「upper process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

A splitting-groove resist-printing step for printing a resist for splitting grooves is provided between a development step and the wet-etching step in the photolithographic process for forming the thin-film resistance-member layer, so that the resist can cover a thin-film upper-electrode layer, resistance-member film-applied portions, and a photoresist, positioned within the splitting grooves.例文帳に追加

薄膜抵抗体層を形成するフォトリソプロセス工程における現像工程とウェットエッチング工程との間に、分割溝内に位置する薄膜上面電極層、抵抗体着膜部、フォトレジストを覆うように分割溝用レジストを印刷する分割溝用レジスト印刷工程を設けたものである。 - 特許庁

In addition, since the upper end of the front cover 3 left open is at a lower position than the body side feed part 50 (body side guide part 98), a process part 25 need not be lifted up to a height or higher not interfering with the body side feed part 50 (body side guide part 98), thus the large size of the apparatus can be avoided.例文帳に追加

また、開放状態における前面カバー３の上端が本体側の給送部５０（本体側案内部９８）よりも低い位置になるため、プロセス部２５を本体側の給送部５０（本体側案内部９８）と干渉しない高さ以上に持ち上げる必要がなくなり、従って装置の大型化を回避できる。 - 特許庁

In the insert molding process, a material of forming a recess-projection part 17 for increasing flowing resistance of a melting resin P, is used in an area opposed to an opening part 7c of the electrocasting part 7 among an upper end surface 14a of a metal mold 14 on the side for mainly storing the electrocasting part 7 among using molding metal molds 13 and 14.例文帳に追加

このインサート成形工程において、使用される成形金型１３，１４のうち、主に電鋳部７を収容する側の金型１４の上部端面１４ａのうち電鋳部７の開口部７ｃと対向する領域には、溶融樹脂Ｐの流動抵抗を増加させる凹凸部１７が形成されたものが使用される。 - 特許庁

A left camera 101 and a right camera 102 are attached symmetrical to each other at the inside upper positions of front glass 110 of a vehicle 100, and an image recognition processing/control unit 103 is contained in an engine room 112, for example, to process the monitor images of both cameras 101 and 102 and to assist the driver of the vehicle 100.例文帳に追加

車両１００のフロントガラス１１０の内側上部に対称的に取り付けられた左カメラ１０１および右カメラ１０２と、これら両カメラ１０１、１０２の監視画像を処理し、ドライバを補助するため、例えばエンジンルーム１１２内に配置した画像認識処理・制御ユニット１０３を有する。 - 特許庁

Because the irradiation of a laser beam onto the upper edges and side surfaces of the semiconductor chips 25-1, 25-2, 25-3, etc.after the dicing process for dividing the semiconductor wafer causes fusion or evaporation of the cut sections entailing elimination of the strain and chipping originated from the cut streaks, it is enabled to enhance the deflecting strength of a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体ウェーハを分割するためのダイシング工程の後に、半導体チップ２５−１，２５−２，２５−３，…の上辺及び側面に対してレーザー光線を照射することによって、切断面を溶融または気化して切削条痕による歪みやチッピングを除去するので、半導体チップの抗折強度を強くできる。 - 特許庁

To provide a V-type multicylinder engine provided with a recessed part corresponding to a cylinder bore of a pair of cylinder barrels on an upper part of a plurality of journal walls capable of improving accuracy and safety in a drilling process in drilling a through hole for preventing scattering of oil mist because of oil level flutter on the journal walls.例文帳に追加

複数のジャーナル壁の上部に一対のシリンダバレルのシリンダボアに対応した凹部が設けられるＶ型多気筒エンジンにおいて、油面のばたつきによるオイルミストの飛散を防止するための貫通孔をジャーナル壁に穿孔加工するにあたって、その穿孔加工精度の向上および穿孔加工の安定化を可能とする。 - 特許庁

This is a positioning jig for positioning respective constitution parts in the assembly process of a work and the jig main body is separated to an upper jig 10 and lower jig 30 and for the lower jig 30, the standard (standard post 34) for positioning the work constitution parts common to respective car kinds is summerized and provided.例文帳に追加

ワークの組み付け工程において各構成部品を位置決めするための位置決め治具であって、治具本体がアッパ治具１０とロア治具３０とに分離され、ロア治具３０に対しては各車種に共通のワーク構成部品を位置決め可能な基準（基準ポスト３４など）が集約して設けられている。 - 特許庁

In grinding using a planetary gear mechanism, a part of a glass disc 7 held on a carrier 13 is relatively moved to a lower surface plate 3 and an upper surface plate 4, and in that process, at least a part of the surface is passed on the outer peripheral side from the outer edges of the respective surface plates 3, 4.例文帳に追加

遊星歯車機構を用いて研削処理を行うにあたり、キャリア１３に保持されたガラスディスク７の一部は、下側定盤３及び上側定盤４に対する相対移動の過程において、少なくとも表面の一部をこれら各定盤３，４の外縁部よりも外周側を通過させるようにした。 - 特許庁

In a dry etching apparatus, high frequency electric power is applied to upper and lower electrodes 2, 4 from high frequency power sources 7, 10 to generate plasma and etch an object 3 on the electrode in a vacuum chamber 1 into which a process gas is introduced via a gas inlet 5 and the interior of which is maintained for a specific pressure by an exhaust unit 11.例文帳に追加

ドライエッチング装置において、ガス導入部５からプロセスガスの導入および排気手段１１により所定圧力に維持した真空処理室１内で上下の電極２、４に高周波電源７、１０より高周波電力を印加してプラズマを発生させ、電極上の被処理物３をエッチング処理する。 - 特許庁

A crop sorting/recovering device disposed just after the process of cutting a hot-rolled steel has a crop chute 7a, a crop pit 7c and a sampling instrument 8 disposed on the upper side of the crop chute, and the specific crops are sorted and recovered by taking out and putting in the sampling instrument.例文帳に追加

熱延鋼材の切断工程直後に配置されたクロップ分別回収装置であって、クロップシュート７ａと、クロップピット７ｃと、クロップシュートの上方に配置された抜き取り手段８とを有し、抜き取り手段を、抜き差しして特定クロップを分別回収することを特徴とするクロップ分別回収装置。 - 特許庁

In an extremely low speed area where it can not be judged with which cylinder respective pulsars generated by the crank shaft sensor are coped, the ignition action is carried out by the crank shaft sensor 4 near the upper dead point in the compression process of respective cylinders simultaneously in the entire cylinder at every time when the standard position detection pulse is generated.例文帳に追加

クランク軸センサが発生する各パルサがいずれの気筒に対応するものであるのかを判別できない極低速領域では、各気筒の圧縮工程における上死点付近でクランク軸センサ４が基準位置検出パルスを発生する毎に全ての気筒で同時に点火動作を行わせる。 - 特許庁

When any request relating to a second mobility management process and issued by an upper layer is received after the request relating to the first procedure is transmitted and before the acceptance message is received, a maintaining request to maintain the connection is transmitted to the node in response to the acceptance message.例文帳に追加

第１の処理に関する要求が送信された後であって承認メッセージが受信される前に、第２の移動管理処理に関する上位のレイヤーによって発行された何らかの要求が受信された場合、承認メッセージに対する応答として、接続を維持する維持要求がノードへ送信される。 - 特許庁

When a wiring trench 113 or a wiring trench and a connection hole are formed in an insulating film, in a forming process of a multilayer wiring having a metal wiring of copper or copper alloy, an edge cut region formed in a photoresist 105 for etching an upper layer insulating film 104 is shifted to the outer side of the insulating film 104.例文帳に追加

銅又は銅合金の金属配線を有する多層配線の形成工程において、絶縁膜に配線溝１１３もしくは配線溝及び接続孔をエッチング形成する際に、上層の絶縁膜１０４のエッチング用のフォトレジスト１０５に形成されたエッジカット領域を絶縁膜１０４の外側にずらす。 - 特許庁

In a dry etching process of the fine mask pattern of a membrane mask, a radical and an ion, containing at least one of nitrogen, carbon, and oxygen that do not contribute to pattering, are generated by plasma for supplying to the upper and side surfaces and foundation of the mask pattern, and a layer (membrane) for restraining the generation of stress is reliably formed on the side.例文帳に追加

メンブレンマスクの微細マスクパターンのドライエッチング工程において、パターニングに寄与しない窒素、炭素もしくは酸素の少なくとも一つ以上を含むラジカルやイオンをプラズマにより発生させて、マスクパターンの上面、側面および下地に供給し、側面に応力発生を抑制する層（膜）を確実に形成する。 - 特許庁

In addition, in the fourth process, improved connected bodies 5A, 5B connecting a plurality of neighboring improved wall bodies 4 are formed by agitating and mixing the upper end portions and lower end portions of unimproved soil in each cylindrical hole 3 surrounded by a plurality of improved wall bodies 4 together with the improving material by means of mixing apparatus.例文帳に追加

更に、第４の工程で、複数の改良壁体４により囲まれた各筒孔３の中の未改良土の上端部及び下端部を改良材と共に混合機により攪拌混合することにより、隣接する複数の改良壁体４を互いに接続する改良接続体５Ａ，５Ｂを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the powder compact 10 includes a compacting process for allowing both pestles 3, 4 to be abutted to carry out compacting of a raw material so that a predetermined gap G is generated between a circumferential edge 32a of a mold surface 32 of an upper pestle 3 and a circumferential edge 42a of a mold surface 42 of a lower pestle 4.例文帳に追加

上杵３の成形面３２の周縁部３２ａと下杵４の成形面４２の周縁部４２ａとの間に所定の間隙Ｇが生じるように両杵３，４を突き合わせて、原料を圧縮成形する圧縮成形工程を備える粉体圧縮成形体１０の製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element which minimizes TED (Transient Enhanced Diffusion) phenomenon of impurities which is generated in heat treatment process and other successive heat treatment processes for relaxing damage due to ion implantation and prevents lowering of upper film quality caused by outgassing.例文帳に追加

イオン注入による損傷を緩和させるための熱処理工程やその他後続の熱処理工程の際に発生する不純物のＴＥＤ（Ｔｒａｎｓｉｅｎｔ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ）現象を最大限抑え、アウトガス（ガス抜け）による上部膜質の低下を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a dielectric film whose principal component is PZT stabilizing a polarization property by adding rare earth ion or alkaline earth element to an upper part of wiring layers or between wiring layers made by applying a wiring layer forming process of a semiconductor device in a capacitor and a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

キャパシタ及びその製造方法に関し、半導体装置の配線層形成工程を適用して作製した配線層の上方或いは配線層間に希土類イオン、或いは、アルカリ土類元素を添加して分極特性を安定化したＰＺＴを主成分とする誘電体膜の形成を可能にしようとする。 - 特許庁

A short lead frame or a matrix lead frame 10 is supplied toward a resin molding mold, having upper and lower parts 1 and 2, an electronic component 12a as one of electronic components 12b mounted on the frame 10 is supplied sequentially to a mold cavity 5 and set therein, and then subjected to a resin-sealing molding process.例文帳に追加

短尺状リードフレームやマトリックス型リードフレーム10を上型１と下型２とから成る樹脂成形用金型側へ供給すると共に、そのリードフレーム10上に装着された電子部品12の内の一部の電子部品12ａを金型キャビティ５部へ順次に供給セットしてこれを樹脂封止成形する。 - 特許庁

The average particle diameter of the dispersed phosphorescent particles is preferably 100-300 μm, and the dispersed phosphorescent particles can be produced by scattering a mixed glaze powder containing 0.5-5% phosphorescent material from a sieve on the upper surface of the lower glaze layer by dry process and forming a baked glaze layer.例文帳に追加

本発明において、点在する蓄光粒子の平均粒子径は、100〜300μmで有るのがよく、このような点在する蓄光粒子は、乾式法により前記下釉層の上面に質量%で蓄光材料を0.5〜5%含有する釉薬混合粉をふるい掛けして琺瑯焼成層を形成させることによって作製することができる。 - 特許庁

In the light-emitting device, it is not necessary to form a diffraction grating in the organic EL element 3 in the process of forming the organic EL device, and a diffraction grating 6b formed with the diffraction grating 6b is formed separately from the organic EL element 3, and this diffraction grating 6b is only adhered closely to an upper face of a protection layer 4.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１を構造する過程で有機ＥＬ素子３内に回折格子を形成する必要がなく、回折格子６ｂが形成された回折格子フィルム６を有機ＥＬ素子３とは別個に作成し、この回折格子６ｂを保護層４の上面４ａに密接させれば済むことになる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the capacitor of a semiconductor element wherein degree of crystallinity and diameter of crystal grain of a ferroelectric film are made uniform, and data storage ability of the ferroelectric film is increased, in the manufacturing process of a capacitor in the structure of a metal film as a lower electrode, a ferroelectric film, and a metal film as an upper electrode.例文帳に追加

下部電極としての金属膜−強誘電体膜−上部電極としての金属膜からなるキャパシタの製造工程に当たり、強誘電体膜の結晶化度及び結晶粒径を均一にして強誘電体膜のデータ保存能を高める半導体素子のキャパシタ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of reducing film stripping or film floating of a source signal line afterward occurring caused by cutting of a CF glass substrate located on the upper part of a data signal input terminal, and capable of reducing the deterioration of yield of quality in the manufacturing process due to the film stripping or the film floating.例文帳に追加

データ信号入力端子の上部に位置するＣＦガラス基板の切断に起因して後発生する、ソース信号線の膜剥がれ、膜浮きの低減、および膜剥がれ、膜浮きによる製造工程における品質歩留まりの低下の低減を可能にする液晶表示装置を得ることを目的とする。 - 特許庁

Concretely, the water repellent film 110 made of fluororesin can be formed on the barrier ribs 17 by applying melted fluororesin by a spin coat method after forming a film 84 of barrier rib material on the upper face of the barrier rib 17, before removing a mask of a dry film 81, at a process of forming the barrier ribs by a thermal spray method.例文帳に追加

具体的には、溶射法による隔壁形成の工程において、基板１５に隔壁材料の膜８４を形成した後ドライフィルム８１のマスクを除去する前に、溶融したフッ素樹脂をスピンコート法で塗布すれば、隔壁１７の上面にフッ素樹脂からなる撥水膜１１０を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for substrate treatment which obtains successful connection between lower layer Cu wiring and upper layer Cu wiring in a damascene method by simultaneously carrying out reduction treatment to an oxidized Cu exposure surface and degassing an SOD film by the same process in spite of reducing wiring resistance by using the SOD film.例文帳に追加

本実施形態の基板処理方法によれば、ＳＯＤ膜を用いて配線抵抗の低減化を図るも、酸化したＣｕ露出表面の還元処理及び当該ＳＯＤ膜の脱ガスを同一工程で同時に実行し、ダマシン法における下層Ｃｕ配線と上層Ｃｕ配線との間の良好な接続を実現する。 - 特許庁

On a transparent insulating substrate 1, a titanium film as a lower layer 2a, an aluminum film as a middle layer 2b and a nitrogen containing titanium film as an upper layer 2c are laminated by a sputtering process by 30 nm, 100 nm, 50 nm respectively in this order and a gate electrode and gate signal line 2 are formed by a photolithography-dry etching technique.例文帳に追加

透明絶縁性基板１上にスバッタ法を用いて下層２ａにチタニウム膜、中間層２ｂにアルミニウム膜、上層２ｃに窒素を含有したチタニウム膜を順にそれぞれ３０ｎｍ、１００ｍｍ、５０ｎｍ積層し、フォトリソ・ドライエッチ技術を用いて、ゲート電極及びゲート信号線２を形成した。 - 特許庁

The cool-down step is a process wherein Ar gas of the flow rate of 400-800 sccm is introduced into the plasma etching device for 80 seconds or more, and the pressure in the etching device is made at 200-300 mTorr, and high-frequency voltage of 150 W or less is applied to an upper electrode and a lower electrode, respectively.例文帳に追加

クールダウンステップは、プラズマエッチング装置内に４００sccm以上８００sccm以下の流量のＡｒガスを８０秒間以上導入し、エッチング装置内の圧力を２００ｍTorr以上３００ｍTorr以下にし、上部電極及び下部電極それぞれに１５０Ｗ以下の高周波電圧を印加する工程である。 - 特許庁

A penetrating terminal member 15 of a collector 7 is integrally formed with an upper-face plate 11 by a drawing process (plastic deformation), and a long-size jointing plate 12 and the penetrating terminal member 15 connected to an electrode group are structured of one member to reduce the number of components for enhancement of electric performance and mechanical performance.例文帳に追加

絞り加工（塑性変形）により集電体７の貫通端子部材１５を上面板１１と一体に形成し、電極群に接続される長尺接合板１２と貫通端子部材１５を一つの部材で構成し、部品点数を減らして電気的性能及び機械的性能を向上させる。 - 特許庁

To provide a capacitor which minimizes the generation of such as polymer or conductive residue in a manufacturing process of an MIM (Metal-Insulator-Metal) capacitor, whereby, prevents a short circuit between an upper electrode and lower electrode or with neighboring conductive layers (wiring), and can improve the leakage of current and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタの製造工程時においてポリマーや導電性残留物の発生を最小化し、これにより、上部電極と下部電極との間または隣り合う導電層（配線）との短絡を防止し、リーク電流を改善させることができるキャパシタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold structure for a door trim capable of molding the upper part, ornament part and lower part of the door trim by one process wherein respective skin materials are thermally fusion-bonded to a predetermined resin substrate without damaging and wrinkling the skin materials and applying damage or defectiveness to the resin substrate, and its molding method.例文帳に追加

本発明は、ドアトリムにおいて、各表皮材が所定の樹脂基材に熱溶着され、表皮材に損傷やしわが生じたり、樹脂基材に損傷や不良を与えることなく、アッパー部、オーナメント部、ロアー部を一工程で成形することができる金型構造とその成形方法を提案する。 - 特許庁

When the extension lines of right and left occlusion planes in the upper jaws of a person to which the intraoral attachment implement is attached pass through a vertical line passing through the center point of an odontoid process of the second cervical vertebra, the intraoral attachment implement is manufactured so that a vertical difference between both passing points of the lines falls within 10 mm.例文帳に追加

口腔内装着器具を装着した装着者の上顎の左咬合平面の延長線と右咬合平面の延長線を、第二頚椎歯突起の中心点を通る鉛直線を通過させた際、両者の通過上下差が１０ｍｍ以内となるように作製することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cut-off member capable of easily carrying out a cut-off treatment process of a joint part between an exterior wall and the upper part of a projected wall mounted on the exterior wall surface of the exterior wall at approximately right angles to the exterior wall, a cut-off structure making use thereof and a mounting method of a cut-off plate.例文帳に追加

バルコニーの側壁用壁パネル等のように、外壁と、該外壁に対して略直交して前記外壁の外壁面に取り付けられた突出壁の上部との接合部分の止水処理工程を容易に行うことができる止水部材、これを用いた止水構造及び止水プレートの取り付け方法を提供する。 - 特許庁

To increase the holding strength of upper and lower glasses and obtain high watertightness particularly, sticking glass onto the whole surface of the wall surface of a building without using an opening frame such as a sash, to drain condensation liquid water on the inside to the outside, to easily improve the accuracy of manufacture for such a process and to enhance finished appearance.例文帳に追加

サッシのような開口枠を使うことなくビルの壁面の全面にガラスを貼りながら、特に、上下のガラスの保持強度を高め、高い水密性を得ることができ、更に、内部の結露水を外部に排水することができ、このようにするための製作精度を容易に高め、しかも、仕上り外観を高める。 - 特許庁

The method for manufacturing the element includes a process, in which a plurality of ferroelectric capacitors are formed on the semiconductor substrate on which the lower-part interlayer film has been formed, and after the hydrogen preventing spacer is formed on the side wall of the ferroelectric capacitor, the upper-part interlayer film and a plurality of plate lines are formed on the resultant structure.例文帳に追加

この素子の製造方法は下部層間絶縁膜が形成された半導体基板上に複数の強誘電体キャパシタを形成し、強誘電体キャパシタの側壁に水素防止スペーサを形成した後に、その結果物上に上部層間絶縁膜及び複数のプレートラインを形成する段階を含む。 - 特許庁

This method further includes a process 830 of sticking a part of the bottom face of the laminated layer to part of the upper face of the insulated substrate, exposing each electrode to at least one micro-channel, and sticking the laminated layer to the insulated substrate so that each conductive trace electrically comes into contact with at least one conductive contact pad.例文帳に追加

その方法は、ラミネート層の底面の一部が絶縁基板の上面の一部に接着され、各電極が少なくとも一つのマイクロチャネルに露出され、各導電性トレースが少なくとも一つの導電性接触パッドに電気的に接触するように、ラミネート層を絶縁基板に接着する過程８３０をさらに含む。 - 特許庁

In the laser cutting process to cut only the upper sheet of the two-ply metal sheets in the method for molding the metal sheet laminated molding, a laser surface removing method is employed instead of the laser cutting method and at least twice or more laser is irradiated to cut and an accurate lamination is achieved to mold a high degree of metal sheet laminated molding.例文帳に追加

金属シート積層造形物の造形方法における、2枚重ねた金属シートの上のシートのみのレーザ切断工程において、レーザ切断法の代わりにレーザ表面徐却法を用いて少なくとも2回以上レーザを照射して切断することにより、精密に積層でき、高精度の金属シート積層物を造形する。 - 特許庁

To provide a film forming method of spraying an aerosol jetted from a nozzle on a film formation object, while continuously changing a spraying position of the aerosol, to form a film which continuously covers an upper surface, an outer surface and a curved surface, which enables continuous formation of a high-quality film by a simple process.例文帳に追加

製膜対象物にノズルから噴射されたエアロゾルを吹き付けつつ、その吹き付け位置を連続的に変化させることで、上面と外側面と湾曲面とを連続的に覆う膜を生成する製膜方法であって、簡易な方法で連続的且つ良質な膜の形成を可能とする製膜方法を提供すること。 - 特許庁

The gate wiring layer (electrode film) of each transistor formed in the CMOS process is doubled and, in a pixel Tr in the vicinity of a PD 219, the gate electrodes of a transfer Tr 211 and a reset Tr 214 are formed by using the lower gate electrode film and the upper gate electrode film is utilized for the light shielding film of the FD 216.例文帳に追加

ＣＭＯＳプロセスで形成される各トランジスタのゲート配線層（電極膜）を２層化し、ＰＤ２１９の周辺の画素Ｔｒでは、転送Ｔｒ２１１とリセットＴｒ２１４のゲート電極を下層のゲート電極膜を用いて形成し、上層のゲート電極膜をＦＤ２１６の遮光膜に利用する。 - 特許庁

Since the optical wave-guide 10 is formed in the above constitution only by imparting a form of the structure part 22 on the upper face 14A of the light-guide medium 14, a troublesome and time- consuming process such as thin-film formation by vacuum deposition is not required to allow manufacturing in a short time.例文帳に追加

上記構成によれば、導光媒体１４の上面１４Ａにフレネルレンズ構造部２２の形状を付与するのみで導光路１０を形成することができるため、従来技術のように真空蒸着で薄膜を形成するなどの面倒で時間がかかるプロセスを要せず、短時間で製作することができる。 - 特許庁

In the operating piston 5, there are provided a passage 53 having one end opened to the spill chamber 6 and the other end opened the piezopump chamber 3 and a check valve 9, whereby fuel is let flow from the spill chamber 6 through the check valve 9 for the amount of fuel leaking from the piezopump chamber 3 to an upper relief groove 24, and in its process, air bubbles are let out.例文帳に追加

作動ピストン５内には、一端がスピル室６に他端がピエゾポンプ室３に開口する通路５３と、逆止弁９が設けてあり、ピエゾポンプ室３からその上方の逃がし溝２４へのリークする燃料分、スピル室６から逆止弁９を経て燃料が流入するようにし、その過程で気泡抜きを行う。 - 特許庁

The apparatus 1 for detecting the welding current is set up in the welding process of an electric resistance welding tube P, and equipped with a magnetic sensor 11 which is installed in the upper part of the groove M1 of the material M to be welded and a signal processing means 12 which detects the welding current flowing in the groove M1 on the basis of the output of the magnetic sensor 11.例文帳に追加

溶接電流検出装置１は、電縫溶接管Ｐの溶接工程に設置され、被溶接材料Ｍの開先部Ｍ１の上方に設置された磁気センサ１１と、磁気センサ１１の出力に基づいて開先部Ｍ１に流れる溶接電流を検出する信号処理手段１２とを備えている。 - 特許庁

To prevent an operation failure of a piezoelectric actuator 21 resulting from void parts 22b, 23b and 24b generated to a piezoelectric layer 23, etc., in a thin film formation process when the piezoelectric layer 23, an upper electrode layer 24 and a lower electrode layer 22 of the piezoelectric actuator 21 are formed into a thin film to make an ink jet head H small.例文帳に追加

圧電アクチュエータ２１の圧電層２３、上部電極層２４及び下部電極層２２を薄膜化してインクジェットヘッドＨを小型化する場合に、その薄膜形成過程で圧電層２３等に生じる空乏部２２ｂ，２３ｂ，２４ｂに起因する圧電アクチュエータ２１の作動不良の発生を、簡単な方法で防止する。 - 特許庁

Thus, acceleration time injection quantity annealing switch upper and lower limit reference values QRLAMAX and QRLAMIN are set in the vicinity of a proper acceleration time injection annealing switch central reference value QRLA set as described above (S360 and S370) and a process to decrease the increase speed of a fuel injection quantity is executed therebetween.例文帳に追加

したがってこのように設定された適切な加速時噴射量なまし切替中央基準値ＱＲＬＡの近傍に、加速時噴射量なまし切替上下限基準値ＱＲＬＡＭＡＸ，ＱＲＬＡＭＩＮを設定して（Ｓ３６０，Ｓ３７０）、これらの間で、燃料噴射量の増加速度を鈍化させる処理を行うことができる。 - 特許庁

A supporting rail 5 from which a bobbin-conveying body 7 hanging vacant bobbins E at an interval of bobbin wheel pitch is made to move from a bobbin delivery position where bobbins can be transferred between the body 7 and forks 30, 31 to an upper one where the rail 5 can couple with conveyance rails guiding the bodies 7 to a spinning process or the like by means of a lifter 9.例文帳に追加

空ボビンＥをボビンホイールピッチで吊下したボビン搬送体７を支承する支持レール５が、ボビン搬送体７とフォーク30，31との間でのボビンの受渡が可能なボビン受渡位置と、ボビン搬送体７を精紡工程等に導く搬送レールと接続可能な上昇位置とに、昇降装置９の作動により移動される。 - 特許庁

Gaps between both ends of the sleeve 2 fixed on a wall 1 and the outside surface of a pipe 3 are closed with closing bodies 4, an air vent pipe 8 is inserted in the upper part of the gap by penetrating at least one closing body 4 and the air existing in the gap is forcedly vented from the air vent pipe 8 in the process of the mortar filling.例文帳に追加

壁１に固定したスリーブ２の両端部と配管３の外周面の間を閉鎖体４で閉鎖し、少なくとも一方の閉鎖体４を貫通して間隙上部に空気抜き管８を挿入し、モルタル充填と共に間隙に存在する空気を空気抜き管８から外部に強制的に排出する。 - 特許庁