「Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(176ページ目) - Weblio英語例文検索

This semiconductor device inspection apparatus 1 is equipped with a stage 141 disposed in a vacuum chamber 11 for setting the semiconductor device (sample S), a femto-second laser device 12 for generating a femto-second laser beam FSLB for cutting the semiconductor device, and a scanning electron microscope (SEM 17) for observing the cut face W of the semiconductor device cut by the laser beam.例文帳に追加

半導体デバイス検査装置１は、半導体デバイス（試料Ｓ）をセットする真空チャンバー１１内に配設されたステージ１４１と、半導体デバイスを切削するフェムト秒レーザビームＦＳＬＢを生成するフェムト秒レーザ装置１２と、当該レーザビームにより切削した半導体デバイスの切削面Ｗを観察する電子顕微鏡（ＳＥＭ１７）とを備えている。 - 特許庁

The Kerr effect microscope is equipped with a light source 1, the objective 14, a Berek prism 13 making light from the light source 1 incident on a sample through the objective 14, and a holding mechanism holding the objective 14 and the Berek prism 13 so that a position where the light emitted from the Berek prism 13 is made incident on the objective 14 can be adjusted.例文帳に追加

本発明によるカー効果顕微鏡は，光源１と，対物レンズ１４と，光源１からの光を対物レンズ１４を介して試料に入射するベレークプリズム１３と，ベレークプリズム１３から出射された光が対物レンズ１４に入射される位置が調節可能であるように，対物レンズ１４とベレークプリズム１３とを保持する保持機構とを備えている。 - 特許庁

In the discharge electron detection value estimation method, an electromagnetic field distribution EM of the electronic optical system 4 in an electron microscope body 1 is calculated, while detection values of first emitted electrons 50 from a sample 5 in the electromagnetic field distribution EM and second emitted electrons 52 emitted from the electronic optical system by collision with the first emitted electrons are calculated by a Monte Carlo method.例文帳に追加

電子顕微鏡本体１内の電子光学系４の電磁場分布ＥＭを算出し、当該電磁場分布ＥＭにおける試料５からの第１放出電子５０及び第１放出電子の衝突によって電子光学系から放出される第２放出電子５２の検出値をモンテカルロ法によって算出する。 - 特許庁

In order to solve the subject matter, the scanning electron microscope is provided to measure the sample height and the sample potential using measured results obtained at the applied state of a voltage to a sample, so as not to get the charged-particle radiation of an electronic beam to the sample when it is radiated to the sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために、試料に向かって電子線等の荷電粒子線等を照射する際に、当該荷電粒子線が試料に到達しないように、試料に電圧を印加した状態で得られる電子等の荷電粒子の検出結果を用いて、試料高さや試料電位を測定する走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

To separately measure a tunneling current derived from the uneven surface state of a sample and a tunneling current derived from a magnetized state at every magnetic domain of the sample in a spin polarization scanning tunneling microscope and to observe the surface uneven state of the sample and the magnetized state of each magnetic domain of the sample with high accuracy.例文帳に追加

スピン偏極走査型トンネル顕微鏡に関し、試料の各磁区ごとに試料表面の凹凸状態に起因するトンネル電流と磁化状態に起因するトンネル電流とを別々に測定できるようにし、試料表面の凹凸状態と試料の各磁区の磁化状態とを高精度に観測することができるようにする。 - 特許庁

The method comprises: condensing and irradiating pulse laser beams from beneath of a solution with an objective lens 5 of a microscope, thereby generating plasma emission at the upper portion of the solution surface; and condensing the emission spectrum with an objective lens 9 at the upper portion of the solution and measuring it with a spectrometer 12, thereby analyzing a metallic element contained in the solution.例文帳に追加

顕微鏡を使用して溶液の下からパルスレーザー光線を対物レンズ５で集光して照射ことより、溶液表面上部でプラズマ発光が発生する、その発光スペクトルを溶液上部の対物レンズ９で集光して分光装置１２で測定して、溶液に含まれる金属元素を分析することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a magnetic domain observation method, a magnetic domain observation device and a magnetic domain observation program capable of acquiring a clear magnetization image by reducing deterioration of a magnetic domain contrast by image processing in detail, concerning magnetic domain observation using a microscope by utilizing a magnetic Kerr effect for observing the magnetic domain of a magnetic body such as a magnetic head.例文帳に追加

本発明は、磁気ヘッド等の磁性体の磁区を観察する磁気カー効果を利用した顕微鏡を用いた磁区観察に関し、より詳細には磁区コントラストの劣化を画像処理によって低減して明瞭な磁化画像を得ることができる磁区観察方法、磁区観察装置および磁区観察プログラムに関するものである。 - 特許庁

A separator 4 for separating an irradiated electron beam 101 and a reflected electron beam 102 of the mirror electron microscope is positioned between an objective lens 5 and an intermediate lens 8, and a restriction diaphragm 14 is positioned in a position 43 where the intermediate lens 8 projects an electron beam diffraction image of the reflected electron beam 102 formed in a focus position 41 of the objective lens 5.例文帳に追加

ミラー電子顕微鏡の照射電子線１０１と反射電子線１０２を分離させるセパレータ４を対物レンズ５と中間レンズ８の間に配置し、反射電子線１０２の対物レンズ５の焦点位置４１に形成される電子線回折像が中間レンズ８により投影される位置４３に制限絞り１４を配置する。 - 特許庁

In the easily lubricating polyamide laminate film comprising a film layer made of a binder resin and provided on at least one side surface of a polyester film, a mean value of a roughness according to an AFM(atomic force microscope) on an outer surface of the film layer is 3 to 20 nm and specks of roughness are 5 to 70%.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、バインダー樹脂からなる皮膜層を設けた積層フィルムであって、皮膜層の外表面のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による粗さの平均値が３〜２０ｎｍで、且つ、粗さの斑が５％以上７０％以下であることを特徴とする易滑性積層フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体。 - 特許庁

In this tapping mode atomic force microscope (AFM) system 10, the probe 22 is excited at an excitation frequency other than the probe's first natural frequency to produce a response signal manifesting a grazing bifurcation between "non-collision" and "collision" states of the AFM system, so that an additional characteristic frequency component is generated in the "collision" state.例文帳に追加

タッピングモード原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）システム１０において、プローブ２２は、プローブの１次固有振動数以外の加振周波数にて励振され、ＡＦＭシステムの「非衝突」状態と「衝突」状態との間のグレイジング分岐を明示する応答信号を作り出し、その結果、付加的な特性周波数成分が「衝突」状態において創出される。 - 特許庁

In the cell protrusion extraction method for extracting only the protrusion from the image of the cell body obtained by picking up with a microscope, a binarization process is applied to the obtained cell image, a binarized image is obtained and the cell body is extracted from a compressed image (DC component) obtained by applying a wavelet transform process to the binarized image.例文帳に追加

細胞体を顕微鏡により撮像して得られた画像から突起部のみを抽出する細胞突起抽出方法において、取得した細胞画像に対して二値化処理を行って二値化画像を取得し、この二値化画像をウェーブレット変換処理することにより得られた圧縮画像（ＤＣ成分）から細胞本体部を抽出する。 - 特許庁

In this lubricant degradation measuring method, a photon image generated in a slide contact point of a disk mounted with a semi-spherical pin and the lubricant is detected through an optical microscope constituted of an ultraviolet ray transmitting lens, and the presence of the generation of triboplasma in the vicinity of a lubricating point of the lubricant is determined based on the presence of a UV image.例文帳に追加

半球ピンと潤滑剤を載せたディスクの摺動接触点で発生する光子像を、紫外線透過レンズで構成された光学顕微鏡を通して検出し、UV像の発生の有無により、トライボプラズマが潤滑剤の潤滑点の近傍に発生しているかどうかを判定することからなる潤滑剤の劣化測定方法。 - 特許庁

An infrared microscope system 1 includes an optical unit 50 that narrows down the infrared light flux supplied from an interference unit 22 of an FT-IR 2 to a smaller diameter in a substantially parallel light, so as to generate a high density infrared light flux having a higher light beam density than the supplied infrared light flux and to introduce it.例文帳に追加

本発明の赤外顕微システム１は、ＦＴ−ＩＲ２の干渉計部２２から供給された赤外光線束を実質的に平行光とした状態で小径に絞ることで、当該赤外光線束の光線密度よりも高い光線密度とされた高密度の赤外光線束を形成して導入する光学ユニット５０を備えている。 - 特許庁

To provide an electron microscope in which control of a button and a slider or the like realizing demand of an operator from a complicated operation screen is shown to the operator in a visually comprehensive state, and in which the most effective operation can be instructed to the operator by analyzing an operation state at that time point in the case a problem occurs during observation.例文帳に追加

本発明の目的は、複雑な操作画面からオペレータの要求を実現するボタンやスライダ等のコントロールをオペレータに視覚的にわかり易く示すと共に、観察中に問題が発生した場合には、その時点の操作状態を解析し、最も有効な操作をオペレータに指示することのできる電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁

To provide a apparatus and a program for medical image generation which allows editing of animation such as extraction of a still image which has the highest utilization value for a medical doctor and other persons making medical practices from the animation photographed by a medical photographing apparatus such as a slit lamp microscope (slit lamp) and an endoscope used at a medical site.例文帳に追加

医療現場で利用される細隙灯顕微鏡（スリットランプ）や内視鏡等の医療用撮影装置で撮影された動画から、医師等の医療行為を行う者にとって、最も利用価値の高い静止画を抽出する等の動画の編集を行うことを可能にする医療画像作成装置及び医療画像作成プログラムの提供。 - 特許庁

To quantitatively express directional properties(anisotropy) in a three-dimensional structure created by a target to be noticed in an image to a three-dimensional image constructed by a tomogram acquired nondestructively, a sectional image acquired by direct observations using a microscope, or the like by a nondestructive inspection, such as X rays and a nuclear magnetic resonance method.例文帳に追加

エックス線や核磁気共鳴法などの非破壊検査により非破壊で取得された断層画像や顕微鏡などの使った直接的な観察よって取得された断面の画像などから構築された３次元画像に対して、画像内にある注目対象が作る３次元構造の方向性（異方性）を定量的に表現する。 - 特許庁

In the microscopic surface temperature distribution measuring device 100, a material having a predetermined relationship with temperature dependency of a resonance frequency is used as the cantilever 1 in the scanning probe microscope, temperature change of the cantilever 1 is measured as change of the resonance frequency, and a temperature is measured by converting the change into temperature on the basis of the predetermined relationship.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡におけるカンチレバー１として、共振周波数の温度依存性に所定の関係を有する材料を用い、前記カンチレバー１の温度変化を前記共振周波数の変化として測定し、前記所定の関係により温度に換算して測温する微小表面温度分布測定装置１００とする。 - 特許庁

The observation is performed by a scanning transmission electron microscope observation equipment equipped with a field emission electron gun, a convergence means to converge an electron ray emitted from the field emission electron gun onto a sample, a deflecting means to scan a convergence electron ray irradiating the sample, a projecting means to project a sample image, and a measuring means for a sample thickness.例文帳に追加

電界放射型電子銃と、電界放射型電子銃から放射された電子線を試料に収束する収束手段と、試料を照射する収束電子線を走査する偏向手段と、試料像を投影する投影手段と、試料厚さ測定手段とを備える走査透過型電子顕微鏡観察装置を用いて観察を行う。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

The fluorescent microscope has the objective lens 21 and is provided with imaging means 21 and 23 for forming the fluorescent image of a specimen 20 marked by a fluorescent substance, vertical illumination means 13 to 18 for illuminating the specimen 20 and beam attenuating means 14 for attenuating the light intensity near an optical axis 20a of the objective lens 21 out of the incident light for illumination on the objective lens 21.例文帳に追加

対物レンズ２１を有し、蛍光物質で標識された標本２０の蛍光像を形成する結像手段２１，２３と、標本２０を照明する落射照明手段１３〜１８と、対物レンズ２１に入射する照明光のうち、対物レンズ２１の光軸２０ａ付近の光強度を低減させる減光手段１４とを備える。 - 特許庁

The microscope stage provided with a stationary stage 11 and a circular stage 12 freely slidingly coming into contact with a thrust surface 11c on a projecting part 11b of this stationary stage 11 controls the moving competence of the circular stage 12 by adjusting the contact area of the thrust surface 11c on the projecting part 11b by which the circular stage 12 is slid.例文帳に追加

固定ステージ１１と、この固定ステージ１１の突出部１１ｂ上のスラスト面１１ｃに対して摺動自在に接触する円形ステージ１２を備えた顕微鏡ステージであって、円形ステージ１２が摺動される突出部１１ｂ上のスラスト面１１ｃの接触面積を調整して円形ステージ１２の移動力量を制御する。 - 特許庁

To provide a microscope apparatus for surgery wherein there exists no possibility of damaging tissues at an objective sites for medical curing by the apex of an endoscope and even when an operator concentrates on operating a tool for treatment, safety can be confirmed and a lot of instrument are not necessary and a large sample is unnecessary and the range of activity and procedures for surgical operation of the operator are not restricted.例文帳に追加

内視鏡先端で治療対象部位の組織を傷つけることなく、術者が処置具の操作に集中しても安全性の確認ができ、多くの機器を必要とせず、且つ、大きなスペースを不要として術者の活動範囲及び手術操作を制限することのない手術用顕微鏡装置を提供することである。 - 特許庁

As a result of an intensive study, an image is acquired by a combination apparatus of a microscope and the image analyzer and, by classifying the granular structure on the basis of the size thereof to analyze the same, the forming state of the granular structure is quantitatively measured more accurately.例文帳に追加

上記課題を解決すべく鋭意研究の結果、顕微鏡と画像解析装置を組み合わせた装置によって取得した画像を、顆粒状構造物をその大きさによって分類して解析することにより、顆粒状構造物の生成状況をより正確に、かつ定量的に測定できることを見出し、本発明を完成するに至った。 - 特許庁

To provide a method of correcting the defects of a photomask which is capable of precisely removing the residual defects below 500 nm without the damage on a quartz substrate and segments exclusive of the defects after the correction of the remaining defects formed on a mask and is capable of easily detecting even the end point of the correction and a scanning probe microscope used for the same.例文帳に追加

マスクに形成された残留欠陥修正後の石英基板や欠陥以外の部分へのダメージが無く、５００ｎｍ以下の残留欠陥を精度良く除去することが可能で、修正のエンドポイントも容易に検出できるフォトマスクの欠陥修正方法及びそれに用いる走査プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁

In a method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor obtained by sequentially stacking at least an intermediate layer, a charge generating layer and a charge transport layer on a conductive support, the intermediate layer contains a thermoplastic resin and a microscopic ten-point average roughness obtained by shape observation through an atomic force microscope is ≤3.2 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層が順次積層されて成る電子写真用感光体の製造方法において、前記中間層が熱可塑性樹脂を含有し、且つ、原子間力顕微鏡による形態観察をして得られた微視的な十点平均粗さが３．２ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

An electron microscope can display the observed image on a display unit 28 by applying an acceleration voltage to an electron gun to irradiate a sample with an electron beam based on predetermined image observation conditions, scanning the desired area of the surface of the sample while secondary electrons or reflected electrons emitted from the sample are detected by one or more detectors, thereby focusing the image.例文帳に追加

電子顕微鏡は、所定の像観察条件に基づいて、電子銃に加速電圧を印加して電子線を試料に照射し、試料から放出される二次電子または反射電子を１以上の検出器で検出しながら試料表面の所望の領域を走査することで、観察像を結像し表示部２８にて表示可能である。 - 特許庁

The cell analysis system is equipped with a cell observing device, which has a flow channel for allowing a cell-containing solution to flow provided therein, has a transparent surface for observing the cells in the flow channel and is characterized in that the upper and under surfaces of the flow channel are parallel, and a microscope for observing the cells in the flow channel.例文帳に追加

細胞含有溶液を流動させるための流路を内部に備え、前記流路内の細胞を観察するための透明な面を備えた細胞観察用デバイスであって、前記流路の上面と下面が平行である細胞観察用デバイスと、前記流路内の細胞を観察するための顕微鏡とを備えた細胞解析システム。 - 特許庁

When a power source switch provided on an operating part 30 is operated, and power supply to a digital camera for a microscope is started, the CPU 201 gives an instruction to a reading attribute setting part 74, and the reading attribute setting part 74 sets read-only attributes in a data file already recorded in the removable media 35 when the power supply is started.例文帳に追加

操作部３０に備えられている電源スイッチが操作されてこの顕微鏡用デジタルカメラへの電力の供給が開始されたときに、ＣＰＵ２０１は読み出し属性設定部７４へ指示を与え、当該開始時点においてリムーバブルメディア３５に既に記録されていたデータファイルに対して読み出し専用の属性を設定する。 - 特許庁

The laser scanning microscope has: lasers 1, 2 and 3 emitting the laser beams having the different wavelength; a scanning means 30 two-dimensionally scanning a sample 9 with the laser beam; and a wavelength selection means 5 selecting the wavelength of the laser beam on a go-path and the laser beam on a return-path when scanning nearly the same scanning line position on the sample back and forth.例文帳に追加

異なる波長のレーザ光を射出するレーザ１，２，３と、前記レーザ光を標本９上で二次元に走査する走査手段３０と、前記標本上のほぼ同一の走査線位置上を往復走査するとき、往路のレーザ光と復路のレーザ光の波長を選択する波長選択手段５を有するレーザ走査顕微鏡。 - 特許庁

An electron source, in which, after the carbon nanotube is fitted to the central part of the tip of the conductive substrate through a conductive bonding material or an organic material, the carbon nanotube is jointed by ohmic contact by carrying out carbonization treatment of the organic material by heat treatment or diffusion bonding, is applied to the electron microscope and the electron beam lithography device.例文帳に追加

導電性基材の先端中央部に、導電性接合材料を介するか、あるいは有機材料を介してカーボンナノチューブを取付けた後、熱処理により該有機材料を炭化処理するか、または拡散接合によりカーボンナノチューブをオーミックコンタクト接合した電子源を電子顕微鏡，電子線描画装置に適用する。 - 特許庁

To provide a new cantilever for processing, wherein a great number of fine grooves are simultaneously processed with high accuracy by probes as a great number of cutting blades, in order to drastically shorten a process time for forming fine shapes by using functions of an atomic force microscope on a three-dimensional surface including a curved face.例文帳に追加

曲面を含んだ３次元形状の表面に原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の機能を利用して微細形状を形成するときの加工時間を大幅に短縮することを目的とし、そのために多数の切れ刃となるプローブ（探針）によって多数の微細溝を同時に高精度で加工できる新規な加工用カンチレバーを工夫すること。 - 特許庁

A focus evaluation value for a sample 2 in a microscope body 1 is obtained by a focus evaluation circuit 25 based on the frame image data of every frame obtained from the image signal outputted from the imaging device 16 of an electronic camera 14, and a focusing handle 4 is rotated to obtain a focusing point by an AF device 20 based on the focus evaluation value.例文帳に追加

電子カメラ１４の撮像素子１６から出力される画像信号から得られる１フレーム毎のフレーム画像データに基づいてフォーカス評価回路２５により顕微鏡本体１における試料２に対するフォーカス評価値を求め、このフォーカス評価値に基づいてＡＦ装置２０によって焦準ハンドル４を回転させて合焦点を得る。 - 特許庁

After the sample 10a to measure the resistance characteristics is irradiated with cation beams and charged, the sample 10a is observed with a scanning ion microscope, and the part (low resistance part) 6 where the electric resistance is different from the other area is detected from the contrast of electronic images (secondary electronic images) by a secondary electron from the sample 10a to be tested.例文帳に追加

抵抗特性を測定すべき被検試料１０ａに陽イオンビームを照射して帯電させた後、被検試料１０ａを走査イオン顕微鏡にて観察し、被検試料１０ａから生じる二次電子による電子像（二次電子像）のコントラストから、電気抵抗値がその他の領域とは異なる箇所（低抵抗箇所）６を検出する。 - 特許庁

In an image processing device 70, a visible light image acquisition control part 771 controls operation of a microscope 10 and acquires a visible light image by imaging visible light observation image of a sample to which HE dyeing has been applied and dyeing (fluorescent label) has been applied with fluorescent dye binding specifically to a cell nucleus.例文帳に追加

本発明のある実施の形態の画像処理装置７０において、可視光画像取得制御部７７１は、顕微鏡１０の動作を制御し、ＨＥ染色が施され、細胞核と特異的に結合する蛍光色素によって染色（蛍光標識）が施された標本の可視光観察像を撮像して可視光画像を取得する。 - 特許庁

The atomic force microscope (AFM) 102 includes also an electric power source 130 for impressing a potential between the first tip 302 and the second tip 304, at least one mechanism 108 for generating relative motion between a probe and the surface 131, and at least one sensor 132 for detecting a current flowing between the first tip 302 and the second tip 304.例文帳に追加

該原子間力顕微鏡(102)は更に、第１の先端部(302)と第２の先端部(304)との間に電位を印加する電圧源(130)と、表面(131)とプローブ(106)との間の相対的な運動を生じさせる少なくとも１つの機構(108)と、第１の先端部(302)と前記第２の先端部(304)との間に流れる電流を検出する少なくとも１つのセンサ(132)とを含む。 - 特許庁

In a method of evaluating the surface of a principal surface of an attraction retainer onto which an object is to be attracted, surface evaluation of the principal surface is performed based on images of interference patterns in the principal surface obtained using a laser microscope.例文帳に追加

被吸着物を吸着する吸着保持装置の前記被吸着物を吸着する側の主面に対する表面評価方法であって、レーザ顕微鏡を用いて求められた前記主面における干渉縞の像に基づいて前記主面に対する表面評価を行うことを特徴とする吸着保持装置の表面評価方法。 - 特許庁

The scanning type laser microscope 1 includes scanning means 21, 21' which two-dimensionally scan a laser beam from a laser light source 2, and a light-shielding member 4 covering the scanning means 21, 21', and further, has heat radiating means 25, 25' radiating the heat generated by the scanning means 21, 21' into a space outside the light-shielding member.例文帳に追加

レーザ光源２からのレーザ光を二次元に走査する走査手段２１、２１’と、前記走査手段２１、２１’を覆う遮光部材４とを有する走査型レーザ顕微鏡１であって、前記走査手段２１、２１’が発生する熱を前記遮光部材の外側の空間に放熱する放熱手段２５、２５’を有する走査型レーザ顕微鏡１。 - 特許庁

The microscope instrument includes a Z stage 15 for moving an objective lens 11 vertically, a focus point detection system 30 for irradiating a test substance 21 with measuring light for focusing detection, a signal processing part 41 for controlling the Z stage 15 based on the focusing detection result, and a measuring part 42 for measuring the amount of movement of the objective lens 11.例文帳に追加

顕微鏡装置は、対物レンズ１１を上下移動させるＺステージ１５と、被検体２１に測定光を照射して合焦検出する焦点検出系３０と、合焦検出結果に基づいてＺステージ１５を制御する信号処理部４１と、対物レンズ１１の移動量を測定する測定部４２とを有する。 - 特許庁

In a micromanipulation system for applying micro manipulation to an object within the view of a microscope by using a micro needle, positions of the object and an objective lens are relatively moved to detect a position where the object is focused, in accordance with movement, and the movement of a object moving means is controlled on a basis of a detection result.例文帳に追加

顕微鏡の視野内で被検体に対して微小針を用いて微細操作を行うマイクロマニピュレーションシステムは、被検体と対物レンズとの位置を相対的に移動させ、この移動に応じて前記被検体に焦点の合う位置を検出し、この検出結果に基づいて、前記被検体移動手段の動作を制御することにより、上記課題の解決を図る。 - 特許庁

On a fixture 1 for verifying mounting accuracy that is mounted at a region on a stage 800 of a mounting device where a circuit board is mounted, positions of mounting reference points A and B provided on the surface for mounting parts B1 and B2 under the mounted state, and positions of mounting position verifying points P1 and P2 are recognized with an electronic microscope.例文帳に追加

実装装置のステージ８００上の回路基板が載置される部位に載置した実装精度確認用冶具１上に、実装した状態の部品Ｂ１，Ｂ２の搭載面上に設けた実装基準ポイントＡ、Ｂとの位置と実装精度確認用冶具１の実装位置確認ポイントＰ１、Ｐ２の位置とを電子顕微鏡２により認識する。 - 特許庁

The measuring sample in a fine domain which is a measuring object including water is enlarged by a microscope body part, and each spectrum of detection light transmitted through the fine domain and reference light detection light is determined, and the absorbance difference of the measuring sample is determined by using light intensity having a specific wavelength, and a temperature change of a specimen is determined based on the absorbance difference.例文帳に追加

水を含む測定対象である微小領域の測定試料を顕微鏡本体部によって拡大すると共に、微小領域を透過した検体光と参照光のスペクトルを求めると共に、特定の波長の光強度を用いて測定試料の吸光度差を求め、当該吸光度差に基づいて検体の温度変化を求めるようにする。 - 特許庁

The fluorescent microscope 1 demodulates, by modulating the spatial intensity distribution of the intermediate image with the scan mask 4, the component shifted to the frequency equal to or lower than the cutoff frequency f_c to the original high frequency component, and communicates the frequency component to an imaging surface through an imaging lens 6 to be converted to digital image data including super resolution components by an imaging element 7.例文帳に追加

そして、蛍光顕微鏡１は、スキャンマスク４で中間像の空間強度分布を変調することによって、カットオフ周波数f_c以下の周波数にシフトした成分を元の高周波成分に復調して、撮像レンズ６により撮像面に伝達し、撮像素子７により超解像成分を含むデジタル画像データに変換する。 - 特許庁

The heat-resistance resin is obtained by subjecting to a crystallization treatment a film comprising 70-30 wt.% of a polyarylketone resin having a crystal melting peak temperature of at least 260°C and 30-70 wt.% of a non- crystalline polyetherimide resin and has a maximum crystal grain size of at most 0.3 μm as observed by a transmission electron microscope.例文帳に追加

結晶融解ピーク温度が２６０℃以上であるポリアリールケトン樹脂７０〜３０重量％と非晶性ポリエーテルイミド樹脂３０〜７０重量％とからなるフィルムを結晶化処理したフィルムであって、透過型電子顕微鏡で観察した際に、最大結晶粒径が０．３μｍ以下であることを特徴とする耐熱性フィルム。 - 特許庁

In the method, a pulse voltage VB is applied to a material 3 having a ferroelectric thin film 1 by a conductive needle 2 by using an atomic force microscope, the amplitude of the pulse voltage VB is changed by a voltage applying means when a film thickness change of the ferroelectric thin film 1 is measured, and also a detecting output is measured through a lock-in amplifier 4.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いて導電性針２によって強誘電体薄膜１を有する試料３にパルス電圧Ｖ_B を印加し、強誘電体薄膜１の膜厚変化分を測定する際に、パルス電圧Ｖ_B の振幅を電圧印加手段によって変化させるとともに、検出出力をロックインアンプ４を通して測定する。 - 特許庁