「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(361ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a conductive member which uniformly charges a body to be charged even when the charging of the body is performed by applying only the DC voltage to the body and which does not give rise to the charging defect arising from fouling of the member and can maintain the good electrostatic charging characteristics for a long period of time.例文帳に追加

帯電部材に直流電圧のみを印加して被帯電体の帯電処理を行った場合でも、良好な均一帯電性が得られ、導電性部材の汚れに起因した帯電不良が発生せず、長期にわたって良好な帯電特性を維持することが可能である導電性部材、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming method which is an image forming process using an amorphous silicon photoreceptor, prevents the occurrence of defective images by a cleaning defect and is excellent in image reproducibility in long-term use as well when a direct implantation and electrostatically charging mechanism and developing/cleaning mechanism having stable electrostatically charging performance even at a high humidity are adopted and to provide an image forming device.例文帳に追加

アモルファスシリコン系感光体を用いる画像形成プロセスにおいて、クリーニング不良による不良画像の発生を防止し、高湿下でも安定した帯電性能を有し、直接注入帯電機構や現像兼クリーニング機構を採用した場合でも長時間の使用においても画像再現性に優れた画像形成方法及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric substrate that can solve a defect caused by an inner wall of a border groove between piezoelectric vibrating elements formed by etching to be a slope not orthogonal to the substrate face in the case of manufacturing many piezoelectric vibrating elements from a piezoelectric substrate base material with a large area through etching process employing a mask and to provide the piezoelectric vibrating element, a piezoelectric device and the piezoelectric substrate base material.例文帳に追加

マスクを用いたエッチング加工によって大面積の圧電母材から多数の圧電振動素子を製造する際に、エッチングによって形成される圧電振動素子間の境界溝の内壁が基板面と直交しない傾斜面になることによって発生する不具合を解決できる圧電基板、圧電振動素子、圧電デバイス及び圧電基板母材を提供する。 - 特許庁

To provide an object movement mechanism and object movement method which utilize generated liquid-crystal flow caused by an approach of inclined dislocation as a defect structure of a liquid crystal and utilize flow caused by movement of liquid-crystal defects facilitating minute movement of an object, and a liquid-crystal flow formation mechanism and liquid-crystal flow formation method utilizing liquid-crystal defects.例文帳に追加

液晶の欠陥構造である転傾の接近等に起因して生じる液晶流動を利用し、物体の微少移動を容易に行うことができる液晶欠陥の移動に起因する流動を利用した物体移動機構および物体移動方法、並びに液晶欠陥を利用した液晶流動形成機構および液晶流動形成方法を提供する。 - 特許庁

The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera.例文帳に追加

ポリッシュ後等の半導体基板を過酸化水素（３〜６質量％）、フッ化水素酸（５〜１０質量％）と塩酸（３〜６質量％）の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。 - 特許庁

To provide a harmful waste treatment method eliminating the defect of a conventional general aerobic disposal plant, using a water barrier/water impermeable material to constitute an anaerobic disposal plant to reduce resual quantity and extending the life of a final disposal plant difficult to install newly while eliminating the treatment of exuded water from a disposal plant to reduce environmental and economical load.例文帳に追加

この発明は、有害廃棄物処理に関し、従来ある一般的な好気性処分場の弊害をなくし、遮水・不透水性材料を使い嫌気性処分場とすることで、残余量が少なく新規設置が困難な最終処分場の延命化と処分場からの侵出水処理をなくすことで、環境及び経済的負荷の少ない処理方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which leakage preventiveness and electrical characteristics are made compatible with each other at a high level and satisfactory image quality can be obtained without the occurrence of an image quality defect, such as fogging, when the photoreceptor is used together with a contact electrifying apparatus, and to provided a manufacturing method therefor, and a process cartridge and electrophotographic apparatus each using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

リーク防止性と電気特性とが高水準で両立されており、接触帯電装置と共に用いた場合であってもカブリ等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能な電子写真感光体及びその製造方法、並びにその電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a color image forming device capable of forming an excellent image and to provide a process unit used for the same by solving a problem caused in a conventional color image forming device that a supply part is not replenished with toner and a supply defect occurs even through the toner remains inside a hopper and a failure occurs in an image due to toner deterioration and toner scattering caused by consecutive use.例文帳に追加

従来のカラー画像形成装置は、ホッパ内にトナーが残っているのに供給部にトナーが補給されず供給不良になったり、連続使用によりトナー劣化やトナー飛散により画像に不具合が生じた、このような問題を解決し優れた画像を形成することができるカラー画像形成装置及びそれに用いるプロセスユニットを提供すること。 - 特許庁

(2) If the application satisfies those requirements, the Patent Division shall grant a supplementary protection certificate for the duration of its term. In the contrary case, the Patent Division will invite the applicant to rectify any defect within a time limit to be set by the Patent Division, which shall be of at least two months. If the defects are not remedied, the Patent Division shall reject the application by a decision. 例文帳に追加

(2) 申請がこれらの要件を満たしているときは，特許部は，存続期間の継続に関する補充的保護証明書を付与する。それと異なる場合は，特許部は，出願人に対し，特許部が定める 2月を下回らない期間内に不備を更正するよう求める。不備が除去されないときは，特許部は，その申請を，決定をもって拒絶する。 - 特許庁

To prevent an overload to a driving system of a copy roller and obtain stable machining by absorbing displacement in a short cycle of the copy roller caused by a defect of the surface state of a workpiece while maintaining the follow-up pressure of the copy roller in a constant value in the copying machine for executing predetermined machining while tracing the surface of the workpiece by the copy roller.例文帳に追加

倣いローラによってワークの表面をトレースしながら所定の加工を実行する倣い加工機において、倣いローラの追従圧力を一定値に維持しながら、ワークの表面状態不良に起因する倣いローラの短周期の変位を吸収することによって、倣いローラの駆動系に対する過負荷を防止するとともに、安定な加工を実現する。 - 特許庁

By adding linear replacement control (LRVC) bits to an SDL (secondary defect list) entry in order to distinguish defective block information listed in the SDL entry according to a linear replacement algorithm from defective block information listed in the SDL entry according to a skipping algorithm, the optical recording/reproducing device transmits correct information to a host.例文帳に追加

リニア交替アルゴリズムに従ってＳＤＬエントリにリストされた欠陥ブロック情報と、スキッピング・アルゴリズムに従ってＳＤＬエントリにリストされた欠陥ブロック情報とを区別するために、リニア交替制御（ＬＲＣ）ビットを２次欠陥リスト（ＳＤＬ）エントリに追加し、これによって光記録媒体記録／再生装置が、ホストに正しい情報を送信できるようにするものである。 - 特許庁

This preventing method of the defect due to phosphorus in the casting, is executed by applying the coating agent containing 5-30 pts.wt. at least one kind among magnesium oxide, titanium oxide, chronium oxide, manganese oxide, iron oxide, nickel oxide, zinc oxide and zirconium oxide to 100 pts.wt. refractory aggregate on the mold containing ≥0.05 wt.% phosphorus atom and casting.例文帳に追加

リン原子含有量が0.05重量％以上の鋳型に、耐火性骨材を含有する塗型剤であってマグネシウム酸化物、チタン酸化物、クロム酸化物、マンガン酸化物、鉄酸化物、ニッケル酸化物、亜鉛酸化物、ジルコニウム酸化物の少なくとも１種を耐火性骨材100重量部に対し５〜30重量部含有する塗型剤を塗型し鋳造するリンによる鋳物の欠陥防止法である。 - 特許庁

To provide a sealing material filling discontinuous part of the subject to be coated with the sealing agent without leaving a space before electrodeposition coating and preventing defect of the sealing agent after electrodeposition coating such as pin-hole or crack, etc., and capable of being coated after electrodeposition with other coating agent, (for example, coating with a coating agent used for body coating of an automobile).例文帳に追加

電着塗装前に、不連続部を有する被着体の不連続部を隙間無くシーリング材で充填することができるとともに、電着塗装後におけるシーリング材の穴あきや切れ等のシール不具合を防止することができるだけでなく、電着塗装後に、シーリング材に塗装（例えば、自動車用の車体塗装に用いる塗料による塗装）することができるシーリング材を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor which can improve light efficiency of blue light by reducing the depth of a p-type impurity region to be introduced to isolate a photodiode and the surface of a silicon substrate, reduce a determination defect which may occur during an ion implantation process, and improve light characteristics by forming a high-density p-type impurity region.例文帳に追加

フォトダイオードとシリコン基板の表面との間の隔離のために導入されるＰ型不純物領域の深さを浅くしてブルー系の光の光効率を改善し、イオン注入時に生じる決定欠陥を抑制し、高濃度のＰ型不純物領域を形成することにより光特性を改善させるＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Then the arithmetic processing unit compares mask pattern inspection data to the mask pattern image data so as to specify a defective portion of the mask pattern, generates positional information of the defective portion, and identifies a tendency of occurrence of the defect on the photomask, based on the positional information and the density information for the respective plurality of small regions.例文帳に追加

そして、前記演算処理部（２５）は、前記マスク検査用データ（１３）と前記マスクパターン画像データとを比較して前記マスクパターンの欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）とし、前記欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）の位置情報を生成し、前記位置情報と前記複数の小領域ごとの密度情報（［Ａ］〜［Ｃ］）とに基づいて、前記フォトマスクに発生する欠陥の発生傾向を特定する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which an alignment defect of liquid crystal molecules in the vicinity of a peripheral part of a pixel electrode is prevented, thereby a bright display is retained by maintaining an aperture ratio, display characteristics are improved by suppressing reversal of the display and further response speed is excellent, in the frame reverse mode driving liquid crystal display device.例文帳に追加

フレーム反転方式の駆動を行う液晶表示装置において、画素電極の周縁部付近における液晶分子の配向不良を防止でき、これにより開口率の維持して明るい表示を確保しつつも、表示の反転を抑えて表示特性の向上を図ることが可能であり、かつ応答速度の良好な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A digital virtual test system including a semiconductor simulation model and an LSI tester simulation model includes a determination means for comparing and determining whether an address signal for accessing a memory function model in the semiconductor simulation model accesses a predetermined address in an address range of the memory function model or not to detect a defect of a test pattern using the LSI tester or the LSI tester simulation model.例文帳に追加

半導体シミュレーションモデルとＬＳＩテスタシミュレーションモデルを含むデジタルヴァーチャルテストシステムにおいて、半導体シミュレーションモデルのメモリ機能モデルをアクセスするアドレス信号が、メモリ機能モデルのアドレス範囲のうち所定のアドレスをアクセスしたかどうかを比較判定する判定手段を設けてＬＳＩテスタまたはＬＳＩテスタシミュレーションモデルを使用したテストパターンの不備を検出する。 - 特許庁

A cassette station S1, a process station S3 having an applying station 42 and a developing unit 41, and an inspecting station having a film thickness inspector 31 and a defect inspector 32 are arranged approximately right angles to a cassette 22 array in the cassette station S1, with the inspecting station S2 being disposed between the cassette and the process stations S1, S3.例文帳に追加

カセットステーションＳ１と、塗布ユニット４２と現像ユニット４１とを備えた処理ステーションＳ３と、膜厚検査装置３１と欠陥検査装置３２とを備えた検査ステーションＳ２とを、カセットステーションＳ１のカセット２２の配列方向にほぼ直交する方向に、前記検査ステーションＳ２が前記カセットステーションＳ１と処理ステーションＳ３との間に設けられるように配置する。 - 特許庁

The objective for an optical pickup device corrects an on-axis spherical aberration variation quantity due to ambient temperature variation by a base surface (included surface with diffraction pattern) and corrects a spherical aberration by a diffracting surface provided on at least one surface to suppress variation in on-axis spherical aberration due to refractive index variation accompanying temperature variation as a defect of a resin-made lens.例文帳に追加

光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、ベース面（回折パターンの包絡面）で、環境温度変化による軸上球面収差変化量を補正したとともに、少なくとも１面に設けた回折面で、球面収差を補正することによって、樹脂製レンズの欠点である温度変動に伴う屈折率変化に起因する軸上球面収差の変化を抑えることができる。 - 特許庁

A grip transferring means is retreated along a sheet bundle transferring passage, and grip holding is released, and the sheet bundle in transferring is returned to a tray means when a device error such as that the device is stopped by an operational defect of the device such as paper jamming or by shutting off of a power supply of the device by power failure occurs.例文帳に追加

紙詰まりジャムなど装置の動作不良を原因として装置が停止した場合、或いは装置電源が停電その他の理由で遮断されて装置が停止した場合などの装置エラー発生時にグリップ移送手段をシート束搬送経路に沿って後退させると共にグリップ把持を解除して移送途中のシート束をトレイ手段に返送するように構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal device that prevents a display defect by preventing a sealant and a sealing material from flowing out of respective coating areas when the sealant and sealing material are applied to a substrate by using a liquid droplet discharging means and also prevents a plurality of manufactured liquid crystal devices from having various gaps between both substrates defined by the sealant.例文帳に追加

液的吐出手段を用いてシール材、封止材を基板に塗布した際、塗布後、シール材、封止材が各塗布領域から流出するのを防ぐことにより、表示不良を防止する他、シール材により規定される両基板間のギャップが、複数製造された液晶装置間でばらついてしまうのを防止する液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an intermediate transfer image receiving sheet by laser heat transfer which shows superb transferability even to a final image carrier with significant irregularities and generates a defect-free image of high transfer quality level and also the intermediate transfer image-receiving sheet by laser heat transfer which is almost free from performance fluctuations over time and shows high sensitivity, excellent image visibility and high transfer image strength.例文帳に追加

凹凸の大きな最終画像担持体にも転写性が良好で且つ、画像欠陥のない高品位な転写品質の得られるレーザー熱転写中間転写受像シートを提供でき、さらに経時での性能変動が少なく、高感度で、可視画性に優れ、転写画像強度に優れたレーザー熱転写中間転写受像シートを提供することにある。 - 特許庁

The endoscope system 1 comprises an optical fiber 12, a light source device 23 at an end of the optical fiber 12 for emitting incident light 41A including reference wavelength signals as the reference, a detection part 26, and a control device 3 for computing the Bragg wavelength defect information in transmitted light and the quantity of dispersion of the Bragg wavelength and detecting the quantity of distortion of the optical fiber 12.例文帳に追加

内視鏡システム１は、光ファイバ１２と、光ファイバ１２の一端に基準となる基準波長信号を含む入射光４１Ａを出射させる光源装置２３と、検出部２６と、透過光におけるブラック波長欠陥情報及びそのブラック波長の偏移量を求め、光ファイバ１２の歪み量を検出する制御装置３とを有している。 - 特許庁

In a disk having a plurality of zones for managing defects of the disk, wherein the plurality of zones form a group, and a margin area which is allocated at the start portion or the end portion of the group for replacing defects, when start logical sector numbers of each zone are changed by slipping replacement during initialization or reinitialization, the corresponding information is stored in the defect management area.例文帳に追加

複数のゾーンで構成されたディスクの欠陥を管理するために複数のゾーンを一つのグループで構成し、そのグループの開始または終了部分に欠陥を置換するための余裕空間を有するディスクにおいて、初期化または再初期化時スリップ置換により各ゾーンの開始論理セクター番号が変わる場合、これに対する情報を欠陥管理情報エリアに貯蔵する。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a black ink for ink jet recording that has high dispersion stability in the ink of carbon block pigment used in the black ink for ink jetting, resistant to aggregation of carbon black even in the long-term stagnation, causes no clogging of the printing head on the ink injection and the print quality of the letters indicated with the black ink can attain the stabilized printing concentration without defect.例文帳に追加

インクジェット用ブラックインクに使用するカーボンブラック顔料のインク中での分散安定性が高く、長期の液停滞でもカーボンブラックの凝集が発生しにくく、インクとして出射する際にヘッドの目詰まりが起こりにくく、かつ、ブラックインクで表示する文字等の印字品質が画欠のない安定した印字濃度を達成できるインクジェット用ブラックインクを供給することである。 - 特許庁

This defect detection method includes a step for carrying out HF treatment for dipping the surface having an SOI layer into hydrofluoric acid for treatment, a step for depositing electrolytes at the site on the surface of the SOI layer closest or regarded as closest from a place having cavities or defects in an insulating layer due to the HF treatment, and a step for detecting the site where the electrolytes are decorated.例文帳に追加

ＳＯＩ層がある面をフッ化水素に浸漬処理するＨＦ処理をするステップと、ＨＦ処理されたことで生じた絶縁層の空洞または絶縁層の欠陥がある箇所から最短距離または最短距離とみなせるＳＯＩ層の面上の部位に電解物質を（析出）させるステップと、電解物質がデコレートされた部位を検出するステップと、を有する。 - 特許庁

The correction data created with respect to a CCD camera 4 for imaging the image display is verified by the CCD camera 4 by imaging the defect free image display which is constructed artificially by combining an integrating sphere 3 for generating uniform radiations and a translucent shading member 2 having a translucent part for treating each display pixel in the image display.例文帳に追加

画像表示装置を撮像するＣＣＤカメラ４について作成された補正データの検証を、均一光を発生する積分球３と、画像表示装置における各表示画素に対応する透光部を有する透光遮光部材２とを組み合わせることによって擬似的に構成される無欠陥の画像表示装置をＣＣＤカメラ４によって撮像することにより行う。 - 特許庁

A defect inspection device is provided with a first irradiating means S for irradiating a sample 9 by emitting primary electron beams, mapping optical mechanisms 11 to 13 or imaging secondary electrons emitted from the surface of the sample 9 irradiated with the secondary electron beams, a detector D for detecting the secondary electrons, and an image treatment mechanism 18 for treating signals from the detector D.例文帳に追加

欠陥検査装置は、一次電子線を放出して試料９を照射するための第１の照射手段Ｓと、一次電子線で照射された試料９の表面から放出された二次電子を結像させるための写像光学機構１１〜１３と、二次電子を検出するための検出器Ｄと、検出器Ｄからの信号を処理する画像処理機構１８とを具備する。 - 特許庁

To provide a door lock device capable of not only easily opening a door from an external part by inserting a metallic card incorporated with a magnet when becoming an unusable state by power source OFF or its other mechanical defect but also performing the locking function by locking a dead bolt by rotating a handle grip of an outer unit to the upper side in failure of a driving motor and an electronic component.例文帳に追加

電源オフ時またはその他の機械的欠陥によって使用不能状態になった場合、マグネットを内蔵した金属カードを挿入して外部からドアを容易に開けることができるだけでなく、駆動モーターや電子的な構成部品の故障の際アウトユニットのハンドルグリップを上側に回転させればデッドボルトがロックされ施錠機能を行えるようにしたドアロック装置を提供する。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

To provide a bonding wire having such characteristics that sufficient joining strength is obtained between a bonding wire and an electrode on a semiconductor element which are bonded by first bonding, a defect due to contact between bonding wires is not apt to arise when the semiconductor element is sealed with resin, ball strength is not large enough to cause a chip to crack, and metal fatigue due to vibrations etc., is hardly caused.例文帳に追加

第一ボンディングで接合したボンディングワイヤと半導体素子上の電極との間の接合強度が十分であり、半導体素子を樹脂封入する際にボンディングワイヤ同士の接触による不良が起こりにくく、また、ボール硬度が大きすぎず、チップにクラックを生じないことに加え、さらに振動などによる金属疲労が起こりにくい特性を有するボンディングワイヤを提供する。 - 特許庁

By imparting the adhesion property to the stimulus sensitive adhesive after the step to contain the particles and the positioning step, or just before the positioning step, the uneven concentration and the display defect caused by the adhesive are eliminated because there is no defective adhesion, no attaching of the adhesive to the particles, no swelled out of the adhesive into a cell due to sagging and bloting of the adhesive in positioning.例文帳に追加

粒子の収容工程、位置合わせ工程後、または位置合わせ工程の直前に感刺激接着剤に粘着性を持たせることにより、接着不良、接着剤の粒子への付着、位置合わせ時に接着剤がダレたりにじんだりすることでセル内に接着剤がはみ出すこともないので、接着剤に起因する濃度むらや表示欠陥を無くすことができる。 - 特許庁

This bearing vibration measurement device 10 measures the vibration of the bearing 30, relatively rotates the other of the inner ring 31 and the outer ring 32 with one of the inner ring 31 and the outer ring 32 of the bearing 30 axially pressurized, detects a vibration component generated from the bearing 30, and detects a defect of the bearing 30 on the basis of the vibration component.例文帳に追加

軸受振動測定装置１０は、軸受３０の振動を測定する装置であり、軸受３０の内輪３１および外輪３２の一方を軸方向に加圧した状態で、内輪３１および外輪３２の他方を相対回転させ、軸受３０から発生する振動成分を検出し、そして当該振動成分に基づいて軸受３０の欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device and a process cartridge which can stably form an image of good quality without generating an image defect even when an electrophotographic device using a pre-exposure means for an electrophotographic photoreceptor applies only a DC voltage to an electrostatic charging member to perform electrostatic charging, and an electrostatic charging member which is applied to such an electrostatic device and a process cartridge.例文帳に追加

電子写真感光体への前露光手段を用いた電子写真装置において帯電部材に直流電圧のみを印加して帯電を行った場合でも、画像欠陥を発生させることなく、かつ、良質な画像を安定して形成することのできる電子写真装置、プロセスカートリッジ、およびそのような電子写真装置やプロセスカートリッジに適用される帯電部材を提供する。 - 特許庁

To provide a setting item editing program and setting item editing method for reconfiguring and displaying a setting screen without causing image defect or flicker of the setting screen, when updating an existing setting screen where predetermined setting items are arranged to the setting screen in which the setting items are arranged according to a user's operation, and to provide a user interface device.例文帳に追加

所定の設定項目が配置される既存の設定画面から、ユーザの操作に応じた設定項目が配置される設定画面に更新させる際に、設定画面の乱れやちらつきを生じさせることなく、設定画面を再構成して表示させることができる設定項目編集プログラム、設定項目編集方法およびユーザインタフェース装置を提供する。 - 特許庁

To provide a flexible long cable-like explosive, a flexible long cable- like explosive capable of eliminating defect in boosting, a cable-like explosive connecting device for connecting the flexible long cable-like explosives, and one cable-like explosive device prepared by connecting the flexible long cable- like explosives with the cable-like explosive connecting device.例文帳に追加

柔軟性を持った長尺状の索状爆薬、伝爆不良を無くすことが可能な柔軟性を持った長尺状の索状爆薬、柔軟性を持った長尺状の索状爆薬を接続する索状爆薬接続装置、および柔軟性を持った長尺状の索状爆薬を索状爆薬接続装置によって接続して成る一本の索状爆薬装置を提供することにある。 - 特許庁

The selection circuit 3 is provided also with switching switches 32a-32f for selecting the prescribed two coils out of the detecting coils, when detecting the defect, for guiding detection signals of the selected two coils to an input side of the differential amplifier 4, and for short-circuiting both ends of the respective coils under a floating condition, as to the residual coils not selected therein.例文帳に追加

また、選択回路３は、欠陥検出の際に、検出用コイルのうちから所定の２つのコイルを選択し、この選択した２つのコイルの検出信号を差動増幅器４の入力側に導くとともに、その選択されない残余のコイルについては各コイルの両端をフローティング状態で短絡させるための切り替えスイッチ３２ａ〜３２ｆを備えている。 - 特許庁

When magnetic information is magnetically transferred, by pre-recording a particular magnetic pattern 1 (here, obliquely fringed) in a part having no magnetic information containing track information recorded therein, and scanning a magnetic head in the radial direction or in a direction orthogonal to the radial direction, a scratch defect long in a circumferential or radial direction can be detected by rough scanning.例文帳に追加

磁気的情報が磁気転写されるとき、トラック情報を含む磁気的情報が記録されない部分に特定の磁気パターン１（ここでは、斜め縞状）を予め記録しておくことにより、磁気ヘッドを半径方向またはそれと直交する方向に走査することにより、円周または半径方向に長いスクラッチ欠陥の検出を粗い走査で検出可能とする。 - 特許庁

In particular, data is managed using the information stored in a defect management area in order to maximally prevent occurrence of errors in reading or writing due to a change in a physical position of a real-recorded file which are caused by wrong calculation of the start logical sector numbers for each zone when other recording and/or reproducing apparatus is going to read or write data.例文帳に追加

特に、各ゾーンのための開始論理セクター番号が間違って計算された場合に実際記録されるファイルの物理的な位置が変わって、他の記録及び/または再生装置で読出しまたは書込みしようとする場合、ファイルの位置が間違って読出しエラーや書込みエラーが発生することを最大限防止するために欠陥管理エリアに貯蔵された情報を用いてデータを管理する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor light emitting element comprising processes for providing a lift-off layer including at least a crystal defect or void on a substrate; providing a layer made of a nitride semiconductor on the lift-off layer; and separating the substrate from the layer made of the nitride semiconductor.例文帳に追加

半導体発光素子の製造方法であって、基板上に結晶欠陥または空隙の少なくともいずれかを含んだリフトオフ層を設ける工程と、前記リフトオフ層の上に窒化物系半導体からなる層を設ける工程と、前記基板と前記窒化物系半導体からなる層とを分離する工程と、を備えたことを特徴とする半導体発光素子の製造方法である。 - 特許庁

After due notice and hearing, the Hearing Office shall order the setting aside or the discharge of the attachment if it appears that it was improperly or irregularly issued or enforced, or that the bond is insufficient, or that the attachment is excessive, and the defect is not cured forthwith, or the property being attached is exempt from execution.例文帳に追加

聴聞官は，適切な通知及び聴聞の後，差押命令が不適切又は不適正に発出又は執行されたと認められる場合，保証証書が不十分であると認められる場合，差押が過大であると認められ，かつ，その欠陥が直ちに是正されない場合，又は差押財産が強制執行から免除されている場合は，差押の取消又は解除を命令する。 - 特許庁

(10) Where the reasons given by the Registry specify that one of the formal conditions has not been met or that the invention is not patentable, the Registry shall allow the applicant another period to make good the defect or to put forward the arguments he deems appropriate and shall then take a final decision on granting the patent.例文帳に追加

(10) 産業財産登録庁の申し立てる理由が，方式条件が充足されていないこと又は発明に特許性がないことを指摘する場合は，産業財産登録庁は，瑕疵を是正するため又は出願人が適切とみなす意見書を提出するため新たな猶予期間を出願人に与えるものとし，その後に特許付与について最終決定をするものとする。 - 特許庁

3. When the decision intends to declare the lack of any requirement set for granting protection as utility model, as may have been alleged in some brief of opposition, the Industrial Property Registry shall grant the applicant a one-month term to overcome the defect or to file such submissions as she/he may deem pertinent.例文帳に追加

(3) その決定が，実用新案としての保護を認めるために設定された何らかの要件を欠いていることを理由にしている場合は，何らかの異議申立書が提出されている筈なので，産業財産登録庁は，その出願人に対して，1月の猶予期間を与えて，その欠陥を克服するか，又は何らかの適切な補正書を提出することを認めるものとする。 - 特許庁

The inspection method of a TFT substrate inspects the defect of the TFT array by applying a voltage to the TFT array of the TFT substrate and detecting the secondary electrons obtained by electron beam irradiation, in which the positive voltage and the negative voltage are alternately applied to the pixel electrodes of the TFT array in a prescribed period, and the potential of the pixel electrode is offset to the negative side.例文帳に追加

ＴＦＴ基板のＴＦＴアレイに対して電圧を印加し、電子線照射により得られる二次電子を検出することによりＴＦＴアレイの欠陥を検査するＴＦＴ基板の検査方法であって、所定周期内においてＴＦＴアレイの画素電極に正電圧および負電圧を交互に印加するとともに、画素電極の電位を負側にオフセットさせる。 - 特許庁