「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

The width of a guide part 64 formed in the upstream side of a holder 54 is set to more than the with of an envelope 39 so that, if the bending process of a flap 61 is incomplete, the end 63 of the envelope 39 is prevented from being caught by a shoot 43 because it 39 is in no contact with the shoot 43.例文帳に追加

ホルダー５４の上流側に形成された案内部６４の幅を封筒３９の幅以上とすることで、フラップ部６１の折り曲げ処理が不完全な場合でも、封筒３９の端部６３がシュート４３と接触しないので、シュート４３に引っ掛かることはない。 - 特許庁

The lock arm 14 is provided with a resistance-generating part 27 capable of tilting in accordance with its tilting, and a large friction resistance is generated as the resistance-generating part 27 is in sliding contact with a ceiling wall 34A of the hood part 34 in an insertion-coupling process of the both connector housing 11, 31.例文帳に追加

ロックアーム１４にはこのロックアーム１４の傾動に伴って傾動可能な抵抗発生部２７が設けられており、この抵抗発生部２７が両コネクタハウジング１１，３１の嵌合過程でフード部３４の天井壁３４Ａに摺接されることにより、大きい摩擦抵抗が発生される。 - 特許庁

When foreign matters Z are left on the paper sheet P placed on the placing board 13, the foreign matter detection means 40 detects the presence of the foreign matters Z before the foreign matters Z are brought into contact with a frame 100 above the placing board 13 and stuffed in a process of elevating the placing board 13.例文帳に追加

載置台１３に載置された用紙Ｐの上に異物Ｚが放置された場合、載置台１３を上昇させる過程において、異物Ｚが載置台１３上方のフレーム１００に接触してつかえる前に、異物検知手段４０が異物Ｚの存在を検知する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus with a non-contact floating conveyance function which can convey a substrate without touching the lower surface of the substrate and which can process both upper and lower surfaces or only the lower surface of the substrate without causing the contamination of the substrate or roller tracks while transferring the substrate at high speed and stably.例文帳に追加

基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high resistance to mechanical deteriorations such as wear and scuffing of a surface of a photosensitive layer and peeling of a film due to grating of a cleaning blade, a magnetic brush, etc., and contact with a developer, paper, etc., when used repeatedly in an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスで繰り返し使用される際の、クリ−ニングブレ−ド、磁気ブラシなどの摺擦や現像剤、紙との接触等による感光層表面の摩耗や傷の発生、膜の剥がれといった機械的劣化に対する耐久性の高い電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide one-component toners of a contact one-component developing system which prevent reversal fogging occurring in temperature rising, ameliorate image void, obviate the occurrence of streaks and filming for a long period of time and do not five rise to fogging and fixing defect under the high-temperature and high-humidity environment and a process cartridge.例文帳に追加

昇温に起因する反転かぶりを防ぐと共に画像白抜けを改善し、長期にわたって縦スジやフィルミングが発生せず、高温高湿環境下においてカブリや定着不良を発生しない接触一成分現像方式用の一成分トナー及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

A gas G is injected between a first resin material 11 injected in a first injection process and a movable part 5 of a mold 2 and the pressure is held, thereby pressing the first resin material 11 to closely contact with the mold 2, and preventing the contraction of the first resin material 11.例文帳に追加

第１の射出工程で射出された第１の樹脂材料１１と金型２の可動部５との間に、ガスＧを注入し、保圧することで、第１の樹脂材料１１を押圧して、金型２に密接させることができ、第１の樹脂材料１１の収縮を防止することができる。 - 特許庁

This method for producing liquid food free from harmful bacteria is characterized by comprising the following process: immunizing a hen using harmful bacteria, gathering an egg from the immunized hen followed by extracting egg yolk antibodies from egg yolk separated from the gathered egg, and thereafter, fixing this egg yolk antibodies to a support to make it come in contact with a liquid food.例文帳に追加

産卵鶏を有害菌で免疫して採卵し、次にこの卵より分離した卵黄から卵黄抗体を抽出し、しかる後、この卵黄抗体を担体に固定させて液状食品と接触させることを特徴とする有害菌が除去された液状食品の製法。 - 特許庁

When the process unit 20 is mounted to the body casing 2, the abutment portion 69 comes into contact with a developer cartridge 6 (see the developer cartridge 6M) in a second attitude, thereby changing the attitude of the developer cartridge 6 into the first attitude (see each developer cartridge 6 other than the developer cartridge 6M).例文帳に追加

当接部６９は、本体ケーシング２にプロセスユニット２０が装着されるときに、第２姿勢にある現像カートリッジ６（現像カートリッジ６Ｍを参照）に当接することによってこの現像カートリッジ６の姿勢を第１姿勢（現像カートリッジ６Ｍ以外の現像カートリッジ６を参照）に変える。 - 特許庁

The top of a probe having a piezoelectric element is scanned while being in contact with a surface to be measured, and thereby pulse-like electric signals are generated at the piezoelectric element, and then the electric signal is amplified for a prescribed period by an amplifying circuit 23, and the distinguishing signal is generated by carrying out the process of integration using an integrating circuit 24.例文帳に追加

圧電素子を有するプローブの先端を被測定表面に当接しながら走査することにより、前記圧電素子部にてパルス状の電気信号を発生させ、この電気信号を、所定時間だけ増幅回路２３で増幅し、積分回路２４で積分処理して識別信号とする。 - 特許庁

Even if pressing force acted from the lance 17 elastically bent on a tab 32 in the process of insertion of the male terminal fitting 30, the male terminal fitting 30 is kept in contact with the guide part 58 at the opposite side of the lance 17, so that there is no fear of a posture of the male terminal fitting 30 being left tilted.例文帳に追加

雄端子金具３０の挿入過程において、弾性撓みしているランス１７からタブ３２に対して押圧力が作用しても、ランス１７の反対側では雄端子金具３０がガイド部５８に当接しているので、雄端子金具３０の姿勢が傾いたままになる虞はない。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of preventing a semiconductor substrate from being cracked due to press-contact stress for the formation of bumps, improving product yield in a bump formation process, corresponding to fineness, and reducing costs.例文帳に追加

バンプを形成する際の圧着のストレスによる半導体基板の割れを防止することができ、その結果、バンプ形成工程における製品歩留まりを向上させることができ、また、微細化に対応することができ、しかも低コストを可能とする半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) The manufacturing method of the separator for the fuel cell having a first process in which the conductive minute particles are adhered to or made to be thrusted into the resin 2 by a shot blast at a part of the surface of the separator where the contact resistance is required to be low.例文帳に追加

（２） 燃料電池用セパレータの製造方法であって、セパレータの表面のうち接触抵抗が低いことを要求される部分にショットブラストにより導電性微粒子１を表面の樹脂２に付着またはめり込ませる第１の工程を有する燃料電池用セパレータの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrode is provided with a process in which the aqueous solution which contains a metal fluoro-complex and lithium salt with the concentration of boric acid of 0.01 M or less is made to contact an electrode having an active material layer containing lithium-containing metal oxide particles, a conductive assistant, and a binder.例文帳に追加

リチウム含有金属酸化物粒子、導電助剤、及び、バインダーを含有する活物質層を備えた電極に対して、金属フルオロ錯体及びリチウム塩を含みほう酸の濃度が０．０１Ｍ以下の水溶液を接触させる工程を備える、電極の製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing a lithium metal thin film or an inorganic solid electrolyte thin film is provided, and the method is characterized in that, in the thin film manufacturing process, the dew point of an atmosphere in contact with alkali metal or an inorganic solid electrolyte or the raw material therefor is controlled to ≤-40°C.例文帳に追加

リチウム金属薄膜または無機固体電解質薄膜積を製造する方法が提供され、該方法は、薄膜製造工程においてアルカリ金属または無機固体電解質もしくはその原料と接触する雰囲気の露点を−４０℃以下とすることを特徴とする。 - 特許庁

The method for altering the intracellular presence rate of mtDNA having a specific mutation includes process: a cell culture medium is added with an active oxygen species such as hydrogen peroxide to bring the active oxygen species into contact with cells; and under appropriate culture conditions, the cells are put to culture.例文帳に追加

本発明は、過酸化水素などの活性酸素種を細胞の培地に添加するなどして、細胞に活性酸素種を接触させ、適当な培養条件下において、該細胞を培養し、特定の突然変異を有するｍｔＤＮＡの細胞内における存在比率を変化させる方法である。 - 特許庁

The Fe-based electrode layer takes in the carbon as a by-product of a sinter processing process for the ohmic electrode to suppress an increase in contact resistance between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode, caused by accumulation of carbon on a junction interface between the SiC semiconductor substrate and ohmic electrode.例文帳に追加

Ｆｅ系電極層が、オーミック電極のシンター処理工程における副生成物であるカーボンを取り込むことによって、カーボンがＳｉＣ半導体基板とオーミック電極との接合界面に堆積してＳｉＣ半導体基板とオーミック電極とのコンタクト抵抗が高くなることを抑制できる。 - 特許庁

Further, an easily oxidizable metal layer 5a is formed in contact with the semiconductor layer 7a, whose resistance value can be decreased through a heating process so as to move oxygen from the semiconductor layer 7a (oxide semiconductor layer) to the easily oxidizable metal layer 5a.例文帳に追加

また、半導体層７ａに接するように易酸化性金属層５ａを形成しておき、加熱工程によって、半導体層７ａ（酸化物半導体層）から易酸化性金属層５ａに酸素を移動させるため、半導体層７ａの抵抗値を下げることができる。 - 特許庁

To avoid the risk that a heater electrode pattern of a thin film wrinkles, cracks, peels, etc., by forming the heater electrode pattern on a polymer optical waveguide in excellent contact and minimizing surface damage that the polymer optical waveguide has in an electrode forming process.例文帳に追加

ポリマー光導波路上に薄膜のヒータ電極パターンを密着性よく形成し、しかも、電極形成プロセスでポリマー光導波路が受ける表面ダメージを最小限に抑えることで、ヒータ電極パターンにシワやクラック、剥離等が発生する危険性を未然に回避する。 - 特許庁

To provide a tray for semiconductor integrated circuit devices preventing a damage of connector pins of the semiconductor devices, caused by a contact between the corner part of the semiconductor device and excellent in mass-production property, and a manufacturing process for semiconductor devices using the tray.例文帳に追加

半導体装置のコーナー部とトレイとの接触に起因する、半導体装置の接続用端子の破損を防止することができ、また、量産性に優れた半導体集積回路装置用トレイおよび当該トレイを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

When at least one layer of an antireflection film is deposited on an optical base material by a vacuum process, the layer in contact with the optical base material is deposited from an inorganic oxide having ≥40% and ≤60% packing rate in the film substance so as to obtain the antireflection optical article.例文帳に追加

真空プロセスにより光学基材上に少なくとも１層の反射防止膜を形成する際に、前記光学基材と接する層の膜質充填率が４０％以上６０％以下の無機酸化物で成膜することにより上記反射防止光学物品を得る。 - 特許庁

A process for decomposing the carbon fluorides is constituted such that gaseous perfluorocarbon or hydrofluorocarbon is brought into contact with a reaction agent consisting of a carbonaceous solid material and an alkali earth metal compound in the presence of oxygen gas of 20 vol.% or less (not containing 0%) at a temperature 300°C or more.例文帳に追加

パーフルオロカーボンまたはハイドロフルオロカーボンの気体を、炭素質固体材料とアルカリ土類金属化合物とからなる反応剤に、３００℃以上の温度で且つ２０vol.％以下（０％を含まず）の気体酸素の存在下で接触させることからなる弗化炭素類の分解法。 - 特許庁

To provide toner which reconciles low-temperature fixability with anti-hot-offset properties and can form a fog-free good image with good hot storage stability and productivity, and to provide a process cartridge using the toner and excellent in image quality, and an image forming apparatus with a contact charging device.例文帳に追加

低温定着性と耐ホットオフセット性を両立させ、さらに熱保存性、生産性、かぶりのない良好な画像を形成することができるトナー、該トナーを用いた画質の優れたプロセスカートリッジ及び接触帯電装置を有する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The toner for electrophotography is used in an electrophotographic process when a photoreceptor drum 11 is charged with a charging roller 12 which comes in contact with the photoreceptor drum to charge the photoreceptor, the charged photoreceptor drum is exposed to form an electrostatic latent image, and this electrostatic latent image is developed to a toner image.例文帳に追加

電子写真用トナーは、感光体ドラム１１に接触して該感光体を帯電する帯電ローラ１２を用いて感光体ドラムを帯電して、帯電後の感光体ドラムを露光して静電潜像を形成し、静電潜像を現像してトナー像とする際に電子写真プロセスで用いられる。 - 特許庁

A wiring 4 for inspection to which a ground potential level or a power source potential level can be applied at an inspection process is provided between a bonding pad 1 and an active area 3 which is the closest to the bonding pad 1, so as net to be brought into contact with any bonding pad 1 or active area 3.例文帳に追加

ボンディングパッド１とそのボンディングパッド１に最も近い能動領域３との間に、検査工程時に接地電位レベルまたは電源電位レベルを印加され得る検査用配線４を、ボンディングパッド１および能動領域３の何れとも接触しないように設ける。 - 特許庁

The forming of a contact piece 25 becomes simple as the building of the piece 25 can be accomplished by one time bending process to form platelike member because the piece 25 which consists of a first piece part 23 and a second piece 24 which composes a fixed side terminal 21 of push button is formed roughly in the L shaped form.例文帳に追加

押釦スイッチの固定側端子２１を構成する接点片２５が、第１片部２３と第２片部２４とからなる略Ｌ字形に形成されているので、この接点片２５の形成を板状部材を１回曲げ加工することにより行え、接点片２５の形成が容易になる。 - 特許庁

Such a nitride-based light emitting element and its manufacturing method improves an ohmic contact characteristic with the p-type clad layer, hence increases the emission efficiency, and expands the life of the element, and at the same time, can omit an activation process after growth of a wafer and thus can simplify the manufacturing processes.例文帳に追加

このような窒素物系発光素子とその製造方法は、ｐ型クラッド層とのオーミック接触特性が改善されているため発光効率及び素子寿命を向上させ、かつウェーハ成長後の活性化工程を省略できて、製造工程を単純化させうる。 - 特許庁

During the process when the planar coating film 100 spreads toward the outside of the substrate G, the planar coating film 100 comes into contact with a linear resist coating film 76 or is integrated therewith, and the position of an outer edge of the planar coating film 100 is defined by the linear resist coating film 76 and, at the same time, the thickness is controlled.例文帳に追加

その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which maintains high sensitivity and mechanical strength even in use for a long period and is extremely high in leakage resistance, and does not produce any problems at all even when contact electrostatic charge or proximity electrostatic charge is employed, and an image forming apparatus and process cartridge using the same.例文帳に追加

長期の使用においても高感度と機械的強度を保持し、かつ、耐リーク性が極めて高く、接触帯電や近接帯電を採用しても何ら問題を生じない電子写真感光体と、それを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Then a decision means 104 decides that the separating member is not removed from the cartridge on the basis of a change in detected current value of the detecting means depending upon whether the photographic photoreceptor and process means are in contact with each other or not.例文帳に追加

そして、前記電子写真感光体と前記プロセス手段との接触状態と非接触状態とで前記検知手段の検出電流値が変化することに基づき、前記離間部材が前記カートリッジから取り外されていないことを判断する判断手段１０４で判断する。 - 特許庁

Accordingly in the process of inserting the drawing tool J, this has a shorter slide contact stroke involving a friction resistance between the drawing tool J and the tool abutting part 14, to result in a smaller friction resistance generally which assures excellent working easiness.例文帳に追加

治具当て部の前端が抜止め部の前端と同じ位置に配されているものと比較した場合、抜き治具Ｊの差込み過程において、抜き治具Ｊと治具当て部１４との間での摩擦抵抗を伴う摺接ストロークが短くなり、摩擦抵抗が総じて小さくなるため、作業性に優れている。 - 特許庁

The method of purifying the protein comprising a process of causing a fused protein of a first protein and a second protein adsorbed by a substance containing silicon oxide to come into contact with a solution comprising a divalent cation, is characterized in that the first protein is a protein that can be bound to the substance containing silicon oxide in a solution comprising 0.1 M sodium chloride.例文帳に追加

酸化ケイ素含有物質に吸着した、第１タンパク質と第２タンパク質との融合タンパク質を、２価カチオン含有溶液と接触させる工程を包含し、第１タンパク質が、０．１Ｍ塩化ナトリウムを含む溶液中で酸化ケイ素含有物質と結合し得るタンパク質である。 - 特許庁

In the curing die material printing process, the uncured curing die material 22 which is adhered in a state that an angle of contact is greater than 90° with the thin film 20 is printed in a form of a plurality of lines in a region excluding a position for forming a second electrode 16 on the thin film 20.例文帳に追加

硬化型材料印刷工程は、薄膜２０上の第２電極１６を形成すべき箇所を除いた領域に、薄膜２０との接触角が９０度より大きな状態で接着する未硬化の硬化型材料２２を複数の線状に印刷する。 - 特許庁

In the manufacturing process of an IC card 1, even when the reinforcing board 11 is tilted due to the pressurization of the reinforcing board 11, or the generation of the hardening/contraction of sealing resin 10 when the reinforcing board 11 is mounted, the reinforcing board can be prevented from being brought into contact with the circuit pattern 6.例文帳に追加

これにより、ＩＣカード１の製造工程において、補強板１１を加圧したり、補強板１１の取り付け時に封止樹脂１０の硬化収縮が生じたりして補強板１１が傾いたとしても、補強板１１の回路パターン６への接触を防止する。 - 特許庁

The subject method for culturing the epidermal cell from the scale of fishes comprises a process of fixing the scale on a culturing medium at a part other than a dermal cell-attached surface of the scale while bringing the dermal cell-attached surface of the scale isolated from the fishes in contact with the surface of the culturing medium.例文帳に追加

魚類より単離した鱗の表皮細胞付着面を、培養基材表面に接触させつつ、当該鱗の表皮細胞付着面以外の部分において、当該鱗を当該培養基材に固定する工程を含む、魚類の鱗からの表皮細胞の培養方法。 - 特許庁

To provide a cleaning blade suppressing turned-up of a tip-end ridge part while suppressing abnormal abrasion and abnormal noise in long-period use, improving the followability of the tip-end ridge part to a cleaning object member, and capable of retaining a contact pressure; and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

経時使用時の異常摩耗及び異音の発生を抑制しつつ、先端稜線部のめくれを抑制し、かつ、先端稜線部の被清掃部材に対する追随性を良好にでき当接圧を維持することが可能なクリーニングブレード、画像形成装置、及び、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD (Chemical Vapor Deposition) reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加

この工程を複数回繰り返して行うと(Ｓ_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でＣＶＤ反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁

By using the LIGA process, form patterns 32a of the contacts are accurately formed on a resist layer 32 even if the thickness of the resist layer 32 is large or uneven, whereby each contact is formed into a predetermined shape.例文帳に追加

しかもＬＩＧＡプロセスを利用することで、レジスト層３２の膜厚が厚くても、あるいは均一な膜厚で無くても、前記レジスト層３２に前記接触子の形状パターン３２ａを高精度に形成することができ、よって前記接触子を所定形状に形成することが可能である。 - 特許庁

After applying RTA process higher than the film-forming temperature to a layer insulation film 15, composed of phosphorus-added silicon oxide film, this film 15 and a silicon nitride film 14 are etched through a mask having a photoresist pattern 16 to form contact holes 17.例文帳に追加

リンが添加された酸化シリコン膜によって構成される層間絶縁膜１５に、成膜温度以上の温度でＲＴＡ処理を施した後、フォトレジストパターン１６をマスクとして層間絶縁膜１５および窒化シリコン膜１４を順次エッチングし、コンタクトホール１７を形成する。 - 特許庁

A guide part 58 provided at a retainer 50 is arranged to be located at an opposite side of the lance 17 with the male terminal fitting 30 in between and further rearward than the lance 17 with the retainer 50 in a preliminarily locked state to make the male terminal fitting 30 in a process of insertion in sliding contact.例文帳に追加

リテーナ５０に設けたガイド部５８は、リテーナ５０が仮係止位置にある状態において、雄端子金具３０を挟んでランス１７とは反対側であってランス１７よりも後方に位置するように配され、挿入過程の雄端子金具３０を摺接させる。 - 特許庁

A ball 40 of ceramics is interposed between an inner ring 36 and an outer ring 38, the inner ring 36 and the outer ring 38 are formed of martensitic stainless steel, and a tempering process is applied within a temperature from 450°C to 500°C, to constitute the rolling bearing 30 for protection of non-contact type bearing.例文帳に追加

内輪３６と外輪３８の間にセラミックスの玉４０を介挿し、内輪３６及び外輪３８をマルテンサイト系ステンレス鋼により形成して４５０℃〜５００℃の温度範囲内で焼戻し処理を施して非接触型軸受の保護用転がり軸受３０を構成する。 - 特許庁

The probe method consists of three processes, one in which the electrode pad P of a wafer W is subjected to a reduction process using a foaming gas, another in which the electrode pad P and a probe 144 are put in contact, and a third in which the electrode pad P and the probe 144 are put in electric continuity using fritting phenomenon.例文帳に追加

本発明のプローブ方法は、フォーミングガスを用いてウエハＷの電極パッドＰを還元処理する工程と、電極パッドＰとプローブ１４４を接触させる工程と、フリッティング現象を利用して電極パッドＰとプローブ１４４を電気的に導通させる工程とを備えている。 - 特許庁

In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.例文帳に追加

後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁

To prevent a lower jaw section 12h of a developing machine frame 12 from deflecting during the course of transportation and coming into contact with a photoreceptor drum 7 or to prevent a sealing member 12s2 from parting from a developing roller 9c so as not to blow off toners in reproduction of a process cartridge which does not apply toner sealing to an opening 11i.例文帳に追加

開口１１ｉにトナーシールを施さないプロセスカートリッジの再生産において、現像枠体１２の下あご部１２ｈが輸送中等でたわんで感光体ドラム７に接触したり、シール部材１２ｓ２が現像ローラ９ｃから離れてトナーが吹き出すのを防止する。 - 特許庁

The both ends of the shafts 31 and 32 and/or slide contact members 11-14 and 21-24 provided adjacent thereto are provided with covers 4 and water storage tanks 6 or dripping means 7 are provided as particle intrusion preventing means 4, 6, and 7 for preventing the intrusion of the particles P into the process tank S.例文帳に追加

シャフト３１、３２の両端および／またはその近傍に設けられた摺接部材１１〜１４、２１〜２４に対し、処理槽Ｓ内へのパーティクルＰの侵入を防ぐパーティクル侵入防止手段４、６、７として、カバー４、貯水槽６または滴下手段７が設けられている。 - 特許庁