial oxidation reaction in a gasification furnace comprising a combustion chamber in the upper part and a quenching chamber in the lower part and recovering continuously and efficiently unburned carbon formed in the combustion chamber, and an apparatus therefor.例文帳に追加

石油コークス等固体燃料を、上部が燃焼室からなり下部が急冷室からなるガス化炉で、部分酸化反応させてガス化させると共に燃焼室での生成未燃カーボンを連続して、かつ効率的に回収する新規な方法と装置を提供する。 - 特許庁

The amorphous silicon film is formed on the upper surface of an insulating substrate, the amorphous silicon film is crystallized in a sequentially solidifying process that a laser beam is partially irradiated using the poly-crystallization mask 300 having a slit for a transmission area to form a poly-crystalline silicon thin film.例文帳に追加

絶縁基板の上部に非晶質シリコン薄膜を形成し、透過領域のスリットを有する多結晶用マスク３００を利用してレーザービームを局部的に照射する順次的凝固工程で非晶質シリコン薄膜を結晶化して多結晶シリコン薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a process and apparatus for manufacturing a tape carrier for a semiconductor device, in which, when forming wiring patterns, a substrate hardly flaps during conveyance, etching treatment with higher accuracy and less variations is performed and the uniform wiring patterns can be formed over all the upper part of the substrate.例文帳に追加

配線パターンを形成する際、搬送時に基板のバタつきを低く抑え、より精度の高い、ばらつきのないエッチング処理を行うと共に、基板全体に配線パターンの均一化を図ることができる半導体装置用テープキャリアの製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

A photoresist film 5 is applied by photolithography to a laminate Josephson junction element base composed of a lower electrode 1 formed on a substrate 7, a insulation layer 3 formed thereon and an upper electrode 2 formed thereon, except a Josephson junction forming portion, thus performing a masking process.例文帳に追加

基板７上に下部電極１が形成され、その上に絶縁層３が形成され、さらにその上に上部電極２が形成されて成る積層ジョセフソン接合素子基盤に、フオトリソグラフィ技術を使ってジョセフソン接合させる部分を除き、フオトレジスト膜５を塗布してマスキング処理を行う。 - 特許庁

At least one of industrial water and dilute sulfuric acid aqueous solution containing sulfuric acid formed in the desulfurization process, is introduced to the upper parts of the respective catalyst layers 2 by a pipe 5, and continuously or intermittently sprayed through spray nozzles 6 over the catalyst layers 2.例文帳に追加

各触媒層２の上部にはそれぞれ、工水、および脱硫工程で生成した硫酸を含む希硫酸水溶液のうちの少なくとも１つが導管５により導入され、スプレーノズル等の噴霧用ノズル６によって、各触媒層２に上側から連続的にまたは間欠的に噴霧される。 - 特許庁

The process of a second embodiment comprises a step that the silicon substrate having the mesa encircled in the trench is formed, a step that a dielectric layer is formed in the trench abutted on the mesa, and a step that the silicon germanium layer is grown on the upper surface of the mesa by a selectively epitaxial growth method to form a silicon germanium base.例文帳に追加

第２実施例のプロセスは、トレンチに囲まれたメサを有するシリコン基板を形成するステップ、メサに隣接したトレンチに誘電層を形成するステップ、及び選択的エピタキシャル成長によりメサ上面にシリコン・ゲルマニウム層を成長させてシリコン・ゲルマニウム・ベースを形成するステップを含む。 - 特許庁

The primary reforming processing is carried out successively, on the preliminary reforming process; second ion implantation is performed with energy higher than that of the first ion injection to reform the organic SOG film to the target depth; and thus a lower reformed SOG film 52d is formed below the upper reformed SOG film 52u.例文帳に追加

予備改質工程に続いて本改質工程が行われ、第１のイオン注入より高いエネルギーで第２のイオン注入を行い、目的深さまでの有機ＳＯＧ膜を改質して、上部改質ＳＯＧ膜５２ｕの下に下部改質ＳＯＧ膜５２ｄを形成する。 - 特許庁

To provide a laminated label which can lessen such a situation that print of lower layer side ink and upper layer side ink move to either of the labels or are shifted from each other, and which can be efficiently printed by a printer performing multi-color printing through one process, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

下層側インキと上層側インキとが各々のラベルのどちらかに印刷が移ったりずれたり等の事態を少なくすることができるとともに、多色印刷を一回の工程で行うことができる印刷機により効率よく印刷することできるようにする - 特許庁

To provide a lightweight cellular concrete production process by which the size of cavities occurring on both the upper side and lower side of a reinforcing material arranged inside lightweight cellular concrete can be reduced, and accordingly, the lightweight cellular concrete can efficiently be produced without causing any reduction in product strength and any cavity-like cracks, due to the above cavities.例文帳に追加

軽量気泡コンクリート内部に配された補強材の上側と下側の両方の空洞を小さくすことができ、前記空洞に起因する製品強度の低下や、空洞状クラックの発生を生じることなく、軽量気泡コンクリートを効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the first forming process, a hollow cylindrical shaped blank is interposed between the first upper and lower dies and the thickness of the blank is varied and the end part in the axial direction is partially raised to form the projecting part 16 extending in the axial direction along the axial direction.例文帳に追加

第１成型工程では、中空円筒形状の素材を、第１上および下型間に挟持させ、素材の肉厚を変化させて、軸方向の端部を部分的に隆起させることにより、当該軸方向に沿って延出する軸方向突起部１６を形成する。 - 特許庁

An ultrasonic vibrator 34 is joined to all the lower surface of the plate 2, a thin film of processing liquid, which is formed between the surface (lower surface) of the substrate W and the opposed surface (upper surface) 5 of the plate 2, is given through the plate 2 ultrasonic vibrations of low energy sufficient enough to process the surface of the substrate W.例文帳に追加

プレート２の下面の全域には、超音波振動子３４が結合されており、前記表面と対向面５との間に形成された処理液の薄膜には、前記表面を処理するのに必要十分な低エネルギーの超音波振動がプレート２を介して付与されている。 - 特許庁

The shield case 2 is positioned with respect to the holder assembly 6 by the abutment of the lower end surface 24 onto the upper surface 38 of the projecting part 37, the case is positioned without using a temporal fixing jig and the deviation of the holder assembly 6 from the shield case 2 in position in an epoxy resin hardening process is prevented.例文帳に追加

シールドケース２は、突出部３７の上面３８に下端面２４が当接することにより、ホルダ組立体６に対して位置決めし、仮止用治具を使わずに位置決めが行なえ、エポキシ樹脂の硬化過程でホルダ組立体６とシールドケース２との位置がずれることを防止する。 - 特許庁

To solve the problem in which crack, or the like, is generated in the surface of an alumite layer by heat, or the like, generated during a wiring electrode formation process when a wiring electrode is formed after the alumite layer is formed on the upper surface of an aluminum substrate, and affects adversely on the insulation characteristics of a circuit board.例文帳に追加

アルミニウム基板の上面にアルマイト層を形成した後、配線電極形成を行った場合、配線電極形成のプロセス時に発生する熱等によりアルマイト層の表面にクラック等が発生し、回路基板の絶縁性特性に対して悪影響が生じる。 - 特許庁

In a process for forming electrodes on the surface of a substrate in this method of manufacturing the plasma display panel, identification marks 5A, 5B for identifying the upper, lower, right and left sides of the substrate 1 are formed at the corner parts of the substrate surface on which the electrodes 2 are formed, simultaneously with the formation of the electrodes 2.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造方法における基板表面に電極を形成する工程において、電極２の形成される基板表面の角部に、基板１の上下・左右を識別する識別マーク５Ａ，５Ｂを電極２の形成と並行して同時に形成する。 - 特許庁

The manufacturing apparatus for the optical elements can exert a torsional load to the glass/forming die boundary of an optical effective diameter by means of rotationally slidable cylindrical members fitted to the circumferences of a pair of the upper and lower forming dies, and the manufacturing method for the optical elements including this torsion loading process step is provided.例文帳に追加

上下一対の成形型の周囲に嵌合されている、回転摺動可能な円筒状部材により、光学有効径外のガラス／成形型界面にねじり負荷を与えることが可能な光学素子の製造装置、およびそのねじり負荷工程を含む光学素子の製造方法。 - 特許庁

Thereafter, in the dry etching process of the second stage, a mixture gas of CF_4 and O_2 is used, a bottom part 4R of the hole 4a is removed in a state where pressure in the reaction chamber is set to 50-1,000 Pa, and the upper surface of the carbon nanotube layer 3 is exposed.例文帳に追加

その後、第２段階のドライエッチング工程においては、ＣＦ_4およびＯ_2の混合ガスが用いられ、反応室内圧力が５０以上１０００Ｐａ以下に設定されている状態で、ホール４ａの底面部４Ｒが除去され、カーボンナノチューブ層３の上面が露出する。 - 特許庁

During the block manufacturing process, clamping ends 7a of the clamping reinforcement 7 approximately and horizontally arranged inside of an upper opened form 8 are pushed against the outside of the form 8, and they are held to project them slantly downward to provide tensile force to the whole clamping reinforcement 7 in the form 8.例文帳に追加

ブロック製造工程中において、上面開口型の型枠８内にほぼ水平状に配した締結用鉄筋７の各締結端部７ａを型枠８外で押圧し、斜め下方に向けて突出すべく保持して、型枠８内にある締結用鉄筋７全体に緊張力を付与する。 - 特許庁

Preferably, the process for backing work includes a step for cutting into a U shape along a cracked part of concrete, a step for applying primer into a channel cut into a U shape uniformly, a step for filling a sealing material into the channel, and a step for filling mortar into an upper part of the sealing material.例文帳に追加

好ましくは、下地処理を行う工程は、コンクリートのひび割れ部分に沿ってＵ形にカットする段階と、Ｕ形にカットした溝内に、プライマーを均一に塗布する段階と、溝内にシーリング材を充填する段階と、シーリング材の上部にモルタルを充填する段階とを含む。 - 特許庁

To provide the insulating film forming method of a semiconductor device which can improve the reliability of process and the electrical characteristics of element, by minimizing defect generation in the front surface of the insulating film, and by suppressing failures or the like, where a pattern formed on its upper portion becomes thin, or is cut.例文帳に追加

絶縁膜の表面における欠陥発生を最小化し、その上部に形成されるパターンが薄くなり或いは切れる不良などを抑制し、工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な、半導体素子の絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for operating a melting reduction furnace reducible of a coke ratio more than a conventional one when performing a melting reduction process by blowing metal powder from tuyeres by using a vertical type melting reduction furnace having a packed layer of a carbon-based solid reducing material and provided with the two-stage tuyeres in the upper and lower tiers.例文帳に追加

炭素系固体還元材の充填層を有し、羽口を上下二段に設けた竪型溶融還元炉を用い、金属粉を羽口から吹き込み、溶融還元処理する際に、従来以上にコークス比を低減できる、溶融還元炉の操業方法を提供すること。 - 特許庁

In a method for producing fuel rods with different composition in the axial direction in a vibration compaction process, two kinds of compositions of large diameter particles 10-1 for lower part and upper part and large diameter particles 10-2 for middle part are employed, and one kind of composition of small diameter particles 11 is employed.例文帳に追加

軸方向に組成が別れた燃料棒を振動充填法により製作する方法において、大粒径粒子の組成として下部用及び上部用の大粒径粒子１０−１と中間部用の大粒径粒子１０−２の２種類を、小粒径粒子１１の組成は１種類を採用する。 - 特許庁

To provide a method of heating and cooling a mold for resin encapsulation molding capable of performing resin encapsulation molding of an electronic component such as semiconductor element by using a small-size compression resin encapsulation molding apparatus capable of efficiently and quickly performing a heating and cooling process of both of upper and lower molds in a molding apparatus, and to provide an apparatus for heating and cooling the mold for resin encapsulation molding.例文帳に追加

成形装置における上下両型の加熱冷却工程を効率良く且つ迅速に行う、小型の圧縮樹脂封止成形装置を用いて半導体素子等の電子部品を樹脂封止成形することができる加熱冷却方法とその装置を提供する。 - 特許庁

A 3D-LUT with a lower upper limit value in the image data, after the color conversion process is selected (step S6), when an area in which the number of pixels with total of pixel value (total of YMCK) that are threshold value T1 or more is a threshold H1 or more is present among the plurality of ranges (YES in step S5).例文帳に追加

複数の領域の中で、画素値の合計（ＹＭＣＫの合計）が閾値Ｔ１以上の画素の数が閾値Ｈ１以上である領域が存在する場合には（ステップＳ５；ＹＥＳ）、色変換処理後の画像データの上限値がより低い３Ｄ−ＬＵＴを選択する（ステップＳ６）。 - 特許庁

In a manufacturing process of an automobile, the case on which an installation device base part is mounted is embedded in a lower part of an upper surface of a dashboard, and the width of an inside of the case is one size larger than that of the installation device base part to be kept constant so as to cope with the variation of the base part within a range of its space.例文帳に追加

自動車の製造工程で据え付け装置の台部を取り付けるケースをダッシュボード上部の面の下に埋め込み、また、ケース内側の広さを据え付け装置台部より一回り広くして一定にし、そのゆとりの範囲内で台部の変化に対応できるようにした。 - 特許庁

A main CPU stores up to a prescribed upper limit in a RAM by adding 1 to the number of reservations stored eve if an override flag is set and a shift to a new auxiliary game is overridden in a reservation storage process when a start winning opening switch senses a game ball.例文帳に追加

メインＣＰＵは、保留記憶処理において、無効フラグが設定されており、新たな補助遊技に移行させることが無効とされていても、始動入賞口スイッチが遊技球を検知すると、保留記憶数に１加算して所定の上限値までＲＡＭに記憶する。 - 特許庁

Accordingly, if a baking process is carried out under this condition, moisture contained in the organic flattening film 25 in which the luminous region 120 is formed is discharged from the upper surface after it is diffused in the organic flattening film 25 toward the non-luminous region 120 from the luminous region 110.例文帳に追加

従って、この状態でベーク処理を行えば、発光領域１２０に形成されている有機平坦化膜２５が含有している水分は、有機平坦膜２５内を発光領域１１０から非発光領域１２０に向けて拡散した後、上面から放出される。 - 特許庁