「Microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(171ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a program which enables operation of a new scanning method which is always not associated with the contact of a probe with a sample surface such as that in a non-contact mode or a point contact mode, while maintaining the versatility of a contact mode, in regard to the program for forming an instruction which makes a computer operate the scanning method of a scanning type probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の走査方法をコンピュータに実行させる指示を生成するプログラムにおいて、コンタクトモードの汎用性を維持しつつ、非接触モードやポイントコンタクトモードのように、常時探針と試料表面の接触を伴わない新たな走査方法を実施可能とするプログラムを提供する。 - 特許庁

The microscope apparatus includes a first lens group G1 having positive refractive power, a second lens group G2 having negative refractive power and a third lens group G3 having positive refractive power in the order from the object side, whereby the first lens group G1 moves to the object side and the second lens group G2 moves to the image side in accordance with variable power from lower power to higher power.例文帳に追加

物体側から順に、正の屈折力を持つ第１レンズ群Ｇ１と、負の屈折力を持つ第２レンズ群Ｇ２と、正の屈折力を持つ第３レンズ群Ｇ３とからなり、低倍から高倍への変倍にしたがって第１レンズ群Ｇ１は物体側へ、第２レンズ群Ｇ２は像側へ移動する。 - 特許庁

The negative electrode carbon material for a lithium ion battery is prepared by heat-treating coke at about 2,100-2,700°C, wherein a cross-sectioned optical structure of the coke observed with a polarizing microscope is of an anisotropic structure formed with a fine-mosaic structure and a flow structure and an area ratio of both structures is: the former/the latter=10/90 to 70/30.例文帳に追加

偏光顕微鏡で観察した断面の光学組織が、ファインモザイク組織と流れ組織とで形成された異方性組織であり、かつ両組織の面積割合が、前者／後者＝１０／９０〜７０／３０であるコークスを２１００〜２７００℃程度で熱処理して、リチウムイオン電池用負極炭素材を調製する。 - 特許庁

This method is to adjust the multi-pole lenses of the electron spectrometer having a plurality of the multi-pole lenses attached to a transmission electron microscope, and optimum conditions are found by simulation using a parameter design method using the exciting currents of the multi-pole lenses as parameters in this lens adjusting method.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡に付随している複数個の多重極子レンズを有する電子分光器の多重極子レンズを調整する方法であって、多重極子レンズの励磁電流をパラメータとしたパラメータ設計手法を用いたシミュレーションにより最適条件を求めるレンズ調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microscope objective lens which can correct various aberration generated by the change of the thickness of a medium between the objective lens and a sample, can easily find a lens position for most sharply imaging, can improve the efficiency of observation and maximize the performance.例文帳に追加

対物レンズと標本との間にある媒質の厚さの変化によって生じる諸収差を補正できる対物レンズにおいて、像が最も鮮明に見えるレンズの位置を容易に見付けて観察の効率を向上させることができると共に、性能を最大限に引き出すことが可能な顕微鏡対物レンズを提供する。 - 特許庁

To provide a system that aspirates reagents from a reagent vial while minimizing evaporation in the reagent vial, that dispenses reagents accurately, and that minimizes cross-contamination of the reagent vials through cleaning of a reagent delivery system in an apparatus for automatically applying staining reagents to tissue or cells mounted to microscope slides.例文帳に追加

顕微鏡スライドに取付られた組織又は細胞に染色のための試薬を自動的に付ける装置であって、試薬ブァイアル内での蒸発を最小化しながら吸引し、試薬を精確に分配し、試薬配送システムの清浄化を通して試薬ブァイアルの相互汚染を最小化するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a confocal microscope which is capable of observing a sample with multicolors by using a Nipkow disk system confocal scanner and a spectroscopic unit and does not require image processing with respect to an inversion image because a transmission image and a reflection image of dichroic mirror can be corrected in the same direction in the spectroscopic optical unit.例文帳に追加

ニポウディスク式共焦点スキャナと分光光学ユニットを用いて試料を多色で観察することができると共に、分光光学ユニット内でダイクロイックミラーの透過像と反射像を同じ向きに補正することにより、反転像に対する画像処理を必要としない共焦点顕微鏡を実現すること目的とする。 - 特許庁

To provide a probe position control method which enables more accurate observation or operation by correcting the change of the relative position of a sample and a probe during observation or operation in a scanning type probe microscope (SPM) or an atomic manipulator (operation) by excluding the effect of a heat drift or the like, and a probe position control device.例文帳に追加

熱ドリフト等の影響を排除し、走査型プローブ顕微鏡(SPM)や原子マニピュレータ(操作)装置において、その観察又は操作の間に試料とプローブの相対位置が熱により変化するのを補正して、より正確な観察又は操作を可能にする位置制御方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

The probe 2 of a scan-type probe microscope is heated and scanned near the surface of a sample, applying etching gas to the mask to be treated so that the mask area to be treated (opaque defect) and etching gas react chemically by heat radiation from the probe 2, resulting in generation and evaporation of a volatile substance.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の探針２を熱して、マスクの被加工領域にエッチングガスを吹きつけながら試料表面に接近させた状態で走査させ、探針２からの輻射熱によりマスクの被加工領域（黒欠陥）とエッチングガスとで化学反応を起こさせ、揮発性物質を生成させ蒸発させる。 - 特許庁

The electron microscope includes: an objective lens 6 for converging electron beams and applying the converged electron beam to a sample 4; a sample chamber container 5 forming a sample chamber for storing the sample 4; a sample chamber magnetic shield 7 formed in the sample chamber container 5; and a cylindrical objective lens magnetic shield 8 surrounding the periphery of the objective lens 6.例文帳に追加

電子線を収束させて試料４に照射する対物レンズ６と、試料４を収納する試料室を形成する試料室容器５と、試料室容器５の内部に設けられた試料室磁気シールド７と、対物レンズ６の周囲を囲む筒形の対物レンズ磁気シールド８とを備える。 - 特許庁

In the transparent conductive base material, where the base material, a reflection prevention film, and the transparent conductive film are laminated in this order, the reflection prevention film is made of aluminum-doped zinc oxide, and the average surface roughness (Ra) of the reflection prevention film by an atomic force microscope is 1.0 nm or smaller.例文帳に追加

基材、反射防止膜及び透明導電膜が、この順で積層されてなる透明導電性基材であって、前記反射防止膜がアルミドープ酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ（Ｒａ）が１．０ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性基材。 - 特許庁

The base 1 for the microscope is provided with an air blowout port 24 extended in a horizontal direction above a door 19a so as to form an air curtain in a duct 22, and an air supply source 27 is controlled so that air quantity may be larger at the time of opening the door 19a than at the time of closing the door 19a.例文帳に追加

この顕微鏡台１においては、ドア１９ａの上方で水平方向に延在してエアーカーテンを作り出すためのエアー吹出口２４をダクト２２に設け、ドア１９ａの閉鎖時における風量よりドアの開放時における風量を多くするようにエアー供給源２７を制御する。 - 特許庁

This electronic microscope having an electron source, an electronic lens and an electron beam deflecting unit, further comprises an electron beam pulsing means and an acoustic wave measuring means, the energy of electrons entering into the sample is 1000 eV or less, and the measurement and examination of the inside of the sample are performed on the basis of the scanning information of the electron beam and the information of the detected sound.例文帳に追加

電子源、電子レンズ、電子線偏向器を有してなる電子顕微鏡装置において、さらに電子線パルス化手段、音波測定手段を備え、試料中に入射する電子のエネルギを１０００ｅＶ以下とし、電子線の走査情報と検出音の情報から試料内部の計測・検査をおこなう。 - 特許庁

The laser scanning microscope of the present invention is characterized in being provided with: a scanner (11) which scans a face to be observed with a laser beam; detection means (11 and 203) which detect the variation in the velocity of the scanning; and power control means (204 and 205) which vary the power of the laser beam according to the detected variation in the velocity.例文帳に追加

本発明のレーザ走査顕微鏡は、レーザ光で被観察面上を走査するスキャナ（１１）と、前記走査の速度変化を検出する検出手段（１１，２０３）と、前記検出された前記速度変化に応じて前記レーザ光のパワーを変化させるパワー制御手段（２０４，２０５）とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The mechanism 5 is equipped with a device box 21 including a computer 6, a control system 7 and/or an energy source 8 as a balance weight, and further equipped with an interface 19 for a mount having cushioning elements 17a, 17b and 17c and an adjusting device for correcting the position of the kinetic circular surface of the microscope 4.例文帳に追加

補助アーム機構(５)が、コンピュータ(６)、コントロールシステム(７)、及び／又はエネルギー源(８)を含む装置箱(２１)を釣合い重りとして備え、更に緩衝要素(１７ａ、ｂ、ｃ)を持つ取付台のためのインターフェース(１９)及び顕微鏡(４)の運動円面の位置を校正するための調節装置を備える。 - 特許庁

There are provided a method for correcting magnification and position and a system for correcting magnification and position, both of which can correct measurement magnification and measurement position of a spectral image with high efficiency and with high accuracy using an electronic spectroscope and a transmission electron microscope, regarding the spectral image formed with two axes where the amount of energy loss and the measurement position information are orthogonal to each other.例文帳に追加

電子分光器および透過型電子顕微鏡を用いて、エネルギー損失量と測定位置情報が直交する二軸で形成されるスペクトル像について、スペクトル像の測定倍率および測定位置を高効率かつ高精度に補正可能な倍率・位置補正方法および倍率・位置補正システムを提供する。 - 特許庁

To provide a compact device capable of recording a transmission image acquired by using a soft X-ray not absorbed by water occupying a large portion of a cell in order to observe the living cell, as a moving image with high space resolution of about 100 nm, organizing a stereoscopic image, and performing simultaneous observation with a visible range microscope.例文帳に追加

生きたままの細胞を観察するには細胞の大部分を占める水に吸収されることのない軟X線を用いその透過像を１００nｍ程度の高空間分解能で動画として記録し、立体像を構築し、さらには可視域顕微鏡との同時観察を可能とするコンパクトな装置が必要である。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, which is suitable for mass- production management and has high reliability and stable yield by improving dense distribution of holes and controllability to a hole diameter and by realizing easy inspection process for a buried plug height, using a scanning electron microscope as for the height of the buried plug in formation of a wiring contact part of a dual-damascene wiring.例文帳に追加

デュアルダマシン配線の配線コンタクト部の形成における埋め込みプラグの高さについて、ホールの疎密分布およびホール径に対する制御性を改善し、走査型電子顕微鏡を用いた埋め込みプラグ高さの検査工程を容易にし、量産管理に適した信頼性の高い歩留の安定した半導体装置を得る。 - 特許庁

The optical microscope comprises a light source 11, a detector 27 for detecting the light from a specimen 21, a confocal optical system 30 for linearly collecting the light from the light source 11 and guiding the same to the specimen 21, and a diffraction grating 25 for diffusing the light passing through a slit 23 in the vertical direction with the slit 23.例文帳に追加

光学顕微鏡は、光源１１と、試料２１からの光を検出する検出器２７と、光源１１からの光をライン状に集光して試料２１に導く共焦点光学系３０と、スリット２３を通過した光をスリット２３と垂直方向に分散させる回折格子２５と、を備えている。 - 特許庁

To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof.例文帳に追加

半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.例文帳に追加

光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁

This tension testing device is attached to an inside of a scanning electron microscope mounted with a reflected electron detector, a test piece is tensioned while photographing a reflected electron image, and a change of a shape in a crystal grain appearing in the reflected electron image is measured to compute sequentially a strain amount in each crystal grain and a cross section with respect to a tensioned direction.例文帳に追加

反射電子検出器を装着した走査電子顕微鏡内に引張り装置を取り付け、反射電子像を撮影しながら試験片を引張り、反射電子像に現れる結晶粒の形の変化を測定し、結晶粒毎の歪量及び引張り方向に対する断面積を逐次演算する。 - 特許庁

In a monochrome gray image at 256 gray levels, where black corresponds to 0 and white corresponds to 255, of a cross section intersecting the outside surface of the nickel plated layer 31 at right angles, as observed by a transmission electron microscope using 200 kV acceleration voltage, the average value in 256 gray levels of the monochrome gray image is 170 to 230, both ends inclusive.例文帳に追加

ニッケルメッキ層３１の外表面に直交する断面を、２００ｋＶの加速電圧による透過型電子顕微鏡で観察したときの、黒を０とし、白を２５５とした２５６階調の白黒濃淡画像において、白黒濃淡画像の２５６階調での平均値が１７０以上２３０以下とされる。 - 特許庁

Furthermore, when the monofilament cross-section is observed by an optical microscope, it is distinguished into two layers of sheath and core layers, wherein the ratio R (%) of the average diameter r_2 of the core layer to the diameter r_1 of the monofilament cross section is 90% or less.例文帳に追加

凸型率（％）＝（凸型断面繊維の本数／マルチフィラメントの構成本数）×１００さらに、モノフィラメント繊維断面を光学顕微鏡によって観察した際、シース層とコア層の二層に識別可能で、コア層の平均直径ｒ_２の繊維断面直径ｒ_１に対する比率Ｒ（％）が９０％以下であるポリベンザゾール繊維。 - 特許庁

A reticle microscope (observation area 52RA, 52RB) is used to successively observe a plurality of mark pairs on a reticle R and a pair of reference marks on a reference mark plate on a wafer stage, and to measure a positional difference of the respective marks to the reference mark while it moves on a reticle stage RST in Y-axis direction.例文帳に追加

これによれば、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に移動しながら、例えばレチクルＲ上の複数のマーク対とウエハステージ上の基準マーク板上の一対の基準マークとを、レチクル顕微鏡（観察領域５２ＲＡ、５２ＲＢ）を用いて、順次観察し、各マークの基準マークに対する位置誤差を計測する。 - 特許庁

To provide an optical axis adjusting auxiliary device capable of guiding easily and surely an irradiation spot to the center of a light receiving surface on the light receiving surface of a quadripartite photodetector, and facilitating an optical axis adjusting work, in the optical axis adjusting work of a scanning probe microscope or the like equipped with an optical lever type optical detection system.例文帳に追加

光てこ式光学検出系を備えた走査型プローブ顕微鏡等での光軸調整作業で、４分割光検出器の受光面でて照射スポットが受光面の中心に容易にかつ確実に導くことができ、光軸調整作業の容易化を図ることのできる光軸調整補助装置を提供する。 - 特許庁

For an organic EL element 100 obtained by successively laminating a substrate-side electrode 4, an organic EL layer 6 and a counter electrode 8 on one side of an element substrate 2, an increase rate of an area measured through an atomic force microscope to a projected area in a direction perpendicular to an electrode surface of the substrate-side electrode is controlled to lower than 1.1%.例文帳に追加

素子基板２の片面に基板側電極４、有機ＥＬ層６、対向電極８を順次積層してなる有機ＥＬ素子１００において、基板側電極の電極面に垂直方向の投影面積に対する原子間力顕微鏡で測定した面積の増加率を１．１％未満にする。 - 特許庁

The illumination mechanism 28 has: a light guide part 32 having an illumination light irradiation part for irradiating out illumination light LB toward the observation field to the first end side, wherein the second end side is extended to the outside of the optical microscope; and a light source 23 for supplying the illumination light to the second end side of the light guide part 32.例文帳に追加

照明機構２８は、第一端部側に観察視野に向けて照明光ＬＢを照出する照明光照出部を有するとともに第二端側が前記光学顕微鏡外に延出するライトガイド部３２と、該ライトガイド部３２の第二端側に照明光を供給する光源２３とを有してなる。 - 特許庁

In a wafer supporting device 5 or a wafer observing device 1, a wafer W facing a light transmission member 14 fitted in an opening 12 of a wafer holder 11 is positioned with respect to an objective lens 3 of an inverted microscope 2 facing an opening 6 of a base 7, and then the wafer holder 11 is fixed to the base 7 by a fixing mechanism 31.例文帳に追加

ウェハ支持装置５延いては観察装置１では、ベース７の開口６に臨む倒立型顕微鏡２の対物レンズ３に対して、ウェハホルダ１１の開口１２に嵌められた光透過部材１４に臨むウェハＷの位置合せが行われた後、固定機構３１によってベース７に対してウェハホルダ１１が固定される。 - 特許庁

The optical radiation pressure measuring device, the resonance frequency regulating method, the aperture diameter inspection device and the near field microscope provided with the aperture diameter inspection device utilize that a frequency characteristic of the resonance body is changed by the optical radiation pressure P when incident light 18 is irradiated on a reflecting means 64 provided on the resonance body.例文帳に追加

共振体に設けられた反射手段６４に入射光１８を照射したときの光放射圧Ｐにより共振体の周波数特性が変化することを利用した光放射圧測定装置、共振周波数調整方法、開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡 - 特許庁

This is an electrostatic charge measuring method and a focus adjustment method, or a scanning electron microscope to measure the charge amount or to control an impressing voltage on the test piece by moving the scanning place of the electron beams on the test piece, and changing the impressing voltage on an energy filter.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、試料上の電子ビームの走査個所を移動しつつ、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させることで、帯電量を測定、或いは試料への印加電圧を制御する帯電測定方法、焦点調整方法、或いは走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

A first image acquisition control part 62 of a control unit 60 acquires an image in which only a pixel with the highest luminance is selected among images obtained in respective focal positions of a confocal microscope with light of a light quantity shown by the first light quantity setting data, and records the image in a memory 66.例文帳に追加

制御ユニット６０の第１の画像取得制御部６２は、第１の光量設定データで表される光量の光により、共焦点顕微鏡の各焦点位置で得られた各画像の中で輝度が最も高い画素のみが選択された画像を取得し、その画像をメモリ６６に記録する。 - 特許庁

Diamond powder 3 that has a slower ion sputter speed than a probe material is allowed to adhere to the material of a probe for a scanning probe microscope, and the material of the probe is subjected to ion sputtering while the diamond powder 3 adheres until the least the diamond powder 3 disappears, thus forming a needle-shaped projection 6.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡用探針の材料に、この探針材料よりイオンスパッタ速度が遅いダイアモンド粉末３を付着させ、このダイアモンド粉末３が付着した状態で、このダイアモンド粉末３が無くなるまで、或いはそれ以上に、前記探針材料をイオンスパッタすることにより、針状突起６を形成する。 - 特許庁

The texture 13 of a low frequency component obtained by measuring a 10 μm square range by an atomic force microscope has 10 to 200 nm width W, 2 to 10 nm height H and the ratio (Rp/RMS) of the maximum height Rp to root-mean-square roughness RMS of not more than 15.例文帳に追加

原子間力顕微鏡で１０μｍ四方の範囲を測定して得られる低周波成分のテクスチャー１３の幅Ｗは１０〜２００ｎｍ、テクスチャー１３の高さＨは２〜１０ｎｍ、テクスチャー１３の自乗平均粗さＲＭＳに対する最大山高さＲｐの比（Ｒｐ／ＲＭＳ）は１５以下である。 - 特許庁

The position of the light emitting point (chip surface active layer) of the semiconductor laser 21 is detected by an adjusting optical system consisting of a microscope 32 and a CCD camera 33 through a polarizing beam splitter 22, and a deviation from a prescribed position is calculated to perform the translational adjustment (positional adjustment in X and Y directions) for the semiconductor laser 21.例文帳に追加

半導体レーザ２１の発光点位置（チップ面活性層）を、偏光ビームスプリッタ２２を介して顕微鏡３２およびＣＣＤカメラ３３からなる調整光学系により検出し、所定の位置からのずれを算出して半導体レーザ２１の並進調整（ＸＹ方向位置調整）を行う。 - 特許庁

In the scanning electron microscope in which the inside of an inner pipe for passing an electron beam is set up to be vacuum and a low vacuum observation is possible with an objective restriction arranged between the inner pipe and a specimen chamber, a two-stage objective restriction unit having another second objective restriction between the objective restriction and the specimen is arranged at an end of the inner pipe.例文帳に追加

本発明は、電子ビームが通過するインナーパイプ内部を真空とし、試料室との間に設けた対物絞りにより低真空観察が可能な走査電子顕微鏡において、対物絞りと試料との間にさらに第二の対物絞りを設けた２段対物絞りユニットをインナーパイプの端に設ける。 - 特許庁

In the manipulation device for the minute work of the electron microscope, the dual probe 10 comprising a main probe 11 and a sub probe 12 bonded to the main probe 11 is provided to one or two or more manipulator units driven in X-axis, Y-axis and Z-axis directions and rotatable around a T-axis and/or an R-axis independently of each other.例文帳に追加

Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向への駆動及びＴ軸および／またはＲ軸の回転が各々独立に可能な1つ又は2つ以上のマニピュレータユニットにメインプローブ１１とそれに接合するサブプローブ１２よりなるデュアルプローブ１０を載置することを特徴とする電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置である。 - 特許庁

When a multi-axial stage 40 of a scanning electron microscope 10 is rotated horizontally, inclined or moved horizontally, an operation of rotating, inclining or horizontally moving an image for specification is performed by means of a mouse 62 while creating an image for specification from an SEM image obtained from a signal of a secondary electron detector 20 and displaying the image on an image display unit 61.例文帳に追加

走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。 - 特許庁

This grid holder sandwiches from the upper and lower sides and fixes this grid for the transmission electron microscope having a base material 1 having at least one opening part 6, a carbon film 2 for covering a first face and the opening part of the base material, a metal later (for example, a tantalum layer) formed on the carbon film, and a ceramic layer (for example, an alumina layer).例文帳に追加

少なくとも１つの開口部６を有する基材１と、基材の第１面および開口部を被覆するカーボン膜２と、カーボン膜上に形成された金属層（例えばタンタル層）３と、セラミック層（例えば酸化アルミニウム層）４とを有する透過型電子顕微鏡用グリッドと、それを上下から挟んで固定するホルダー。 - 特許庁

In the confocal microscope apparatus where reflected light L3 from an object S to be measured and reference light L2 are coupled, and the interference light L4 is detected by an interference light detecting means 6, then, the tomographic image of the object S is obtained, an optical modulation part 20 for carrying out the frequency modulation of the reference light L2 is provided.例文帳に追加

測定対象Ｓからの反射光Ｌ３と参照光Ｌ２が合波され、その干渉光Ｌ４が干渉光検出手段６により検出され測定対象Ｓの断層画像が取得される共焦点顕微鏡装置において、参照光Ｌ２の周波数変調を行う光変調部２０が設けられている。 - 特許庁

If the microscope is used for a large sized testpiece or a large shifting and observation range of a testpiece, a part of the testpiece chamber 8 is structured to enlarge a space in the testpiece chamber, and an adaptor 13 is installed for enabling to mount a large sized testpiece and have a large shifting and observation range of the testpiece.例文帳に追加

試料３のサイズや試料３の移動範囲および観察範囲の大きい電子顕微鏡として利用する場合は、試料室８の一部を構成し、試料室８の空間を大きくし、搭載できる試料のサイズや試料の移動範囲および観察範囲を大きくすることができるアダプタ１３を取り付ける。 - 特許庁

To provide a local polarizing microscope analysis/spectral separation method and an apparatus for the method by composite evanescent wave dark field excitation capable of performing the microspectroscopy of optical isomerism, rotary dependency, circular polarization excitation fluorescence, magnetooptical characteristics, spin dependency, and the like in a minute substance, and to provide a substance operation method and a substance operation apparatus applying the method and the apparatus.例文帳に追加

微小物質の光学異性、回転依存性、円偏光励起蛍光、磁気光学特性、スピン依存性などを顕微分光できる合成エバネッセント波暗視野励起による局所偏光顕微鏡分析・分光方法および装置とこれを応用した物質操作方法および装置を提供する。 - 特許庁

In a photoelectronic microscope which images photoelectrons emitted from a specimen via an objective lens by irradiating the specimen with light from a light source, and obtains a magnified image, the objective lens includes two or more electrodes, and the two or more electrodes are installed in such a manner that the light passes between two electrodes.例文帳に追加

光源からの光を試料に照射することにより前記試料から放出される光電子を対物レンズを介して結像し、拡大像を得る光電子顕微鏡において、前記対物レンズに、２以上の電極を備えさせ、２以上の前記電極を、前記光が２つの電極間を通るように設置する。 - 特許庁

To provide a highly efficient antibody screening method making an unknown ultramicro component composing a fine structure or the like recognized only under microscope determinable, and directly and capable of efficiently screening a specific antibody to a target protein existing in a particular tissue at a certain moment of life activity.例文帳に追加

顕微鏡下においてのみ認められる微細構造物等を構成する未知の超微量成分を決定することを可能にする、生命活動のある瞬間に特定の組織に存在する標的タンパク質に対する特異抗体を、直接的に高効率でスクリーニングする高効率抗体スクリーニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a standard template with a standard mark as the standard point for producing an displacement-modified image for observing an image of a sample three-dimensionally correctly and precisely by appropriately processing stereo detection data obtained from an electronic microscope and for measuring the three-dimensional shape of the sample.例文帳に追加

電子顕微鏡から得られたステレオの検出データを適切に処理して、試料像を正確に精度よく立体観察すると共に、試料の三次元形状計測を行う為に、偏位修正画像を作成するために基準点となる基準マークを有する基準テンプレート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁