「controlled pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, four DMDs provided respectively at the exposure heads 12A through 12D are controlled independently, according to the relative position of the exposure areas EA1 through EA4, and an exposure motion according to the pattern is executed.例文帳に追加

そして、露光ヘッド１２Ａ〜１２Ｄにそれぞれ設けられた４つのＤＭＤを、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ４の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。 - 特許庁

While printing the titles, the current to the printer head is controlled for the pattern based on the program title information included in the video program information which is formatted.例文帳に追加

このタイトル印字が行われている間、フォーマット変換されたビデオ番組情報に含まれる録画番組のタイトル情報に基づいて、印刷ヘッドへの通電パターンが制御される。 - 特許庁

To provide a motor controller which enables the drive of a motor to be controlled, according to a prescribed operation pattern, each time from the same starting position, without requiring a high-order commanding apparatus.例文帳に追加

上位指令装置を必要とせず、毎回同じ開始位置から所定の運転パターンに従ってモータを駆動制御することを可能としたモータ制御装置を提供する。 - 特許庁

Four DMDs (digital mirror devices) mounted on the respective exposure heads 12A to 12D are independently controlled according to the relative positions of the exposure areas EA1 to EA4 to expose in accordance with the pattern.例文帳に追加

そして、露光ヘッド１２Ａ〜１２Ｄにそれぞれ設けられた４つのＤＭＤを、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ４の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。 - 特許庁

Shaping air discharge ports 1 are arranged on a first circumference 2 whose center is the rotational axis line L of a rotary head, and pattern controlled air discharge ports 3 are provided on the outer periphery side of the first circumference.例文帳に追加

シェーピングエア吐出口1は、回転ヘッドの回転軸線Lを中心とした第一円周2上に配列され、その外周側にパターン制御エア吐出口3が設けられている。 - 特許庁

When the probability variation mode is acquired, the display is controlled so that a character figure is the winner among the special figures making up a jackpot pattern displayed at S353 (S376).例文帳に追加

そして、確率変動モードを獲得した場合には、Ｓ３５３で表示された大当たり図柄を構成する各特別図柄のキャラクタ図柄が勝者となるように表示制御される（Ｓ３７６）。 - 特許庁

When the induced draft fan on the inlet side of the system is controlled through dampers and the induced draft fan on the outlet side of the system is subjected to VVVF control, a change in operating pattern can be coped with easily.例文帳に追加

システムの入口側における誘引通風機をダンパ制御し、システムの出口側の誘引通風機をＶＶＶＦ制御すれば、運転パターンの変更に容易に対応することができる。 - 特許庁

A large number of substantially arc light deflection patterns 37 are arrayed on the back (pattern) surface of a light guide plate, to produce a visual-angle-controlled even, bright and clear image.例文帳に追加

導光板の背面（パターン）面には略円弧状をした光偏向パターン３７が多数配置され視野角が制御された,ムラのない明るく鮮明な画像を得ることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display in which a position shift after positioning of a mask and a substrate is controlled and a pattern deposition of an organic compound layer of an organic light emitting element can be made in a high resolution.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイの製造において、マスクと基板とを位置合わせした後の位置ずれを抑制し、有機発光素子の有機化合物層を高解像度でパターン成膜する。 - 特許庁

Four DMDs (digital mirror devices) provided in the respective exposure heads 12A to 12D are independently controlled according to the relative positions of the exposure areas EA1 to EA4 to expose along the pattern.例文帳に追加

そして、露光ヘッド１２Ａ〜１２Ｄにそれぞれ設けられた４つのＤＭＤを、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ４の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。 - 特許庁

In the precision alignment apparatus, a plate (a liquid crystal display substrate) 27 of a light emitting element is set on a stage 19 and a stage 24, a pattern of the substrate 27 is controlled, and a place to be spotted is marked (turned on).例文帳に追加

本発明では、発光素子のプレート（液晶表示基板）２７がステージ１９、２４上にセットされ、基板２７のパターンを制御してスポッティングする場所をマーキング（点灯）させる。 - 特許庁

Moreover, inclination of the first circuit element 15A can be controlled, to further improve the positional accuracy, by allocating the first circuit element 15A on the divided fine dummy pattern.例文帳に追加

また、細分割化したダミーパターン上に第１の回路素子１５Ａを配置することで、第１の回路素子１５Ａの傾きを抑止することができ、更なる位置精度の向上が可能となる。 - 特許庁

In this process, it is controlled to forbid the execution of the processing of determining the performance for successive advance notices during the period from the reception of a varying pattern command to the reception of the reservation memory count subtraction designation command.例文帳に追加

ただし、変動パターンコマンドを受信してから保留記憶数減算指定コマンドを受信するまでの期間、連続予告演出の決定処理の実行を禁止するように制御する。 - 特許庁

Four DMDs (digital mirror devices) provided in the respective exposure heads 12A to 12D are independently controlled according to the relative positions of the exposure areas EA1 to EA4 to perform exposure operation corresponding to the pattern.例文帳に追加

そして、露光ヘッド１２Ａ〜１２Ｄにそれぞれ設けられた４つのＤＭＤを、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ４の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。 - 特許庁

However, a time since the finish of ready operation (a time of temporarily stopping a middle pattern: timing B) to defining of the whole patterns (timing C) after finishing re-fluctuation is controlled to be always constant.例文帳に追加

しかし、リーチ動作終了（中図柄の一旦停止時：タイミングＢ）から再変動が終了して全図柄が確定するとき（タイミングＣ）までの時間は、常に一定に制御される。 - 特許庁

When an inference engine 12 detects matching between the pattern of communication data sampled by these input data monitors 11a and 11b and an attack pattern stored in the inference engine 12, the rate α of shaping traffic with a traffic shaper 3 is controlled.例文帳に追加

この入力データモニタ１１ａ，１１ｂで採取した通信データのパターンと推論エンジン１２に記憶されているアタックパターンとがマッチングしていることを推論エンジン１２で検出すると、トラフィックシェーパ１３によりトラフィックをシェーピングする割合αを制御する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

When a gear change from the neutral to the first speed gear or the reverse gear is achieved, a first shift pattern for supplying the controlled pressure from the control valves to the friction engagement elements and a second shift pattern for supplying the line pressure are set in sequence to achieve the gear change.例文帳に追加

ニュートラルから１速及び後進の変速段を達成する際に、同変速段を達成するための摩擦係合要素にコントロールバルブからの制御圧を供給する第１のシフトパターンと、同ライン圧を供給する第２のシフトパターンとが順次、設定される。 - 特許庁

The recording position of the pattern P is controlled to record the pattern P on a portion of the recording medium 8 located on platen ribs 207 to adjust the applied position of ink to the recording medium 8 based on the position relationship between the platen ribs 207 and the recording medium 8.例文帳に追加

プラテンリブ２０７と記録媒体８との位置関係に基づいて、プラテンリブ２０７上に位置する記録媒体８の部分に、記録媒体８に対するインクの付与位置を調整するためにパターンＰを記録するように、そのパターンＰの記録位置を制御する。 - 特許庁

According to the RDG_PT, the pseudo-random number pattern is generated in which the activation ratio (temporal sequential data transition number) is controlled and can be readily adapted to the compression pattern from the ATPG tool by controlling based on the Din.例文帳に追加

このＲＤＧ＿ＰＴによって、活性化率（時系列的なデータの遷移数）が制御された擬似乱数パターンが生成され、これに対してＤｉｎに基づく制御を行うことで、ＡＴＰＧツールからの圧縮パターンに容易に適合させることが可能となる。 - 特許庁

A notice pattern is determined according to the communication conditions, noticing means attached to both a communication host and a communication party are controlled with synchronizing the noticing means to notice the communication conditions according to the determined notice pattern.例文帳に追加

本発明は、通信状態に応じて告知パターンを決定する告知パターン決定し、当該決定された告知パターンに従って、通信状態を告知するために通信主体及び通信相手に設けられた告知手段を同期させた状態で制御するようにした。 - 特許庁

While, since the Pachinko game machine is controlled so as to forcedly execute a ready-to-win variable mode when the pattern variation by the shortened pattern varying time t_2 continues, the consumption time up to the big prize is similarly leveled to keep a balance between the respective game machines.例文帳に追加

一方、短縮図柄変動時間ｔ2による図柄変動が連続した場合に、強制的にリーチ変動態様を実行するように制御したから、同様に大当たりまでの消費時間を平準化し、各遊技機間の均衡を保つことができる。 - 特許庁

In carrying operation performed after hanging up operation of the prize 20 at a position based operation of a control panel 7, the angle of a hook 34A during the carrying operation is variably controlled based on variation pattern data decided by variation pattern drawing processing (S3).例文帳に追加

そして、コントロールパネル７の操作に基づく位置で景品２０の吊上動作の後に行われる運搬動作においては、変化パターン抽選処理（Ｓ３）で決定された変化パターンデータに基づいて、運搬動作中のフック３４Ａの角度が可変制御される。 - 特許庁

In the device, a defective or null substrate is eliminated by using the inspection result or judgement, and when forming a liquid crystal panel by laminating two substrates with the paste pattern, the filling volume of the liquid crystal is controlled by using the inner area of the paste pattern.例文帳に追加

この装置では、かかる検査結果や判定結果を利用して不良，無効とする基板を排除し、また、ペーストパターンで２枚の基板を貼り付けて液晶パネルを形成する場合、ペーストパターンの内側面積を利用して液晶の注入量を制御する。 - 特許庁

Various kinds of said equipment are controlled by a controller 81 and since the controller 81 performs control for changing a picture pattern stop state on the display part 41, interest in the picture pattern stop state on the display part 41 can be improved.例文帳に追加

以上の各種機器の制御は制御装置８１によってなされており、制御装置８１により表示部４１の図柄停止態様を変更するように制御することで表示部４１の図柄停止状態の面白みを向上させることを可能としている。 - 特許庁

To provide a feeding controller for sewing machine with which the feeding of a fabric is controlled for each stitch so that the fastening of perfect stitch and hitch stitch are kept almost constant and the stitch pattern of beautiful appearance can be formed in the case of sewing a pattern in which both stitches coexist.例文帳に追加

パーフェクトステッチとヒッチステッチのの縫締まりが略一定になるように各針毎の布送りを制御して、両ステッチが混在する模様を縫製する場合に見栄えのよい綺麗な縫目模様を形成可能なミシンの送り制御装置を提供する。 - 特許庁

By pressing this circular arc with a fine pattern 3 formed for the circumstance of the mask substrate 2 to a photosensitive resin layer to which this fine pattern 3 is transferred by exposure, the interval between the fine pattern 3 and photosensitive resin layer can be controlled to be shorter than the wavelength of exposure light so that the fine pattern 3 can be transferred satisfactorily by exposure.例文帳に追加

マスク基体２の外周面の微細パターン３が形成された円弧形状部分をこの微細パターン３を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン３と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン３の露光転写を良好に行うことができる。 - 特許庁

In the process of switching gas flow pattern, the inside of a single cell is controlled so as not to be connected in a short-circuit, and further, because both of the first and the second supply bifurcated pipes, 411, 412 are controlled so as not to be closed simultaneously, there is not shortage of oxidation gas in the single cell.例文帳に追加

このように、ガス流れパターンを切り替える過程で、単セル内を短絡的に繋ぐことのないように制御すると共に、第１及び第２供給分岐管４１１，４１２のすべてが同時に閉じることの内容制御するため、単セル内で酸化ガスが不足することはない。 - 特許庁

Since the left rotation reel 22a is controlled to make the specific operation with specific probability when the result in the special pattern game becomes the prize-winning of a big win, the prize-winning of the big win can be expected when the left rotation reel 22a is controlled to make the specific operation when starting the variation.例文帳に追加

左回転リール２２ａが特定の動作に制御されるのは、特別図柄ゲームの結果が大当たり入賞になる場合に所定確率で行われるので、変動開始時に左回転リール２２ａが特定の動作に制御された場合は、大当たり入賞を期待できる。 - 特許庁

To provide a game machine capable of shortening the variation time of second patterns in accordance with a command from the outside, respectively, even when the number of first symbols controlled by a main control board and the number of the second symbols controlled by a pattern control board are not coincident with each other.例文帳に追加

主制御基板によって制御される第１の図柄の数と、図柄制御基板によって制御される第２の図柄の数とが不一致であっても、外部からの指令に応じて、第２の図柄の変動時間をそれぞれ短縮することが可能な遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a polymeric ultrathin film and a pattern thereof, having little variance in the film thickness and excellent adhesiveness to a substrate, showing sufficient pattern resolution by irradiation exposure to electron beams, short-wavelength exposure light or the like, and having a structure controlled in a nanometer level, and to provide a method for forming a polymeric ultrathin film pattern.例文帳に追加

本発明は、膜厚のバラツキが少なく、かつ基板との密着性に優れ、電子線や短波長の露光光などの照射露光によって十分なパターン解像度を示し、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜およびそのパターン、並びに、高分子超薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The current pattern data of a power supply body 10 controlled based on a signal which a current pattern generator 1 receiving the input of a signal from a current pattern control device 20 outputs is created as reference data stored in a reference data memory unit 5 and a predetermined constant stored in a constant register 4 are read and multiplied with each other.例文帳に追加

電流パターン制御装置２０からの信号を入力する電流パターン発生器１の出力する信号を基に、制御される電源本体１０の電流パターンデータが、基準データメモリ部５に格納されている基準データと、定数レジスタ４に格納されている所定の定数が読み出され乗算されることによって作成される。 - 特許庁

A design person in charge or engineer uses this data to produce a derivation rod pattern design for simulation and can determine whether any operator parameter needs to be controlled (for example, controlling a blade notch position) for eventually complete a rod pattern design concerning a specific core.例文帳に追加

設計担当者又は技術者はこのデータを使用して、シミュレーションのための派生ロッドパターンデザインを作成し、最終的には特定の炉心に関するロッドパターンデザインを完成するために、どのオペレータパラメータを調整する（例えば、ブレードノッチ位置を制御する）必要があるかを判定することができる。 - 特許庁

When recording a second test pattern, the ejection operation of the ink by the recording head 202 is controlled to record by a second interval longer than the first interval of time between a plurality of scans in recording to the same recording position when the test pattern is recorded.例文帳に追加

そして、第二のテストパターンを記録する際には、テストパターンを記録するときの同一の記録位置への記録における複数回の走査の間の時間の間隔が、第一の間隔よりも長い第二の間隔で記録を行うように、記録ヘッド２０２によるインクの吐出動作が制御される。 - 特許庁

The rocking velocity and the rocking pattern of the mirror are easily set, and such rocking motions as stop, acceleration, and direction change can be controlled, by applying an electric voltage waveform deformed into a required pattern according to an aimed rocking operation, when a voltage is applied between electrodes for an electrostatic driving.例文帳に追加

静電駆動用の電極間に電圧を印加する際、目的の揺動動作に応じて、所要パターンに変形させた電圧波形を印加することで、ミラーの揺動速度、揺動パターンを容易に設定でき、その停止、加速、方向変換などの揺動運動を制御することが可能となる。 - 特許庁

In this display control board, while the specific variable display pattern is variably displayed based on the prescribed variable display pattern control signal, for example, various types of performance displays are performed on the variable display device as the performance for notifying that it is continuously controlled at the chance time.例文帳に追加

表示制御基板では、特定の可変表示パターンが指定された可変表示パターン制御信号に基づく可変表示中に、チャンスタイムに継続制御されることを報知するための演出として、例えば可変表示装置に各種の演出表示を行わせる。 - 特許庁

In the exposure pattern forming device, the exposure pattern is formed by light sources 3 of a light source array, in which the light sources 3 are arranged side by side in the longitudinal and latitudinal directions and the light emission of each light source 3 can be independently controlled, by independently controlling the light emission of each light source 3 by using the light source array.例文帳に追加

前記露光パターン形成装置には光源３が縦横に並設され光源３の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用し、光源３の各々の発光を独立に制御して前記光源アレイの光源３によって露光パターンを形成する。 - 特許庁

Then, the detecting means detects the toner adhesion amount of the colored patch pattern TK at each time when the image area ratio of the transparent patch pattern TW in the width direction is made variable, and a transfer electric current to be applied to a first image-transferred object is variably controlled based on the result of detection.例文帳に追加

そして、このように透明パッチパターンＴＷの幅方向の画像面積率を可変したときの有色パッチパターンＴＫのトナー付着量を検知手段でそれぞれ検知して、それらの検知結果に基いて第１転写部材に印加される転写電流を可変制御する。 - 特許庁

During the variable display based on a variable display pattern control signal specifying a specific variable display pattern, a display control board allows, for example, the variable display to execute various types of performance displays as a performance for notifying that the game state is consecutively controlled to be the chance time.例文帳に追加

表示制御基板では、特定の可変表示パターンが指定された可変表示パターン制御信号に基づく可変表示中に、チャンスタイムに継続制御されることを報知するための演出として、例えば可変表示装置に各種の演出表示を行わせる。 - 特許庁

The method of manufacturing a porous structure material in which a micropore array is controlled is characterized in that a rugged pattern is formed on the mask disposed on a substrate according to an imprinting process and the micropore formation is performed according to an electrochemical method on the substrate position corresponding to recessed parts of the formed rugged pattern.例文帳に追加

基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 - 特許庁

In a display control board, a variable display device for instance is made to execute various kinds of performance display as the performance for reporting that the continuation of the chance time is to be controlled during the variable display based on a variable display pattern control signal in which a specific variable display pattern is designated.例文帳に追加

表示制御基板では、特定の可変表示パターンが指定された可変表示パターン制御信号に基づく可変表示中に、チャンスタイムに継続制御されることを報知するための演出として、例えば可変表示装置に各種の演出表示を行わせる。 - 特許庁

The conductive layer 26 is formed in predetermined pattern, so the conductive layer 26 having a surface resistance value within a range where the conductive layer 26 can stably be formed can be used and the surface resistance value of the electromagnetic-wave absorber 18 is controlled by making the pattern shape of the conductive layer 26 different.例文帳に追加

また、この導電層２６は、所定のパターンに形成されているので、安定して形成することができる範囲の面抵抗値とした導電層２６を用いることができ、この導電層２６のパターン形状の違いによって電磁波吸収体１８の面抵抗値を制御する。 - 特許庁

The metal etched product has a metallic pattern having a side wall made by a primary etching which makes an opening on the surface layer side of a metal layer, and a side wall made by a secondary etching in a deep layer side, which uses an electrodeposited photoresist; and having the etching factor of the opening in the metallic pattern controlled to 2.6 or higher.例文帳に追加

開孔部が金属層の表層側に一次エッチングによる側壁を有し、深層側に電着フォトレジストを用いた二次エッチングによる側壁を有する金属パターンであって、該金属パターンの開孔部のエッチングファクターが２．６以上であること特徴とする金属エッチング製品。 - 特許庁

Accordingly, the line width can be controlled precisely and the predetermined resist pattern can be obtained by measuring the line width of the resist pattern after the development and then controlling the temperature of heat treatment, based on the result of the measurement, for example, by raising the temperature of heat treatment when the line width is smaller than a predetermined width.例文帳に追加

従って、例えば、現像後のレジストパターンの線幅を測定し、この測定結果に基づいて例えば線幅が所定より小さければ加熱温度を所定より上げる等の制御を行うことにより、精密に線幅を制御することができ、所望のレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁

The light of the stroboscopic light source 38 is emitted within an accumulating period of a CCD image picking-up device 31 by control of a measurement control part 35, and relation among image pick-up, stroboscopic light emission and pattern switching timing is controlled so that the light emission is conducted within a period with the patterns of the pattern masking device 39 stabilized.例文帳に追加

計測コントロール部３５の制御により、ＣＣＤ撮像装置３１の蓄積期間内にストロボ光源３８が発光し、かつその発光がパターンマスク装置３９のパターンが安定する期間に当たるよう、撮像、ストロボ発光及びパターン切替のタイミング関係が制御される。 - 特許庁