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マーク保持の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 151



例文

検知用マーク14は、その保持力を越える交番磁界が印加されると、磁化反転が生じ、その時の磁界の強さの変動を、磁気センサ26により電気的に検知する。例文帳に追加

When the alternate magnetic field exceeding the coercive force is applied to the detecting mark 14, the magnetization reversal is generated, and a magnetic sensor 26 electrically detects a change of magnetic intensity generated at that moment. - 特許庁

画像変換手段5が設定されたパラメータに従って変換前画像Aを変換した後、パラメータ埋込手段6が保持されたパラメータをウォーターマークとして画像に埋め込み、変換後画像Bを得る。例文帳に追加

The method further comprises the steps of transforming the image A before the transformation according to the parameter set by the image transforming means 5, and embedding the held parameter by a parameter embedding means 6 as a watermark in the image, thereby obtaining the image B after the transformation. - 特許庁

プリンタに識別させるというマークとしての本来の機能を保持しつつ、ロール紙に予め印刷されている絵模様を汚さず、しかも、そのデザインを損ねることのないロール紙を提供すること。例文帳に追加

To provide a roll paper, in which a picture figure, printed previously on a roll paper, will not be spoiled while retaining an essential function as a mark discriminated by a printer and, further, the design of the same will not be spoiled. - 特許庁

面付装置1は、刷版及び用紙及びページの各サイズを変数(パラメータ)とし、マークの配置位置を各サイズの変数を用いた計算式として保持して面付テンプレート57を管理する。例文帳に追加

The imposition device 1 manages an imposition template 57 by rendering sizes of printing plates, sheets and pages into variables (parameters) and holding the arrangement positions of marks as calculation formulae using the parameters in the respective sizes. - 特許庁

例文

部品認識カメラ51によってテンプレート48を位置調整して吸着ヘッド33に保持されているチップ60に対して位置合わせをし、このときのテンプレート48の外部マーク68を記憶しておく。例文帳に追加

A component recognition camera 51 is used to adjust the position of a template 48 to be aligned to a chip 60 supported by a suction head 33 and an outer mark 68 of the template 48 at that time is memorized. - 特許庁


例文

ウエハステージ23A上にウエハホルダ24Aを介して、フォトレジストが塗布されているウエハW1を保持し、ウエハホルダ24Aの外周部に2次元の基準マーク34A,34Bを形成しておく。例文帳に追加

A wafer W1 that is coated with photo resist is retained on a wafer stage 23A via a wafer holder 24A, and two-dimensional reference marks 34A and 34B are formed at the outer-periphery part of the wafer holder 24A. - 特許庁

眼鏡レンズLを取り付けた状態の眼鏡レンズ保持部232D3を装着する器具本体30に、眼鏡レンズLに予め設けられたレンズの基準印Mと照合するための照合マーク3Mを形成する。例文帳に追加

A checkup mark 3M for checking up with a reference mark M of the lens previously disposed on the spectacle lens L is formed on an appliance body 30 for loading the spectacle lens holding section 232D3 mounted with the spectacle lens L. - 特許庁

十分な強度を保持しながら、サンドブラストの施工現場等においても識別マーク用の小孔の形成を容易に行えるメタルマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a metal mask for easily forming a small hole for an identification mark even at a construction site of a sand blast, while holding sufficient strength. - 特許庁

その為、ボンディングツール14aが保持している電子部品Pのアライメントマークと実装対象物7aのアライメントマークとを二視野カメラ28で同時認識し、かつ、その後、隣りの認識位置へ移動すると共にその間において電子部品Pと実装対象物7aとが所定精度に位置合わせせしめられ、次いで、ボンディングツール14aが下方へ移動してボンディングする。例文帳に追加

Therefore, an alignment mark of an electronic component P held by the bonding tool 14a and an alignment mark of a mounting object 7a are recognized simultaneously by the two-viewpoint camera 28 and thereafter moved to a next recognition position and the electronic component P and the mounting object 7a are aligned to a prescribed precision meantime, and then the bonding tool 14a moves down and is subjected to bonding. - 特許庁

例文

印刷ステージに保持される基板Wにマスクシートを重装し、このマスクシートの開口を介して基板Wにペーストを塗布するとともに、この印刷動作に先立ち基板Wに設けられる複数のマークM1,M4をカメラにより撮像し認識するようにされた印刷装置のマークM1,M4の認識方法である。例文帳に追加

The mask sheet is superposed on the substrate W held on a printing stage and paste is applied to the substrate W through openings of the mask sheet, while images of a plurality of marks M1, M4 provided on the substrate W are picked up by a camera and recognized, prior to this printing operation. - 特許庁

例文

この状態にて、マーク領域500内の座標P1の位置で、座標カーソル51の入力操作(マウスクリック)が行われると、文字カーソル50は7行目に保持されたまま、座標P1に対応する文字行が5行目であると特定され、5行目の行頭付近にブックマーク55が表示される。例文帳に追加

When an input operation (mouse click) of the coordinate cursor 51 is executed in a position of coordinates P1 within the mark area 500 under this condition, a character line corresponding to the coordinates P1 is specified to be located in the fifth line, while the character cursor 50 is held in the seventh line, and the bookmark 55 is displayed in the vicinity of the line head in the fifth line. - 特許庁

スキャナ装置を保持し、また、デジタル画像が保存されたメモリカードから、画像を印刷することが可能な画像形成装置において、画像選択用のマークシートを印刷し、ユーザーにマークシートに記入させ、これを読み込むことで容易な印刷を提供する場合、メモリカードの中から画像を消去しても、所望の画像を印刷することが可能な装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image forming apparatus having a scanner and capable of printing an image from a memory card storing digital images, which can print a desired image even if an image is deleted from the memory card when printing a mark sheet for image selection, allowing a user to fill in the mark sheet and reading the mark sheet to ensure easy printing. - 特許庁

遠隔制御システムを備える電化機器1は、インターネットを介して通信を行なう通信装置8と、電化機器の制御情報および状態情報データをマークアップランゲージデータに変換し、保持するRAM4とを備え、インターネット網23を介した外部からのアクセス者へマークアップランゲージデータを閲覧させることを特徴とする。例文帳に追加

An electric appliance 1 having the remote control system comprises a communication means 8 communicating via the Internet and a RAM 4 converting control information for the appliance 1 and state information to markup language data and holding it, and brings the data into browsing for accessing persons from the outside via the Internet network 23. - 特許庁

ウォーターマーク等の付加画像を印刷対象画像に合成し印刷処理する場合に、付加画像印刷データを一時的に保持する保持メモリを、そのメモリ容量内で効率よく利用し、たとえカラー頁とモノクロ頁とが混載した混載印刷であっても、印刷速度の低下を極力抑えて、印刷装置の有するパフォーマンスを最大限発揮できる印刷制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a print controller which, when an additional image such as a watermark is combined with a print image to be printed, exhibits maximum performance of a printer while suppressing reduction in printing speed as much as possible even when pages are printed in both color and monochrome, by efficiently utilizing a memory for temporarily holding additional image print data within its memory capacity. - 特許庁

固定スキッド3と可動スキッド2を有し、鋼片1を該固定スキッド3と可動スキッド2で交互に保持し、可動スキッド2での保持時に鋼片1を順次前進させながら鋼片を加熱するウォーキングビーム式加熱炉において、スキッドマークを低減するウォーキングビームの制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a control method of walking beam reducing skid mark, in a walking beam type heating furnace, in which fixed skid and movable skid are provided, and a steel slab is alternately held with the fixed skid and the movable skid and the steel slab is heated while advancing the steel slab in order at the holding time with the movable skid. - 特許庁

テープ材1を被巻き付け部に伸長状態で巻き付けて、その被巻き付け部を加圧状態に保持可能な伸縮テープであって、テープ材の巻き付け外周側に、そのテープ材の伸長に伴って変形するマーク6を、所定の加圧状態に保持可能な伸長状態において所定形状に変形するように設けてある。例文帳に追加

In this elastic tape for winding a tape material 1 on the wound part in an expanded condition and keeping the wound part in the pressurized condition, a mark 6 deformed in accompany with the expansion of the tape material at a winding outer peripheral side of the tape material, is deformed into the predetermined shape in a state of expansion where the predetermined pressurized condition can be held. - 特許庁

ウェブを固定、保持可能な第一テーブル7と、カット溝9aを備え且つウェブを固定、保持可能な第二テーブル9とを、両者の間に通路8を形成するように配置し、その下方にウェブを搬送するニップロール11を配置し、上方にウェブのレジマーク17を検出するカメラ14を配置する。例文帳に追加

A first table 7 capable of fixing and holding a web and a second table 9 having a cut groove 9a and capable of fixing, holding the web are arranged so as to form passage 8 between them, nip rolls 1 for carrying the web are arranged under the passage 8, and a camera 14 for detecting register marks 17 of the web is arranged over the web. - 特許庁

XYテーブル1の上面に載せた保持シート4における多数個の半導体チップ5のうち不良品マークが入っていない一つの半導体チップ5を選択して、この半導体チップ5を、半導体チップ保持シートからピックアップするピックアップ手段6に対して位置決めする場合に、その位置決めの精度と、速度の向上とを図る。例文帳に追加

To attain precision in positioning and enhancement in a speed when one semiconductor chip which does not contain an inferior mark out of a plurality of semiconductor chips in a retaining sheet mounted on an upper face of an XY table is selected, and this semiconductor chip is positioned with respect to pick-up means which picks it up from the semiconductor chip retaining sheet. - 特許庁

複数のチップ20を保持する支持基板30を有するマスク10において、アライメントマーク33、34は、板状ガラスからなる支持基板30の厚さ方向の途中位置にレーザ光を照射してガラスを改質させることにより形成されている。例文帳に追加

In the mask 10 having the supporting substrate 30 holding a plurality of chips 20, alignment marks 33 and 34 are formed by irradiating a position on the way in the thickness direction of the supporting substrate 30 consisting of a sheet glass to modify the glass. - 特許庁

マウント基板10上にエッチングで形成され光学部品15を装着する位置決め用溝11と、マウント基板10上に設けられ、位置決め用溝11との位置関係が正確に保持されたアライメントマーク12とを備えた構成とする。例文帳に追加

The mechanism includes a positioning groove 11 for mounting therein an optical component 15 formed on a mount substrate 10 by etching and alignment marks 12 provided on the substrate 10 with accurately maintaining positional relation with the groove 11. - 特許庁

データ入力シート処理装置30は,受信したドットパターンを認識処理し,対応情報をもとに,デジタルペン20でマークされたチェック欄の位置に一致する識別情報を取得して,識別処理した入力データに識別情報を対応付けて保持する。例文帳に追加

The data input sheet processor 30 performs recognition processing of the received dot pattern, acquires the identification information according with the position of the check column marked by the digital pen 20 based on the correspondence information, associates the identification information to input data performed with identification processing, and holds it. - 特許庁

次に電子部品搭載装置1に固定された治具基板20上の搭載基準マーク21a、bの位置をCCDカメラ17により認識し、ノズル13aに保持された治具QFP30の位置をCCDカメラ16により認識する。例文帳に追加

Then the positions of mounting reference marks 21a and 21b on the tool substrate 20 fixed to the mounting device 1 are recognized by means of the CCD camera 17 and the position of the tool QFP 30 is recognized by means of another CCD camera 16. - 特許庁

電源がオンした状態でモード切替を行う場合は、電源・モード選択スイッチ17をモード選択位置に保持した状態で上下方向に回動操作し、指標17aを切り替えたい操作モードを示すモードマークに合わせる(C)。例文帳に追加

To perform mode change-over operation in the power-on state in Fig.(C), the power/mode selection switch 17 is turned in the vertical direction while holding the switch at the mode selection position, to make the indicator 17a align with a mode mark showing a desired operation mode to be changed over to. - 特許庁

排出口18aの開口面積は、流入口の開口面積よりも小さく構成されており、冷却通路において通水に異常が生じ、冷却水の戻り流量が減少している場合には、冷却水の液面がマーク11Aの位置よりも鉛直下方位置に保持される。例文帳に追加

The opening hole area of the discharging hole 18a is made smaller than the opening hole area of the flow-in hole, and in case any abnormality is caused in water passing in the cooling passage and the returned flowing quantity of the cooling water is reduced, the surface of the cooling water is held to the perpendicularly lower position from a mark 11A position. - 特許庁

上板12と下板14とはいずれも透明であるため、治具10が基板40を保持した状態で、第1〜第4アライメントマークM_1〜M_4は基板表面40U側と基板裏面40D側との両側から認識できる。例文帳に追加

Since the upper plate 12 and the lower plate 14 are transparent, in a state with the fixture 10 holding the substrate 40, the first to the fourth alignment marks M_1-M_4 can be recognized from both sides of the side of a substrate surface 40U and the side of a substrate rear face 40D. - 特許庁

撮像方向が固定された撮像デバイス120を用い、その撮像デバイス120への入光状態を、回路基板に付された基板基準マークからの入光状態と、装着装置に保持された電気部品54からの入光状態とに変更可能な装置を設ける。例文帳に追加

An apparatus in which a light input state to an imaging device 120 can be changed to a light input state from a board reference mark attached to a circuit board and a light input state from an electric component 54 held by a mounting unit, the imaging device 120 having a fixed imaging direction, is provided. - 特許庁

また、保持手段を面位置計側方向と垂直な面内で180度回転させる工程と、前記基準マークとの相対位置に基づき前記所定場所を前記照射位置に位置合わせして第2の面位置計測を行う工程S140とを有する。例文帳に追加

Further, used are a step for rotating the holding means to 180 degrees in a vertical plane to the measuring direction, and a step S140 for aligning the predetermined location to the irradiation position based on a position relative to the reference mark to perform a second surface position measurement. - 特許庁

部品実装装置(実装機1)は、可動テーブル32に保持されて実装位置に運ばれる基板P上のマークを、実装位置上方に配置したヘッドユニット45に搭載される第1撮像装置49aにより撮像することにより、基板Pの位置を認識するように構成される。例文帳に追加

This component mounting apparatus (a mounter 1) is configured to recognize the position of the substrate P by imaging a mark on the substrate P which is held on a moving table 32 and moved to a mounting position with a first image pickup device 49a provided on a head unit 45 located above the mounting position. - 特許庁

移設前後の、基準マーク6a〜6cの3次元位置測定結果を用いて、ロボット1と保持装置5の相対位置関係の変化を求め、その変化分を補償するデータ修正を移設前に有効であった教示点データに対して実行する。例文帳に追加

From the three-dimensional position measurement results of the reference marks 6a to 6c before and after the relocation, a change in relative positional relation between the robot 1 and the holding device 5 is computed, and teaching point data effective before the relocation are corrected to compensate for the change. - 特許庁

駆動制御手段47は、選択ページが印刷される際に、種類選択手段6が取得しているスタンプマークが属性取得手段7が記憶保持している属性に基づいて印刷されるように、カラープリンタ15の駆動を制御する。例文帳に追加

When the selection page is printed, a driving control means 47 controls the driving of a color printer 15 so as to print the stamp mark acquired by the kind selecting means 6 on the basis of the attributes stored in the attribute acquiring means 7. - 特許庁

露光装置は、投影光学系13の一方の側に配置され、転写パターンを有するレチクルRを保持するとともに位置合わせ用の基準プレートSPを具備したレチクルステージRSTと、他方の側に基準マークFMを具備したウエハステージWSTを有する。例文帳に追加

The aligner has a reticle stage RST which is disposed on one side of a projection optical system 13, holds a reticle R having a transfer pattern and is equipped with an alignment reference plate SP, and a wafer stage WST equipped with a reference mark FM on the other side. - 特許庁

円形シート状のフィルタエレメント211と、フィルタエレメント211を保持する金属製リング状のエレメントホルダ212と、を備えたフィルタであって、エレメントホルダ212の外周面には、自身の属性情報を指標する属性マークMがエレメントホルダの外周面に形設される。例文帳に追加

The filter constituted of a circular sheet filter element 211 and a ring-shaped element holder 212 made from metal that holds the filter element 211 is characterized in that an attribute mark M indicating its attribute information is formed and disposed on the outer circumferential face of the element holder 212. - 特許庁

外周に結晶方位を示すマークを備えた半導体ウエーハの裏面を研削又は研磨する半導体ウエーハの加工装置であって、回転可能な保持テーブルを有し、半導体ウエーハのマークを検出して半導体ウエーハを所定の向きに位置付ける位置合わせ手段と、研削又は研磨された半導体ウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置を備えている。例文帳に追加

The processing apparatus for the semiconductor wafer which grinds or polishes a reverse surface of the semiconductor wafer having a mark indicating crystal orientation at an outer periphery includes a positioning means having a rotatable holding table and detecting the mark of the semiconductor wafer to position the semiconductor wafer in the predetermined direction, and a spinner cleaning device having a spinner table for cleaning or spin-drying the semiconductor wafer having been ground or polished. - 特許庁

実用新案の出願時にデンマークにおいて考案を業として実施していた者は,登録実用新案にも拘らず,その全般的性質を保持しながら当該実施を継続することができるが,ただし,当該実施が出願人又はその法的前任者に関して明白な濫用を構成しないことを条件とする。例文帳に追加

Any person who, at the time when the utility model application was filed, was exploiting the creation commercially in this country may, notwithstanding a registered utility model, continue such exploitation retaining its general character, provided that the exploitation did not constitute an evident abuse in relation to the applicant or his legal predecessor.  - 特許庁

登録を奪われた者は,その者が善意でデンマークにおいて考案を業として実施していたか又は当該実施のため実質的な準備をしていたときは,適正な補償を受け,かつ,その他の点での適切な条件により,その全般的性質を保持しながら既に開始していた実施を継続し又は計画した実施を行う権原を有する。例文帳に追加

The person who is deprived of the registration shall, if he in good faith has exploited the creation commercially in this country or has made substantial preparations for such exploitation, be entitled, for a reasonable compensation and on reasonable terms in other respects, to continue the exploitation already commenced or to implement the planned exploitation retaining its general character.  - 特許庁

棚出上げされた出願の審査及びその他の処理の再開のための期限到来後,出願の拒絶後,又は実用新案登録の失効の公告後で,ただし,(1)に基づく公告前に,善意でデンマークにおいて考案の業としての実施を開始したか又は当該実施のため実質的な準備をした者は,その全般的性質を保持しながら当該実施を継続することができる。例文帳に追加

Any person who, after the expiry of the time limit prescribed for resumption of the examination and other processing of a shelved application or after the refusal of the application or after the advertisement of the lapse of the utility model registration, but prior to the advertisement under subsection 1, in good faith has commenced a commercial exploitation of the creation in this country or has made substantial preparations for such exploitation may continue the exploitation retaining its general character.  - 特許庁

特許出願がなされた時に,デンマークにおいてその発明を業として実施していた者は,付与された特許に拘らず,当該実施をその全般的性質を保持しつつ継続することができる。ただし,当該実施が出願人又はその法律上の前権利者に対する明白な濫用を構成していなかったことを条件とする。例文帳に追加

Any person who, at the time when the patent application was filed, was exploiting the invention commercially in this country may, notwithstanding the grant of a patent, continue such exploitation retaining its general character, provided that the exploitation did not constitute an evident abuse in relation to the applicant or his legal predecessor.  - 特許庁

特許を剥奪された者がデンマークにおいて善意でその発明を業として実施していた場合又は当該実施のための実質的な準備をしていた場合は,その者は,適切な補償と引き換えに,かつ,その他の点に関する適切な条件で,その全般的性質を保持しつつ,既に開始している実施を継続するか又は計画した実施を実行する権利を有する。例文帳に追加

The person who is deprived of the patent shall, if he in good faith has exploited the invention commercially in this country or has made substantial preparations for such exploitation, be entitled, for a reasonable compensation and on reasonable terms in other respects, to continue the exploitation already commenced or to implement the planned exploitation retaining its general character.  - 特許庁

本発明の目的は、写真印画紙に対する改良された接着性によってバックマーク保持特性並びにスプライス性を提供し、当該産業の厳しい要求条件を満たす、写真要素、特にポリエチレンコート紙およびポリプロピレンコート紙の両方を含むポリオレフィンコート写真印画紙のための帯電防止バッキングを提供することである。例文帳に追加

To provide back mark retentivity and splicing property due to improved adhesiveness to photographic printing paper and to obtain an antistatic backing, which satisfies the severe requirements of the photographic industry, for a photographic element, particularly polyolefin coated photographic printing paper including both polyethylene coated paper and polypropylene coated paper. - 特許庁

本発明の目的は、写真印画紙への改良された接着性によってバックマーク保持特性並びにスプライス性を提供し、当該産業の厳しい要求条件を満たす、写真要素、特にポリエチレンコート紙およびポリプロピレンコート紙の両方を含むポリオレフィンコート写真印画紙のための帯電防止バッキングを提供することである。例文帳に追加

To provide back mark retentivity and splicing property due to improved adhesiveness to photographic printing paper and to obtain an antistatic backing, which satisfies the severe requirements of the photographic industry, for a photographic element, particularly polyolefin coated photographic printing paper including both polyethylene coated paper and polypropylene coated paper. - 特許庁

EGAの処理条件として、ショットS1〜S32からサンプルショットに指定するショットの数と、サンプルショットの配置と、基板アライメントマークPAMの変位モデルの算出に用いる回帰分析の次数とを、第1保持部26上面の温度分布に基づいて決定し、EGA処理を実行してショットS1〜S32の配列を推定する。例文帳に追加

By determining the number of shots for assigning sample shots from shots S1 to S32, an array of the sample shots, degree of regression analysis used for calculation of a displacement model about a substrate alignment mark PAM based on a temperature distribution on upper surface of a first holding section 26, and by executing EGA processing, the array of the shots S1 to S32 is estimated. - 特許庁

車両の停止位置において、画面19上で縦列ガイド線20が駐車スペースPSの枠のコーナーである目標点Tに重なるまでシーソースイッチを操作し(b)、車両スペースマーク22が駐車スペースPSに重なるまでハンドルを切り(c)、ハンドルの操舵角を保持しつつ車両を後退させる。例文帳に追加

At the stopping position of the vehicle, a seesaw switch is operated until a tandem parking guide line 20 overlaps a target point T at a corner of a frame of a parking space PS (b), and a steering wheel is steered until a vehicle space mark 22 overlaps the parking space PS (c) to allow the vehicle to retreat while keeping the steering angle of the steering wheel. - 特許庁

タッチパネル1409付きの第2液晶ディスプレイ1408に表示される投球位置マーク12にスタイラスペン1416でタッチし、タッチ位置を保持する時間の長さで球速を入力し、投球方向ガイド14R,14C,14Lの何れかの方向に沿って第1のストローク操作を入力して投球開始のタイミングと投球方向を入力する。例文帳に追加

A pitching position mark 12 displayed on a second liquid crystal display 1408 with a touch panel 1409 is touched with a stylus pen 1416, a ball speed is input by the length of the time of holding a touch position, a first stroke operation is input along the direction of one of pitching direction guides 14R, 14C and 14L, and timing of pitching start and a pitching direction are input. - 特許庁

このマークが経路から外れたり、スピードが急変すると、センタ200はその旨を携帯端末100に知らせ、携帯端末100からの要求により、移動経路を監視状態DB204に保持する見守りモードや必要に応じて警備センタに通報する監視モードに設定することができる。例文帳に追加

When the mark is deviated from the path or the speed suddenly changes, the center 200 informs the mobile terminal 100 about it and sets the mobile terminal 100 to a watch mode wherein a moving state DB 204 stores the moving path or a monitor mode wherein the mobile terminal 100 reports to a guard center as required upon request from the mobile terminal 100. - 特許庁

エンドエフェクタ23に基板9を保持させてゲートバルブ室5を通して搬送チャンバー3から処理チャンバー1Dに基板9を搬送する際、エンドエフェクタ23を停止させずに、イメージセンサからなる検出器62によりエンドエフェクタ23上の二つのマーク25及び基板9の像を撮像して画像信号を信号処理部8に送る。例文帳に追加

When a substrate 9 is held by an end effector 23 and is conveyed from a conveyance chamber 3 to a processing chamber ID through a gate valve chamber 5, images of two marks 25 on the end effector 23 and the substrate are imaged by a detector 62 consisting of an image sensor, without stopping the end effector, and an image signal is sent to a signal processing part 8. - 特許庁

基板に付与されたマークを読み取り、基板上の電極配線に通電するプローブと電極配線との位置ズレ量を検出し、その位置ズレ量に基づいてプローブを保持するプローブベースと支持台とを基板面方向に相対移動させることによりプローブと電極配線との位置合わせを行う。例文帳に追加

Marks put on a base plate are read out, a volume of displacement between a probe conducted to an electrode wiring on the base plate and the electrode wiring is detected, and positioning of the probe and the electrode wiring is made by relative movement of a probe base holding the probe and a support pedestal toward a face of the base plate according to the displacement volume. - 特許庁

撮像装置であり、かつデータ通信可能なデータ送信装置がデータ受信装置にデータを送信し記憶手段への記録、あるいはストリーミング再生を行わせる構成において、送信装置と受信装置とが重複保持するコンテンツを検証し、送信装置の表示部に重複コンテンツを示す識別マークを表示する。例文帳に追加

In the configuration, in which a data transmitting device-cum-an imaging apparatus capable of performing a data communication transmits data to a data receiving device to be recorded into a storage means or streaming-reproduced, contents double held in the transmitting device and the receiving device are verified, and an identification mark indicative of duplicated contents is displayed on a display section of the transmitting device. - 特許庁

プリアライメント装置50から基板ステージ2に搬送されて該基板ステージ2上に保持された基板Wについて、該基板Wに一層目の露光で焼き付けられたアライメントマーク40のアライメントカメラ30の視野中心からのずれ量を求め、該ずれ量に基づいてプリアライメント装置50側で次回の基板Wの位置を補正する。例文帳に追加

For a substrate W transported to a substrate stage 2 from a prealignment device 50 and retained on the substrate stage 2, a deviated quantity from the center of a field in an alignment camera 30 of an alignment mark 40 printed by a first exposure on the substrate W is found to compensate the position of a next substrate W on the prealignment 50 side based on the deviated quantity. - 特許庁

素材と、当該素材を管理するための管理情報との関連を保持しつつ、素材に編集処理をして編集データを作成して編集データを外部に出力するに際して、編集データを構成する各素材毎に管理情報をウォーターマークとして重畳する処理をして、編集データを出力して、各素材毎の著作権管理をする。例文帳に追加

When materials are edition-processed and edition data is made and edition data is outputted to the outside while holding relation with control information for managing the materials, processing for superimposing managing information as watermark is performed for each material constituting edition data, edition data is outputted, and copyright for each material is managed. - 特許庁

例文

このため、両ステージの並行処理により、スループットの向上が可能であるとともに、位置の入れ替え後に、アライメント時のステージ移動範囲内の所定の位置にあるステージ上でウエハの交換を行なうようにすれば、両ステージの動作を入れ替えて、他方のステージに保持されたウエハが露光される間に、一方のステージ上でアライメント系によるマーク検出動作を並行して行なうことが可能になる。例文帳に追加

Therefore, it is possible to improve throughput by the parallel processing at both stages; and if replacement of wafers is performed on a stage at a predetermined position within a stage movement range during alignment after replacing positions, it is also possible that, while a wafer retained by the other stage is exposed, the mark detection operation by the alignment system at one stage is performed in parallel by replacing both stage operations. - 特許庁

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