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へんこうけんびきょうの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 808



例文

基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。例文帳に追加

The method of evaluating the vapor deposition film measures a phase change by scanning vibratingly a probe of an atomic force microscope on a vapor deposition film surface of an optical member having the vapor deposition film on a base material, and evaluates the vapor deposition film, based on the measured phase change. - 特許庁

被手術眼を照明する照明光の角度が変更されたときに、好適な明るさの観察像を容易に得ることができる手術用顕微鏡装置を提供する。例文帳に追加

To provide a microscope for surgical operation, where an appropriately bright surgical observation image is readily obtained even when the angle of light illuminating the eye for operation has been changed. - 特許庁

半導体ウエハに付着した異物を検査する異物検査装置において、気圧および気温といった気象条件の変化によって感度変動が生じた場合、高感度を維持するために行う煩雑な焦点調整作業を不要とし、常に最高の感度を維持し、装置の稼働率の向上を実現する。例文帳に追加

To enhance the rate of operation of an inspection device while always keeping the maximum sensitivity by dispensing with complicated focus adjusting work performed so as to keep high sensitivity in the case where sensitivity variation is produced by a change in a weather condition such as atmospheric pressure and atmospheric temperature in a foreign matter inspection device for inspecting the foreign matter adhering to a semiconductor wafer. - 特許庁

低倍率の観察光学系と高倍率の観察光学系を対向させて配置することにより、レボルバでの対物レンズの転換による倍率の変換を行う必要がなく、マイクロマニピュレーションでの作業性の向上が図れる顕微鏡光学系を提供する。例文帳に追加

To provide a microscope optical system capable of improving workability in micromanipulation without the need of the change of magnification performed by the rotation of an objective lens by a revolver by disposing a high magnifying power observation optical system to face oppositely to a low magnifying power observation optical system. - 特許庁

例文

本発明は、主対物レンズ(20)の光軸(23)方向に焦点距離の変化のためにスライド可能なレンズ構成群(22)を備える主対物レンズ(20)と、対象物面(100)に向けられた照明ビーム路を形成し、該照明ビーム路を偏向するための照明偏向手段(43,45)を備える照明ユニットとを有する顕微鏡(10)に関する。例文帳に追加

This invention relates to the microscope 10 including: the main objective lens 20 having a lens configuration group 22 slidable to change the focal distance in the direction of an optical axis 23 of the main objective lens 20; and an illumination unit for forming an illumination beam path directed to an object surface 100 and having illumination deflecting means 43, 45 for deflecting the illumination beam path. - 特許庁


例文

照明装置の制御ポートを最小限に抑えつつ、接続された照明装置が変更された場合でも自動的に透過照明、落射照明、或いは落射透過照明に設定することのできる顕微鏡を提供すること。例文帳に追加

To provide a microscope capable of automatically setting transmitted illumination, epi-illumination, or transmitted epi-illumination even when a connected illuminating device is changed, while minimizing the number of control ports for an illuminating device. - 特許庁

環流用チューブや電位測定用パッチを付けた状態で、単一または複数の培養容器において高速に観察位置を変更できる顕微鏡装置の提供。例文帳に追加

To provide a microscope device capable of altering an observation position at high speed in a single or plurality of incubation containers, with a reflux tube or potential measurement patch attached thereto. - 特許庁

環流用チューブや電位測定用パッチを付けた状態で、単一または複数の培養容器において高速に観察位置を変更できる顕微鏡装置の提供。例文帳に追加

To provide a microscope apparatus capable of changing observation positions of a single or a plurality of culture vessels at a high speed in the state of attaching a tube for reflux and a patch for potential measurement. - 特許庁

これにより、精研削ないし研磨工具とレンズとの相対位置を変更調整することなく、所望の曲率半径の安定加工を容易に維持継続でき、品質不良および機械の調整作業回数の減少により、レンズ製造コストを削減できる。例文帳に追加

As a result, a stable processing at a desired curvature radius can be maintained and continued easily without regulating to convert the relative positions of the accurate grinding tool or the polishing tool and the lens, and the manufacturing cost of the lens can be reduced by reducing a poor quality and the regulating work numbers. - 特許庁

例文

本発明による共焦点走査顕微鏡は、光源と、多数のミラーを備え選択されたミラーにより前記光源からの光を点状の照明光に変換するデジタルマイクロミラー装置5を備えている。例文帳に追加

This confocal scanning microscope is equipped with a light source 1 and a digital micro-mirror device 5 which is equipped with a number of mirrors and which converts light from the light source 1 into dot-shaped illumination light by a selected mirror. - 特許庁

例文

大気中や溶液中を問わず、カンチレバーや溶液の違いやカンチレバーの反りなどによる、変位検出機構の光軸ずれを補正することが可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning probe microscope capable of correcting the optical axis shift of a displacement detection mechanism caused by the difference of a cantilever or a solution or the warpage of the cantilever in the atmosphere or the solution. - 特許庁

特定画像を含む画像を印刷するとき、特定画像を検出して、その特定情報から導き出された画像形成条件にしたがって原画像Aを変更する。例文帳に追加

When printing the image including the specified image, the specified image is detected and the source image A is changed according to the image forming condition derived from the specified information. - 特許庁

接合レンズを用いない単レンズのみの構成で、収差補正の性能と偏心公差への効きが良好な、高倍率(40倍程度以上)で開口数が0.9程度の、深紫外波長領域で使用することを目的とした顕微鏡用対物レンズを提供する。例文帳に追加

To provide an objective lens for a microscope constituted only of a single lens not using a doublet, excellent in the performance of aberration correction and effectiveness to eccentric tolerance, having high magnification (≥ about 40) and such numerical aperture as about 0.9 and used in a deep ultraviolet wavelength region. - 特許庁

走査型光学顕微鏡において、対物レンズおよび観察光学系の切り替えに伴って生じる画像の明るさの変化に対して、画像の明るさ調整を自動的に行う。例文帳に追加

To automatically adjust brightness of an image against the change of brightness of the image, which is caused by switching of the objective lens and the observation optical system, in a scanning optical microscope. - 特許庁

レーザー201と半導体202を備えたスピン偏極電子源等を搭載した走査電子顕微鏡を用いて、スピン偏極電子線203を照射した試料208からの反射電子209の強度やスピン偏極度を反射電子検出器210などを用いて測定することにより、試料208内部の高分子のカイラリティ構造や磁化ベクトルを可視化することができる。例文帳に追加

Upon using a scanning electron microscope which is loaded with a spin-polarized electron source having a laser 201 and a semiconductor 202, a chirality structure and magnetized vector of polymer inside a testpiece 208 can be visualized by measuring intensity and the degree of spin-polarization of reflected electrons 209 from the testpiece 208 which is irradiated by a spin-polarized electron beam 203 by using a reflected electron detector 210. - 特許庁

さらにこの走査型プローブ顕微鏡では、試料と探針の間で摩擦が生じる状態で相対的な横方向の微小変位を直交する2軸方向に独立に加え、2軸方向のそれぞれ摩擦に係るデータを取得する方法が実行される。例文帳に追加

In the scanning probe microscope, a method is performed, wherein a relative fine displacement in the lateral direction is applied independently in the orthogonal biaxial directions in the state where a friction is generated between the sample and the probe, and each data related to the friction in the biaxial directions are acquired. - 特許庁

観察対象とする内部欠陥を含む半導体結晶に対し、収束イオンビーム試料作製装置による電子顕微鏡観察用薄片試料の作製を高精度かつ短時間で行うことができ、該薄片試料を電子顕微鏡で観察することによって詳細に結晶欠陥の評価を行うことができる欠陥評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide a defect evaluation method capable of precisely and rapidly preparing a flaky sample for electron microscope observation by a converged ion beam sample preparing device in relation to a semiconductor crystal including an internal defect used as an observation object and capable of evaluating the crystalline defect in detail by observing the flaky sample with an electron microscope. - 特許庁

この結果、収差補正ユニットのフォーカス条件を一定に保っておくと、色収差および球面収差の補正条件を変更する必要がある。例文帳に追加

As a result, it is necessary to change a corrective condition of the chromatic and spherical aberrations when a focus condition of an abberation correction unit is kept constant. - 特許庁

この状態で照射光ビーム4をP1からP6まで走査して、得られる反射光信号7の変化を測定し、試験紙8の有無の確認及び基準位置検出を行う。例文帳に追加

The irradiation beam 4 is scanned from P1 to P6 under this condition, and a change of an obtained reflected light beam signal 7 is measured to confirm the presence of the test paper 8 and to detect the reference position. - 特許庁

FIB加工で薄片試料を作製する際に保護膜形成時に穴が形成されず穴からリデポすることを防ぎ、電子顕微鏡にて良好な像を取得することのできる薄片試料作製方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a thin sample preparing method which prevents an FIB (focused ion beam) processing from forming any hole and allowing any redeposition to originate in holes when forming a protection film in preparing a thin sample, in order to obtain a good image by using an electron microscope. - 特許庁

対物レンズの周辺の構造を簡素化しつつ液体の供給/回収機構を配置できる液浸対物レンズおよび顕微鏡観察装置を提供する。例文帳に追加

To provide an immersion objective where a liquid supply/recovery mechanism is arranged while its peripheral structure is simplified, and a microscopic observation device. - 特許庁

二人の観察者の手術用顕微鏡を覗き込む角度を、術部へのアプローチ方向に応じて可変とすることができ、かつ第2観察装置によって手術の作業空間が狭められることがない、作業性の良い二人観察用の手術用顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a surgical microscope for two-person observation with excellent operability, in which the angle of looking into the surgical microscope for two observers is made variable corresponding to the direction of approaching an operation part without narrowing the work space of surgery by a second observation device. - 特許庁

該警告は除去され、並行プログラムの1つまたは2つ以上のデータフロー解析方法を実行することによって導き出される同期プリミティブおよび不変条件からの制約を用いることによって、偽の警告が取り除かれる。例文帳に追加

The warnings are filtered to remove bogus warnings, by using constraints from synchronization primitives and invariants that are derived by performing one or more dataflow analysis methods for concurrent programs. - 特許庁

本発明では、蛍光キューブの波長特性に応じて、カラーからグレースケールに変換するときの色成分の割合を調整する蛍光顕微鏡システムを提供する。例文帳に追加

To provide a fluorescent microscope system configured to adjust a ratio of color components on changing from color to grayscale, in accordance with wavelength properties of a fluorescent cube. - 特許庁

対物レンズの瞳位置が変化しても高い照明の均一性を実現する落射蛍光照明装置、及び、それを備えた蛍光顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide an incident-light fluorescent illumination device that achieves high illumination uniformity even when the pupil position of an objective lens is changed, and to provide a fluorescent microscope having the incident-light fluorescent illumination device. - 特許庁

そして、共焦点レーザ顕微鏡システム100は、標本5と焦点位置の間の距離を変更する動作指示7の入力に連動して、画像情報6を増幅する。例文帳に追加

Then, the confocal laser microscope system 100 amplifies the image information 6, in conjunction with the input of an operation instruction 7 that alters the distance between the specimen 5 and the focusing position. - 特許庁

光軸に重量、形状とも対象型につくられた光学系部と試料位置決め機構を有す周辺部とからなる光学機械において、それぞれのコンポーネントを温度依存性がゼロに近いものを組み合わせて構成したことを特徴とする顕微鏡等のフォーカス安定性機構。例文帳に追加

The focus stabilization mechanism of the microscope, etc., comprises, constituting the optical machine consisting of optical system sections fabricated to a type symmetrical with the optical axis in both of weights and shapes and peripheral sections having a sample positioning mechanism, by combining respective components which has nearly zero for the dependence on temperature. - 特許庁

ライン幅変化、および水平、垂直バイアスまたは配向バイアスが種々異なる空間的位置でレチクルを基準にして計算または測定され、補正された露光量および部分可干渉性が所要の空間的位置で検出され、ライン幅の変動および基板におけるバイアスを補償する。例文帳に追加

The linewidth variance and horizontal and vertical biases or an orientation bias are calculated or measured at different spatial locations with reference to a reticle, and a corrected exposure dose and partial coherence is determined at the required spatial locations to compensate the variance in linewidth and bias on the printed substrate. - 特許庁

2 少額短期保険業者は、前項の規定による届出が第二百七十二条の二第二項第四号に掲げる書類に定めた事項の変更である場合には、当該書類に定めた保険料及び責任準備金の算出方法が、保険数理に基づき合理的かつ妥当なものであると認められることについて、保険計理人が確認した結果を記載した意見書を提出しなければならない。例文帳に追加

(2) Where the notification prescribed in the preceding paragraph pertains to the modification of any matter prescribed in the document listed in Article 272-2, paragraph (2), item (iv), the Small Amount and Short Term Insurance Provider shall submit a written opinion confirming the actuary's finding that the method of calculating the insurance premiums and policy reserve prescribed in the document is reasonable and relevant based on actuarial science.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

土被りが大きい地下構造物において、側壁の建込み誤差を吸収するとともに、工事に伴う地上占用規模及び期間を最小化し、周辺環境への影響を必要最小限度に抑制し、輸送及び現場作業を容易化し、構造強度の確保を図る。例文帳に追加

To absorb an erection error of a side wall, minimize the ground occupation area and the period associated with construction work, suppress influence on the surrounding environment to a requisite minimum, facilitate transportation and field work, and to secure structural strength, in an underground structure having large overburden. - 特許庁

半導体レーザ21の発光点位置(チップ面活性層)を、偏光ビームスプリッタ22を介して顕微鏡32およびCCDカメラ33からなる調整光学系により検出し、所定の位置からのずれを算出して半導体レーザ21の並進調整(XY方向位置調整)を行う。例文帳に追加

The position of the light emitting point (chip surface active layer) of the semiconductor laser 21 is detected by an adjusting optical system consisting of a microscope 32 and a CCD camera 33 through a polarizing beam splitter 22, and a deviation from a prescribed position is calculated to perform the translational adjustment (positional adjustment in X and Y directions) for the semiconductor laser 21. - 特許庁

2 肝炎から進行した肝硬変及び肝がんの患者に対する支援の在り方については、これらの患者に対する医療に関する状況を勘案し、今後必要に応じ、検討が加えられるものとする。例文帳に追加

(2) The level of support appropriate for patients of cirrhosis or liver cancer caused by hepatitis shall be reviewed as necessary in the future, by taking into consideration the circumstances surrounding medical care for such patients.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

共振体に設けられた反射手段64に入射光18を照射したときの光放射圧Pにより共振体の周波数特性が変化することを利用した光放射圧測定装置、共振周波数調整方法、開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡例文帳に追加

The optical radiation pressure measuring device, the resonance frequency regulating method, the aperture diameter inspection device and the near field microscope provided with the aperture diameter inspection device utilize that a frequency characteristic of the resonance body is changed by the optical radiation pressure P when incident light 18 is irradiated on a reflecting means 64 provided on the resonance body. - 特許庁

共焦点レーザ顕微鏡100において、情報記録部10は、駆動機構7で試料5および/または対物レンズ4を、互いの相対距離の増大方向または縮小方向のいずれかの方向へ変化させる特定移動方法により、光検出器6が検出した輝度情報と位置検出部8が取得した位置情報とを相互に関連付けて記録する。例文帳に追加

In a confocal laser microscope 100, an information recording part 10 is configured to record luminance information detected by an optical detector 6 and position information acquired by a position detection part 8 in association with each other by a specific moving method for changing a sample 5 and/or an objective lens 4 to either the increasing direction or reducing direction of their mutual relative distance by a driving mechanism 7. - 特許庁

地磁気センサ判定部14は、加速度センサ22で検出したデータにより装置の移動方向の変化に伴う加速度を算出し、算出した加速度及び距離センサ21で検出した移動距離に基づいて、装置の移動方位変化Δθaを算出する。例文帳に追加

An earth magnetism sensor determination part 14 computes the acceleration accompanying a change in the travel direction of a device based on the data detected by an acceleration sensor 22, and computes the travel azimuth change Δθa of the device based on the computed acceleration and the move distance detected by a distance sensor 21. - 特許庁

プロファイル変更部56は、入力部20から入力される圧縮条件、及び、共通色域定義部54から入力される共通色域に応じて、プログラムデータベース504から圧縮プログラムを受け入れる。例文帳に追加

The profile change section 56 receives a compression program from a program database 504 according to compression conditions inputted from an inputting section 20 and the common color gamut inputted from the common color gamut definition section 54. - 特許庁

直線偏光でないレーザを用いても効率よく照明でき、しかも波長の異なる複数のレーザ光を同時に標本に照明できる顕微鏡照明装置を提供する。例文帳に追加

To provide an illuminator for a microscope capable of efficiently illuminating a sample even by using a laser beam which is not linearly polarized light, and illuminating the sample simultaneously with a plurality of laser beams having different wavelength. - 特許庁

カンチレバーの背面を利用して構成される光テコ式の光学式変位検出系を備えた走査型プローブ顕微鏡でカンチレバーの背面での光軸設定を容易に行える光軸調整方法、この光軸調整法に適した光軸調整用補助具、およびこの光軸調整の構成を有する走査型プローブ顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide an optical axis adjusting method capable of easily setting an optical axis in the rear surface of a cantilever in a scanning probe microscope equipped with an optical lever type displacement detection system constituted by utilizing the rear surface of the cantilever, an optical axis adjusting auxiliary jig fitted thereto and the scanning probe microscope having optical axis adjusting constitution. - 特許庁

平成16(2004)年7月2日基幹路線の試験運行終了(この時に基幹路線は大久保駅(京都府)に延長されコミュニティバスから一般路線に変更される)。例文帳に追加

July 2, 2004: The test drive for the base line was finished (at this time, the base line was extended to Okubo Station (Kyoto Prefecture) and renamed from community bus to general line).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

スリット開口部を高精度に可変できるとともに、高い繰り返し精度も維持できるスリット幅調整装置および顕微鏡レーザリペア装置を提供する。例文帳に追加

To provide a slit width adjusting apparatus in which a slit aperture part is accurately variable and high repeating accuracy is kept and to provide a microscope laser repair apparatus. - 特許庁

助手用顕微鏡7の位置が変更されると、ギア60、61及び駆動軸62の動作により、光軸Oに直交する軸Aを中心に反射部材50が回転される。例文帳に追加

When the position of the assistant's microscope 7 is changed, the reflecting member 50 is rotated around an axis A orthogonal to the optical axis O by action of gears 60 and 61 and a driving shaft 62. - 特許庁

複数の印字媒体の中から選択された印字媒体に印字を行う印字装置およびレシート、割引券等、発行する印字物に応じて印字媒体の種類を変更することができる取引処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a printer printing on a printing medium selected from a plurality of printing media and a transaction handling device capable of changing the type of the printing medium in accordance with the printed material to be issued such as a receipt or a discount coupon. - 特許庁

ファイバホルダ14を保持するホルダ保持部15を向き変更機構20によって回転することで、前記ファイバホルダ14に固定された光ファイバ13の前記ファイバホルダ14から突出された先端の顕微鏡本体12に対する向きを容易に変更できる光ファイバ端面観察顕微鏡10を提供する。例文帳に追加

The optical fiber end face observation microscope 10 which is capable of easily changing the direction of the front end projected from a fiber holder 14 of the optical fiber 13 fixed to the fiber holder 14 with respect to a microscope body 12 by rotating a holder holding section 15 for holding the fiber holder 14 by a direction changing mechanism 20. - 特許庁

組み立て条件に応じて形状が変化する材料からなる部品を有する三次元モデルの設計方法、CAD装置及び記憶媒体において、少なくとも前記組み立て条件を含むパラメータに基いて、組み立て前の部品の形状寸法から組み立て後の変形状態の部品の形状寸法を自動的に求め、前記変形状態の部品の形状寸法を用いて三次元モデルを作成するように構成する。例文帳に追加

As for a designing method, a CAD device, and a storage medium for the three-dimensional model having components made of materials changing in shape according to assembly conditions, the shape sizes of components in deformed shape after assembly are automatically obtained from the shape sizes of the components before assembly and then used to generate the three- dimensional model. - 特許庁

研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて5μmエッチングし、面取り部に残留する加工変質層(キズなど)を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。例文帳に追加

After a polishing process ends, a top surface of the glass substrate is observed using an optical microscope after a pit defect which has an easy-to-observe size is obtained through 5 μm etching using an acid etching solution including hydrogen fluoride, nitric acid, etc., and then isotropic etching of a processing deformed layer (a flaw etc.) remaining at a chamfer part. - 特許庁

マイクロ波照射兼検出機構4は、上記照射ステップが実施された単位領域又は該単位領域をカバーする領域にマイクロ波を照射すると共に、該照射されたマイクロ波の反射マイクロ波を検出し、かつ、該反射マイクロ波の強度及び該強度の時間的変化を測定する。例文帳に追加

A unit region is irradiated by microwave projecting/ detecting mechanism 4 projects microwaves, where an irradiation step is performed or to region which covers the unit region, while a reflected microwave of the projected microwave is detected, and the intensity of the reflected microwave and the intensity change on time base are measured. - 特許庁

肌焼鋼において光学顕微鏡で白く見える母相と異なった結晶粒の大きさが数10nmに微細化した組織変化の発生を抑制し、高振動・高荷重下でも優れた寿命、特に転動寿命を有する鋼およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce steel in which the generation of the change of the structure in which the size of crystal grains different from a mother phase whitely shown by an optical microscope is refined to several tens nm is suppressed in case hardening steel and having an excellent life, particularly, an excellent rolling life even under high vibration and high loads and to provide a method for producing it. - 特許庁

走査顕微鏡としては、対物レンズ(30)のひとみ(28)内に少なくとも1つの照明光線・回転点の像を軸方向変位させるための装置が設けられていること。例文帳に追加

As the scanning microscope, a device for axially displacing the images of at least one illumination ray and rotating point within the pupil (28) of the objective lens (30) is provided. - 特許庁

簡易な方法で安価に平面観察用半導体薄片試料を作製することを可能にする集束イオンビーム加工装置の試料ステージおよびこの試料ステージを用いた透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法の提供。例文帳に追加

To provide a sample stage for a focused ion beam processing device, using an easy method for inexpensively making a plane-observed semiconductor thin sample, and to provide a method using the same for making the transmission type electron microscope plane-observed semiconductor thin sample. - 特許庁

例文

外界からの影響による磁気変動量により、電子ビームの飛跡が悪影響されない電子顕微鏡および電子ビーム露光装置等の電子ビームを制御して利用する電子ビーム制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam control device for controlled use of an electron beam, such as an electron microscope or an electron beam aligner, that protects a track of an electron beam from an adverse influence of an externally influenced magnetic variation. - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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