「Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(172ページ目) - Weblio英語例文検索

Additionally the scanning probe microscope 100 is provided with a CPU 164 controlling an entire system, an indication input section 166 for designating a SPM measurement area, a display section 168 displaying the image and various information on the sample, and a memory section 170 storing the acquired data.例文帳に追加

さらに、走査型プローブ顕微鏡１００は、装置全体を制御するためのＣＰＵ１６４と、ＳＰＭ測定領域を指定するための指示入力部１６６と、試料の画像や種々の情報を表示するための表示部１６８と、得られる情報を記憶するための記憶部１７０とを有している。 - 特許庁

To separate a constituent that depends on recess and projection, material quality, and the like from obtained light information by using multiple- azimuth simultaneous detection condensing equipment for mounting a plurality of optical waveguides or photo detectors in a condensing system used for a scanning type proximity field microscope.例文帳に追加

走査型近接場顕微鏡に用いる光集光系において、複数の光導波路または光検出器を搭載できる多方位同時検出光集光器を使う事で、得られる光情報の中から、これまで不可能であった、凹凸、材質などに依存した成分を分離する事が可能にする。 - 特許庁

The carbon black has ≤0.5% oxygen content, 150-250 ml/100 g DBP absorption measured based on JIS K 6217, 0.5-0.8 μm mode diameter in a size distribution curve drawn by using structure lengths measured by a transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof.例文帳に追加

酸素含有量が０．５％以下、ＪＩＳ Ｋ ６２１７によるＤＢＰ吸収量が１５０〜２５０ｍｌ／１００ｇ、透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であることを特徴とするカーボンブラック。 - 特許庁

By providing a bar-like projection on the illumination system, the vibrating direction of rotating polarized light not made visible ordinarily is easily detected in the visual field of the microscope and rotating speed is read from a rotation driving control system.例文帳に追加

顕微鏡対物レンズの辺縁部にレーザ光を導入しこのレーザ光の照明方向を回転可能にした照明光学系において、常に対物レンズ光軸中心からの放射状方向と直角方向の横波成分のみを持つエバネセント場で照明する回転式輪帯偏光全反射照明光学系とした。 - 特許庁

The magnetic particles are reduction treatment products of hexagonal ferrite magnetic particles, and a ratio Dc/Dtem between a particle diameter Dtem in a direction perpendicular to a face (220) obtained with a transmission electron microscope and a crystallite size Dc obtained from a diffraction peak of the face (220) is within the range of 0.90-0.75.例文帳に追加

前記磁性粒子は、六方晶フェライト磁性粒子の還元処理物であって、透過型電子顕微鏡により求められる（２２０）面に垂直な方向における粒子径Ｄｔｅｍと、（２２０）面の回折ピークから求められる結晶子サイズＤｃとの比Ｄｃ／Ｄｔｅｍが０．９０〜０．７５の範囲である。 - 特許庁

To provide a confocal microscope which is capable of observing a sample with multicolors by using a Nipkow disk system confocal scanner and a spectroscopic unit and does not require image processing with respect to an inversion image because a transmission image and a reflection image of dichroic mirror can be corrected in the same direction in the spectroscopic optical unit.例文帳に追加

ニポウディスク式共焦点スキャナと分光光学ユニットを用いて試料を多色で観察することができると共に、分光光学ユニット内でダイクロイックミラーの透過像と反射像を同じ向きに補正することにより、反転像に対する画像処理を必要としない共焦点顕微鏡を実現すること目的とする。 - 特許庁

To provide a probe position control method which enables more accurate observation or operation by correcting the change of the relative position of a sample and a probe during observation or operation in a scanning type probe microscope (SPM) or an atomic manipulator (operation) by excluding the effect of a heat drift or the like, and a probe position control device.例文帳に追加

熱ドリフト等の影響を排除し、走査型プローブ顕微鏡(SPM)や原子マニピュレータ(操作)装置において、その観察又は操作の間に試料とプローブの相対位置が熱により変化するのを補正して、より正確な観察又は操作を可能にする位置制御方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

The probe 2 of a scan-type probe microscope is heated and scanned near the surface of a sample, applying etching gas to the mask to be treated so that the mask area to be treated (opaque defect) and etching gas react chemically by heat radiation from the probe 2, resulting in generation and evaporation of a volatile substance.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の探針２を熱して、マスクの被加工領域にエッチングガスを吹きつけながら試料表面に接近させた状態で走査させ、探針２からの輻射熱によりマスクの被加工領域（黒欠陥）とエッチングガスとで化学反応を起こさせ、揮発性物質を生成させ蒸発させる。 - 特許庁

The electron microscope includes: an objective lens 6 for converging electron beams and applying the converged electron beam to a sample 4; a sample chamber container 5 forming a sample chamber for storing the sample 4; a sample chamber magnetic shield 7 formed in the sample chamber container 5; and a cylindrical objective lens magnetic shield 8 surrounding the periphery of the objective lens 6.例文帳に追加

電子線を収束させて試料４に照射する対物レンズ６と、試料４を収納する試料室を形成する試料室容器５と、試料室容器５の内部に設けられた試料室磁気シールド７と、対物レンズ６の周囲を囲む筒形の対物レンズ磁気シールド８とを備える。 - 特許庁

From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.例文帳に追加

光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁

This tension testing device is attached to an inside of a scanning electron microscope mounted with a reflected electron detector, a test piece is tensioned while photographing a reflected electron image, and a change of a shape in a crystal grain appearing in the reflected electron image is measured to compute sequentially a strain amount in each crystal grain and a cross section with respect to a tensioned direction.例文帳に追加

反射電子検出器を装着した走査電子顕微鏡内に引張り装置を取り付け、反射電子像を撮影しながら試験片を引張り、反射電子像に現れる結晶粒の形の変化を測定し、結晶粒毎の歪量及び引張り方向に対する断面積を逐次演算する。 - 特許庁

In a monochrome gray image at 256 gray levels, where black corresponds to 0 and white corresponds to 255, of a cross section intersecting the outside surface of the nickel plated layer 31 at right angles, as observed by a transmission electron microscope using 200 kV acceleration voltage, the average value in 256 gray levels of the monochrome gray image is 170 to 230, both ends inclusive.例文帳に追加

ニッケルメッキ層３１の外表面に直交する断面を、２００ｋＶの加速電圧による透過型電子顕微鏡で観察したときの、黒を０とし、白を２５５とした２５６階調の白黒濃淡画像において、白黒濃淡画像の２５６階調での平均値が１７０以上２３０以下とされる。 - 特許庁

Furthermore, when the monofilament cross-section is observed by an optical microscope, it is distinguished into two layers of sheath and core layers, wherein the ratio R (%) of the average diameter r_2 of the core layer to the diameter r_1 of the monofilament cross section is 90% or less.例文帳に追加

凸型率（％）＝（凸型断面繊維の本数／マルチフィラメントの構成本数）×１００さらに、モノフィラメント繊維断面を光学顕微鏡によって観察した際、シース層とコア層の二層に識別可能で、コア層の平均直径ｒ_２の繊維断面直径ｒ_１に対する比率Ｒ（％）が９０％以下であるポリベンザゾール繊維。 - 特許庁

To provide a compact device capable of recording a transmission image acquired by using a soft X-ray not absorbed by water occupying a large portion of a cell in order to observe the living cell, as a moving image with high space resolution of about 100 nm, organizing a stereoscopic image, and performing simultaneous observation with a visible range microscope.例文帳に追加

生きたままの細胞を観察するには細胞の大部分を占める水に吸収されることのない軟X線を用いその透過像を１００nｍ程度の高空間分解能で動画として記録し、立体像を構築し、さらには可視域顕微鏡との同時観察を可能とするコンパクトな装置が必要である。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, which is suitable for mass- production management and has high reliability and stable yield by improving dense distribution of holes and controllability to a hole diameter and by realizing easy inspection process for a buried plug height, using a scanning electron microscope as for the height of the buried plug in formation of a wiring contact part of a dual-damascene wiring.例文帳に追加

デュアルダマシン配線の配線コンタクト部の形成における埋め込みプラグの高さについて、ホールの疎密分布およびホール径に対する制御性を改善し、走査型電子顕微鏡を用いた埋め込みプラグ高さの検査工程を容易にし、量産管理に適した信頼性の高い歩留の安定した半導体装置を得る。 - 特許庁

The optical microscope comprises a light source 11, a detector 27 for detecting the light from a specimen 21, a confocal optical system 30 for linearly collecting the light from the light source 11 and guiding the same to the specimen 21, and a diffraction grating 25 for diffusing the light passing through a slit 23 in the vertical direction with the slit 23.例文帳に追加

光学顕微鏡は、光源１１と、試料２１からの光を検出する検出器２７と、光源１１からの光をライン状に集光して試料２１に導く共焦点光学系３０と、スリット２３を通過した光をスリット２３と垂直方向に分散させる回折格子２５と、を備えている。 - 特許庁

A reticle microscope (observation area 52RA, 52RB) is used to successively observe a plurality of mark pairs on a reticle R and a pair of reference marks on a reference mark plate on a wafer stage, and to measure a positional difference of the respective marks to the reference mark while it moves on a reticle stage RST in Y-axis direction.例文帳に追加

これによれば、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に移動しながら、例えばレチクルＲ上の複数のマーク対とウエハステージ上の基準マーク板上の一対の基準マークとを、レチクル顕微鏡（観察領域５２ＲＡ、５２ＲＢ）を用いて、順次観察し、各マークの基準マークに対する位置誤差を計測する。 - 特許庁

To provide an optical axis adjusting auxiliary device capable of guiding easily and surely an irradiation spot to the center of a light receiving surface on the light receiving surface of a quadripartite photodetector, and facilitating an optical axis adjusting work, in the optical axis adjusting work of a scanning probe microscope or the like equipped with an optical lever type optical detection system.例文帳に追加

光てこ式光学検出系を備えた走査型プローブ顕微鏡等での光軸調整作業で、４分割光検出器の受光面でて照射スポットが受光面の中心に容易にかつ確実に導くことができ、光軸調整作業の容易化を図ることのできる光軸調整補助装置を提供する。 - 特許庁

For an organic EL element 100 obtained by successively laminating a substrate-side electrode 4, an organic EL layer 6 and a counter electrode 8 on one side of an element substrate 2, an increase rate of an area measured through an atomic force microscope to a projected area in a direction perpendicular to an electrode surface of the substrate-side electrode is controlled to lower than 1.1%.例文帳に追加

素子基板２の片面に基板側電極４、有機ＥＬ層６、対向電極８を順次積層してなる有機ＥＬ素子１００において、基板側電極の電極面に垂直方向の投影面積に対する原子間力顕微鏡で測定した面積の増加率を１．１％未満にする。 - 特許庁

The illumination mechanism 28 has: a light guide part 32 having an illumination light irradiation part for irradiating out illumination light LB toward the observation field to the first end side, wherein the second end side is extended to the outside of the optical microscope; and a light source 23 for supplying the illumination light to the second end side of the light guide part 32.例文帳に追加

照明機構２８は、第一端部側に観察視野に向けて照明光ＬＢを照出する照明光照出部を有するとともに第二端側が前記光学顕微鏡外に延出するライトガイド部３２と、該ライトガイド部３２の第二端側に照明光を供給する光源２３とを有してなる。 - 特許庁

In a wafer supporting device 5 or a wafer observing device 1, a wafer W facing a light transmission member 14 fitted in an opening 12 of a wafer holder 11 is positioned with respect to an objective lens 3 of an inverted microscope 2 facing an opening 6 of a base 7, and then the wafer holder 11 is fixed to the base 7 by a fixing mechanism 31.例文帳に追加

ウェハ支持装置５延いては観察装置１では、ベース７の開口６に臨む倒立型顕微鏡２の対物レンズ３に対して、ウェハホルダ１１の開口１２に嵌められた光透過部材１４に臨むウェハＷの位置合せが行われた後、固定機構３１によってベース７に対してウェハホルダ１１が固定される。 - 特許庁

This is an electrostatic charge measuring method and a focus adjustment method, or a scanning electron microscope to measure the charge amount or to control an impressing voltage on the test piece by moving the scanning place of the electron beams on the test piece, and changing the impressing voltage on an energy filter.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、試料上の電子ビームの走査個所を移動しつつ、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させることで、帯電量を測定、或いは試料への印加電圧を制御する帯電測定方法、焦点調整方法、或いは走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

A first image acquisition control part 62 of a control unit 60 acquires an image in which only a pixel with the highest luminance is selected among images obtained in respective focal positions of a confocal microscope with light of a light quantity shown by the first light quantity setting data, and records the image in a memory 66.例文帳に追加

制御ユニット６０の第１の画像取得制御部６２は、第１の光量設定データで表される光量の光により、共焦点顕微鏡の各焦点位置で得られた各画像の中で輝度が最も高い画素のみが選択された画像を取得し、その画像をメモリ６６に記録する。 - 特許庁

Diamond powder 3 that has a slower ion sputter speed than a probe material is allowed to adhere to the material of a probe for a scanning probe microscope, and the material of the probe is subjected to ion sputtering while the diamond powder 3 adheres until the least the diamond powder 3 disappears, thus forming a needle-shaped projection 6.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡用探針の材料に、この探針材料よりイオンスパッタ速度が遅いダイアモンド粉末３を付着させ、このダイアモンド粉末３が付着した状態で、このダイアモンド粉末３が無くなるまで、或いはそれ以上に、前記探針材料をイオンスパッタすることにより、針状突起６を形成する。 - 特許庁

The texture 13 of a low frequency component obtained by measuring a 10 μm square range by an atomic force microscope has 10 to 200 nm width W, 2 to 10 nm height H and the ratio (Rp/RMS) of the maximum height Rp to root-mean-square roughness RMS of not more than 15.例文帳に追加

原子間力顕微鏡で１０μｍ四方の範囲を測定して得られる低周波成分のテクスチャー１３の幅Ｗは１０〜２００ｎｍ、テクスチャー１３の高さＨは２〜１０ｎｍ、テクスチャー１３の自乗平均粗さＲＭＳに対する最大山高さＲｐの比（Ｒｐ／ＲＭＳ）は１５以下である。 - 特許庁

The position of the light emitting point (chip surface active layer) of the semiconductor laser 21 is detected by an adjusting optical system consisting of a microscope 32 and a CCD camera 33 through a polarizing beam splitter 22, and a deviation from a prescribed position is calculated to perform the translational adjustment (positional adjustment in X and Y directions) for the semiconductor laser 21.例文帳に追加

半導体レーザ２１の発光点位置（チップ面活性層）を、偏光ビームスプリッタ２２を介して顕微鏡３２およびＣＣＤカメラ３３からなる調整光学系により検出し、所定の位置からのずれを算出して半導体レーザ２１の並進調整（ＸＹ方向位置調整）を行う。 - 特許庁

The optical radiation pressure measuring device, the resonance frequency regulating method, the aperture diameter inspection device and the near field microscope provided with the aperture diameter inspection device utilize that a frequency characteristic of the resonance body is changed by the optical radiation pressure P when incident light 18 is irradiated on a reflecting means 64 provided on the resonance body.例文帳に追加

共振体に設けられた反射手段６４に入射光１８を照射したときの光放射圧Ｐにより共振体の周波数特性が変化することを利用した光放射圧測定装置、共振周波数調整方法、開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡 - 特許庁

This stereoscopic microscope inspection system has an objective system having an object plane to be arranged with the object to be observed or the intermediate image, a left side eyepiece system to which an incident beam flux on the left side of the objective lens is supplied and a right side eyepiece system to which the incident beam flux on the right side of the objective lens is supplied.例文帳に追加

この立体顕微鏡検査システムは、観察されるべき物体又は中間像を配置する物体平面を有する対物システムと、対物レンズの左側に入射するビーム束が供給される左側接眼システムと、対物レンズの右側に入射するビーム束が供給される右側接眼システムとを備えている。 - 特許庁

The microscope apparatus stage is arranged with a stage base which is a stationary stage, a main stage which is provided atop the stage base and is movable via a ball, and a knob which is provided at the stage base and serves to move the main stage.例文帳に追加

また、標本内における観察領域が非常に狭く観察目的位置まで移動する際に観察途中で高倍率から低倍率に対物レンズを切り換えた場合には、多大な移動時間を要し、作業能率が著しく低下してしまい、またレンズを切り換えた際に観察誤差が生じ、観察精度そのものが低下してしまう。 - 特許庁

The resinous structure comprises a resin composition consisting of 5-80% by volume of a polyketone resin and 95-20% by volume of a polyolefin resin and has a phase structure, as a resin phase-separating structure observed with an electron microscope, in which structure the polyolefin resin is of a continuous phase and the polyketone resin is of a beltlike dispersed structure.例文帳に追加

（ａ）ポリケトン樹脂５〜８０容量％及び（ｂ）ポリオレフィン樹脂９５〜２０容量％からなる樹脂組成物であり、電子顕微鏡で観察される樹脂相分離構造として、ポリオレフィン樹脂が連続相、ポリケトン樹脂が帯状分散相である相構造を有する樹脂構造体とする。 - 特許庁

In this case, when carrying out focus detection using a laser beam reflected from the surface of a boundary between a cover glass or slide glass and a cell or culture media, the microscope focus maintaining device can alter the luminous flux diameter of the laser beam to a luminous flux diameter corresponding to NA smaller than the refractive index of the cell or culture media.例文帳に追加

ここで、顕微鏡フォーカス維持装置は、カバーガラスやスライドガラスと細胞や培養液との境界面からのレーザー光ビームの反射光を利用してフォーカス検出する場合、レーザー光ビームの光束径を細胞や培養液の屈折率よりも小さいＮＡに相当する光束径に変更可能としている。 - 特許庁

To prevent vertical illuminating light from a vertical illumination optical system from being radiated to a solid light-emitting element when performing vertical illumination observation by using a microscope system having a transmitted illumination optical system and the vertical illumination optical system and using the solid light-emitting element to which phosphor is imparted as a light source of a transmitted illumination system.例文帳に追加

本発明では、透過照明光学系と落射照明光学系とを有し、蛍光体が付与された固体発光素子を透過照明系の光源とする顕微鏡システムを用いて落射照明観察をする場合、落射照明光学系から落射光が固体発光素子にあたらないようにすることを目的とする。 - 特許庁

The light shielding plate 140 of the scanning type confocal microscope 100 is movable (X-Y direction) within the plane perpendicular to the optical axis L of the detecting light returning from a specimen 1 and is movable back and forth in the optical axis L direction (Z direction) around a point G conjugate with the spot on the specimen 1.例文帳に追加

走査型共焦点顕微鏡１００において、遮光板１４０は、標本１かから戻ってきた検出光の光軸Ｌに垂直な面内で移動可能で（Ｘ−Ｙ方向）、かつ、標本１上のスポットと共役な点Ｇを中心に光軸Ｌ方向（Ｚ方向）に前後移動可能である。 - 特許庁

To widen the contact area between a probe and a sample in measurement, to reduce the contact pressure thereby to restrain a sample surface from being deformed, to restrain the contact area with the sample from being dispersed, and to eliminate dispersion in physical property measurement of the sample surface to allow stable measurement, in a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡において、測定時にプローブと試料との接触面積を大きくし、接触圧を下げ、試料表面の変形を抑えること、また試料との接触面積のばらつきを抑え、試料表面の物性測定においてばらつき無く安定に測定できるようにすること。 - 特許庁

To achieve flexible use by the easiest operation in fewest adjusting steps, in terms of a microscope including a light source and a detector device and configured such that the optical path of illuminating light extends between the light source and a specimen and the optical path 2 of a detecting line extends between the specimen and the detector device.例文帳に追加

光源及び検出器装置を有し、光源と試料との間で照明光線光路が、そして試料と検出器装置との間で検出線光路２が延在する顕微鏡に関するものであり、最も少ない調整手数でもってフレキシブルな利用が最も簡単な操作で可能となるように、構成すること。 - 特許庁

The fluorescence microscope system is provided with: a sample (S) containing fluorescent substance; a glass plate (G) for supporting the sample; an illumination light source (I_L) used for illuminating the sample; and a microscopic optical system (M) including an objective lens (Ob) facing the sample so as to obtain the illuminated image.例文帳に追加

本発明による蛍光顕微鏡システムは、蛍光物質を含む標本（Ｓ）と、前記標本を支持するガラスプレート（Ｇ）と、前記標本の照明に用いられる照明光源（Ｉ_L ）と、前記照明による像を取得するために前記標本に向けられている対物レンズ（Ｏｂ）を含む顕微鏡光学系（Ｍ）を備えている。 - 特許庁

To provide a measuring device of dust for photographing scattered dust by a microscope, and discriminating the dust by image processing, and to provide the measuring device of dust and an estimation method of a generation source for estimating the generation source of each dust based on a result acquired by the measuring device of the dust.例文帳に追加

飛散した粉塵について、それらを顕微鏡で撮影し、画像処理によって識別する粉塵の測定装置、およびこの粉塵の測定装置によって得られた結果に基づいてそれぞれの粉塵の発生源を推定する、粉塵の測定装置および発生源の推定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The sample holding mesh 13 used for a transmission electron microscope has a separable part (a primary mesh 13-1) and this part is made to be detachable from the remaining part (a secondary mesh 13-2) after separation so that it may not break a tip of the sample during measurement and precise elemental analysis can be performed.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡に用いられる試料保持用のメッシュ１３において、前記メッシュの一部（第１のメッシュ１３−１）が分離し、当該一部が、分離後に残った部分（第２のメッシュ１３−２）と脱着可能な形態とすることにより、測定中、試料の先端を崩さずに、精度の高い元素分析を行なう。 - 特許庁

When the stylus-type prove 10 is irradiated with illumination light from a laser light source 4 through the glass substrate 20, an interference fringe appears resulting from the gap G, and the position in the X-direction of the interference fringe is detected by a microscope 2 and a CCD camera 3, to thereby measure the irregularity quantity on the sample S surface.例文帳に追加

レーザー光源４からの照明光をガラス基板２０を通して触針式プローブ１０へ照射すると、ギャップＧに起因して干渉縞が現れ、その干渉縞のＸ方向の位置を顕微鏡２とＣＣＤカメラ３で検出することにより、試料Ｓの表面の凹凸量を測定する。 - 特許庁

Provided that "uniformly grafted" means a fact that a relative current value does not exceed 30 on all of the regions of surface of the particles when a contact current on each of individual particles is measured by using a scanning type probe microscope, and a mean contact current of not grafted particles is set as 100.例文帳に追加

ただし、均一にグラフト化されているとは、走査型プローブ顕微鏡を用いて個々の粒子表面のコンタクト電流（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）を測定し、グラフト化されていない粒子の平均コンタクト電流値を１００としたときの相対電流値が粒子表面全域で３０を超えないことをいう。 - 特許庁

This transmission electron microscope can form an electron beam hologram H by a control device 17 by bringing an electron beam biprism 15 into a state in which interference is caused between an object wave E1 and a reference wave E2 by grounding an object wave side electrode 15a and a reference wave side electrode 15b and impressing positive potential V1 to a filament 15c.例文帳に追加

制御装置１７により、電子線バイプリズム１５を、物体波側電極１５ａと参照波側電極１５ｂとを接地し、フィラメント１５ｃに正の電位Ｖ１を印加し、物体波Ｅ１と参照波Ｅ２とを干渉させる状態にすることにより、電子線ホログラムＨを形成することができる。 - 特許庁

The magnetic field objective lens for an electron microscope has a first magnetic field lens and a second magnetic field lens generating a magnetic field in the vicinity of a sample mounting region along an optical axis, and in the sample mounting region, the magnetic fields by the first magnetic field lens and the second magnetic field lens are canceled each other to zero.例文帳に追加

電子顕微鏡用磁界型対物レンズは、光軸に沿う試料配置領域の近傍に磁場を発生させる第１磁界型レンズおよび第２磁界型レンズを有し、前記試料配置領域において、前記第１磁界型レンズおよび前記第２磁界型レンズによる磁場が互いに打ち消されてゼロになる。 - 特許庁

This method is applied for a scanning type probe microscope having a measuring part for scanning a sample 12 by a probe 25 to measure a physical quantity about the sample surface, and constituted to be provided with an XY fine moving mechanism 24 for moving the probe finely, and an XY stage 51 for moving the sample roughly.例文帳に追加

この測定方法は、探針２５で試料１２を走査して試料表面に関する物理的量を測定する測定部を有し、かつ探針を微動させるＸＹ微動機構２４と試料を粗動させるＸＹステージ５１を備えるように構成された走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

When negative voltage or pulse voltage is applied to a probe of scanning probe microscope which is provided with a conductive probe 7 in the air, chromium 3 which is exposed on the surface just under the probe is anodized and generates the chromium oxide 6, therefore, the region in which the antireflection coating is stripped off is scanned and anodized, and the antireflection coating is repaired.例文帳に追加

導電性探針7を備えた走査プローブ顕微鏡の探針に大気中で負電圧もしくはパルス電圧をかけると、探針直下の表面に露出したクロム3が陽極酸化され酸化クロム6を生成するので、反射防止膜が剥れた領域を走査・陽極酸化し反射防止膜を修復する。 - 特許庁

The image of a lymphocyte nucleus is also processed in addition to the image processing of a neutrophilic leukocyte nucleus and the image analytical result of the neutrophilic leukocyte nucleus is standardized by using an image analysis result obtained from the lymphocyte nucleus, so that image analysis prevented from the influence of coloring or the setting condition of the microscope can be executed.例文帳に追加

画像処理の対象とする好中球細胞核以外に、リンパ球細胞核も画像処理し、リンパ球細胞核から得られた画像解析結果を用いて好中球細胞核の画像解析結果を基準化することで染色や顕微鏡の設定条件に左右されない画像解析を行う。 - 特許庁