「controlled pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, since the vertical vibration of the vehicle is not transmitted to a shade 5 via a spring member 7 jointed to the advancing/returning rod 14, light distribution pattern can be switched and controlled accurately and surely.例文帳に追加

この結果、進退ロッド１４と連結されているばね部材７を介してシェード５に車両の上下方向の振動が伝達されないので、配光パターンを正確にかつ確実に切り替えて制御することができる。 - 特許庁

To provide a pulse generating device which is controlled with an outside electric signal, easily controls a pulse repetition frequency and synchronizes with the outside signal, and generates a pulse signal with an arbitrary pattern.例文帳に追加

外部電気信号によって制御することが可能で、繰返し周波数の制御・外部信号との同期が容易であり、任意のパターンのパルス信号を生成させることができるパルス発生装置を提供することにある。 - 特許庁

In a section 2 to be controlled, a reception control means 9 receives a 2nd radio wave from the control transmission means 4 of the portable terminal 1 and outputs pattern information for an operation instruction to an operation execution means 10.例文帳に追加

被制御部２は、携帯端末１の制御送信手段４からの第２の無線電波を受信制御手段９が受信し、動作実行手段１０に動作命令用のパターン情報を出力する。 - 特許庁

The substrate filling and pattern-edge coating characteristics are controlled by providing a sequence of low speed rotation of less than 1,000 rpm for at least 3 sec. just before starting proper rotation, which determines a film thickness.例文帳に追加

３秒以上かつ１０００ｒｐｍ未満の低速回転のシーケンスを、膜厚を決定する本回転の直前に設けることによって、下地のフィリング特性およびパターン縁(へり)塗布特性を調節する。 - 特許庁

From the results of the display on the normal pattern display devices a-d, mobile pieces 81a-81d of the corresponding normal variable prize ball devices A-D are opened and controlled to offer a first state advantageous for the game players.例文帳に追加

普通図柄表示装置ａ〜ｄの表示結果によって、対応する普通可変入賞球装置Ａ〜Ｄの可動片８１ａ〜８１ｄを開放し、遊技者にとって有利な第１の状態に制御する。 - 特許庁

When the total value of the calculated evaluation values becomes a predetermined value or more, a remaining portion of the print data is controlled by the evaluation value controlling part 60 so that the remaining portion of the print data is converted into code information using the dot pattern.例文帳に追加

算出された評価値の合計値が予め定められた値以上となった場合、評価値制御部６０によって、印字データの残りの部分を、ドットパターンを用いたコード情報に変換するように制御する。 - 特許庁

Further, the vibration of stage 112 in the z-axis direction is controlled and the phase grating mask 150 vibrates in the longitudinal direction relative to the optical fiber 211 at a vibration pattern corresponding to respective positions in the z-axis direction.例文帳に追加

また、ステージ１１２のｚ軸方向の振動が制御されて、ｚ軸方向の各位置に応じた振動パターンで光ファイバ２１１に対して相対的に位相格子マスク１５０が長手方向に振動する。 - 特許庁

Since temperature uniformalization in the electrode block 1 is inhabited through the slit 13, the inside of the electrode block 1 can be kept at an optional, dependent temperature, temperature distribution pattern can be actively and clearly controlled.例文帳に追加

スリット１３により電極ブロック１内での温度の均一化が抑制されるので、電極ブロック１面内を任意の独立した温度にすることができ、温度分布パターンの積極的且つ明確な制御が得られる。 - 特許庁

According to the change in estimated value of EGR rate and crank angular speed, the sub-injection amount is controlled to optimize the ignition timing of the pre-mixed air-fuel, whereby heat generation pattern having high cycle efficiency can be realized to improve fuel consumption.例文帳に追加

ＥＧＲ率の推定値やクランク角速度の変化に基づいて副噴射量を制御することで予混合気の着火時期を最適化し、サイクル効率の高い熱発生パターンを実現して燃費の改善を図る。 - 特許庁

Parallel transmitting signal wires of four bits are used in connecting with the sub control board 300 to connect various objects to be controlled such as the pattern displaying LED 380 with the output ports of the main control board 100.例文帳に追加

図柄表示ＬＥＤ３８０など多様な制御対象を主制御基板１００の出力ポートに接続可能とするため、サブ制御基板３００との接続には４ビットのパラレル転送信号線を用いる。 - 特許庁

In the GLV 18, a voltage is selectively applied to a part of the bridge parts 18A in response to the film pattern to deform the selected bridge parts 18A, and thereby, the irradiated energy beam is controlled to be diffracted.例文帳に追加

ＧＬＶ１８では、一部の架橋部１８Ａに対して薄膜パターンに応じて選択的に電圧が印加され、選択された架橋部１８Ａが変形することによって、照射されたエネルギービームが回折制御される。 - 特許庁

When the wavelength of a laser beam of a wavelength variable laser is controlled (step S0), an optical system or a hologram recording medium is moved (step S1), and a state where a light beam is made incident on a wavelength control pattern is made.例文帳に追加

波長可変レーザのレーザ光の波長を制御する際（ステップＳ０）には、光学系ないしはホログラム記録媒体を移動して（ステップＳ１）、波長制御パターンに光ビームが入射される状態にする。 - 特許庁

The width W1 of the upper pole chip is same as the film thickness of the magnetic film 17a' for formation of the upper pole chip formed on the side end face of the photoresist pattern 31 and the width can be controlled to a submicron dimension.例文帳に追加

上部ポールチップの幅Ｗ１は、フォトレジストパターン３１の側端面に形成された上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′の膜厚そのものであり、サブミクロンの寸法に制御することが容易である。 - 特許庁

In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time.例文帳に追加

パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁

Thus, since a fresh binary pattern can always be formed and detected by the recording means, image formation can be accurately controlled and color shift and displacement of the transfer body to one side can be prevented.例文帳に追加

これにより、レコーディング手段で常に新しい２値パターンを生成して、それを検出することが出来るので、精度の良い画像形成のための制御を行うことが出来、色ずれや転写体寄りを防止することが出来る - 特許庁

The evaluation/control unit (36) is formed so that the light source is controlled based on a present rotation position of the support element, in order to generate a variable light/dark pattern (49) on the whole housing surface by using the light source.例文帳に追加

評価及び制御ユニット（３６）は、光源を用いて可変の明暗パターン（４９）を外被面全体の上に生成するために、支持要素の現在の回転位置に基づき光源を制御するように形成される。 - 特許庁

The size of the hard mask composition structure is controlled by the development rate, which yields a feature size that is a fraction of the imaging layer feature size, and finally gives a pattern that can ultimately be transferred to the substrate.例文帳に追加

ハードマスク組成物の構造体の寸法は、現像速度で制御され、イメージング層の形状の寸法の何分の一かの形状の寸法を生成し、最終的に基板に転写されるパターンを作製する。 - 特許庁

When it is controlled to a normal game state, the plurality of pattern columns are constituted of only the specified patterns, and the prescribed combination of stop patterns is displayed by the prescribed combination by the specified patterns at all times.例文帳に追加

通常遊技状態に制御されているときには、複数の図柄列が特定図柄のみで構成され、停止図柄の所定の組み合わせが、常に、特定図柄による所定の組み合わせで表示される。 - 特許庁

An objective velocity VO, shown by an objective velocity pattern table, is stored in the onboard controller 5 of a train 1, and the velocity is controlled so that the real velocity VR of the train 1 becomes to the objective velocity VO.例文帳に追加

列車１の車上制御装置５には、目標速度パターンテーブルにより示す目標速度ＶＯが記憶されており、列車１の実際の速度ＶＲが目標速度ＶＯとなるように速度制御がされている。 - 特許庁

The distortion induced by the reflective mask (MA), on the absorbing layer of which a mask pattern has been embodied, and the inclined lighting is calculated and aberration in a projection system (PL) is introduced and/or controlled in order to correct the distortion.例文帳に追加

厚い吸収層にマスクパターンを具現した反射性マスク（ＭＡ）と傾斜照明が誘起する歪みを計算し、それを補正するために投影システム（ＰＬ）に収差を導入および／または制御する。 - 特許庁

Copyright and a copyright holder are displayed on a special pattern display device 2 arranged on a game board 10 surface at game standby time to be controlled in a switching system with operation of a ball shooting handle as momentum so that a game image screen is displayed.例文帳に追加

遊技待機中に遊技盤１０面に設けられる特別図柄表示装置２に著作権物と著作権者を表示し、打球ハンドルの作動を契機に切換制御し遊技画面が表示される。 - 特許庁

In the inspection, the inspection is executed quickly without requiring labors and times for regulating luminous energy, by computing the luminous energy controlled variable, based on a lightness converted value when registering a correct answer pattern, and the light source characteristic data therein.例文帳に追加

検査時は、正解パターン登録時の明るさ換算値及び光源特性データに基づいて、光量制御量を演算することで、光量調整の手間を要することなく、迅速に検査が実行可能である。 - 特許庁

The metal plate which is in the vicinity of the workpiece holder 57 and not larger than the set dimension among the metal plates W is controlled so as to release the basic conveying pattern and to be conveyed by the loader 14 on the behind side, which has no working tools 58, 59.例文帳に追加

板材Ｗのうち、ワークホルダ５７の近傍でかつ設定寸法以下のものは、基本搬送パターンを解除し、作業具５８，５９を有しない後ろ側のローダ１４で搬送するように制御する。 - 特許庁

When the sealing resin layer is pressed in the direction from the sealing resin layer to the lens resin layer to regulate the thickness of the sealing resin layer, the thickness of the sealing resin is controlled according to change in the form of the additional pattern.例文帳に追加

封止樹脂層側からレンズ樹脂層に向かう方向に封止樹脂層を押圧して封止樹脂層の厚さを規定する際、付加パターンの形状の変化に応じて封止樹脂の厚さを規定する。 - 特許庁

In addition, Z heads 74_i and 76_j are used to detect the Z positions of Y scales 39Y_2 and 39Y_1, and the stage is positionally controlled on the basis of the wafer surface information acquired during mapping, and a pattern is formed on the wafer.例文帳に追加

また、計測システムのＺヘッド７４_i、７６_jでＹスケール３９Ｙ_2、３９Ｙ_1のＺ位置を検出しつつ、マッピング時に得たウエハの面情報に基づいてステージの位置を制御してウエハ上にパターンを形成する。 - 特許庁

The flow of data between new commands stdin/stdout/stderr, the process originally started in the window (let us call it "application-process") and screen itself (window) is controlled by the filedescriptor pattern fdpat.例文帳に追加

newcommand と標準入力/標準出力/標準エラー出力の間のデータフロー、もともとこのウィンドウで開始されたプロセス(これを「アプリケーションプロセス」と呼ぼう)、screen そのもの (ウィンドウ)、の三つは、ファイルディスクリプタパターン fdpat で制御する。 - JM

By consuming the excessive toner in forming a pattern latent image at adjusting the surface potential of the photoreceptor, the surface potential of the photoreceptor can be controlled, and also, the toner concentration can be adjusted.例文帳に追加

この過剰なトナーを、感光体表面電位の調整の際に作像するパターン潜像において消費することにより、感光体表面電位制御を行ないながらトナー濃度の調整を行なうことができる。 - 特許庁

In addition, the image forming conditions are appropriately controlled since detection of the light reflection density to the reference pattern is stably performed and the image forming device without toner scattering and scumming, etc. and with high stability is provided.例文帳に追加

また基準パターンに対する光反射濃度検知が安定して行えるため適切に画像形成条件を制御することができ、トナー飛散、地汚れ等の無い、安定性の高い画像形成装置を提供できる。 - 特許庁

To provide a mask for mask ROM as well as manufacturing method for mask ROM, wherein the variation in size of a resist opening part caused by difference in density of an ROM pattern is controlled to provide a sufficient work margin.例文帳に追加

ＲＯＭパターンの疎密によるレジスト開口部の大きさのばらつきを制御し、十分な加工マージンを得ることができるマスクＲＯＭ用マスクと、これを用いたマスクＲＯＭの製造方法を提供すること - 特許庁

The driving part and the image reading sensor are controlled so that each of the plurality of pixels reads a chart having a predetermined pattern by moving the image reading sensor by the driving part.例文帳に追加

前記駆動部により前記画像読取センサを移動させることによって、前記複数の画素それぞれが予め定められたパターンを持つチャートを読取るよう前記駆動部と前記画像読取センサとを制御する。 - 特許庁

To provide a controlling method for the sintering temperature pattern for realizing the consistent control with small difference ΔT between maximum and minimum values in the temperature variance when the sintering temperature is controlled by adjusting the number of revolution of an exhauster.例文帳に追加

排風機の回転数を調整し焼結温度を制御する場合において、温度バラツキ最大最小差△Ｔの小さい安定した制御を行う焼結温度パターンの制御方法を提供する。 - 特許庁

When the region on which the liquid film is selectively formed includes an edge part of the resist film on the substrate, the flow direction of the liquid film is controlled so as to be a direction to the edge from a region on which a pattern is transferred.例文帳に追加

液膜が選択形成された領域に基板上のレジスト膜のエッジ部分が含まれる場合、液膜が有する流れの方向がパターンが転写される領域からエッジに向かう方向であるように制御する。 - 特許庁

In reading an image, the light quantity of the illuminating light from the lighting device 10 is controlled according to the light quantity control pattern.例文帳に追加

これにより、相対移動速度の変化による露光時間の違いに起因する画質の変動を補正することができ、簡便・安価な方法で画像読取り時間を短縮するとともに画質の均一な画像を得ることができる。 - 特許庁

The driving pattern and the driving voltage are properly controlled, which are applied to the outer circumferential pattern electrodes 31 to 38 in accordance with the directivity of astigmatism due to the optical system; the light beam is passed in this state, imparting a phase difference based on the difference in refractive index, thereby enabling the astigmatism to be well corrected.例文帳に追加

光学系に起因する非点収差の方向性に対応して外周部のパターン電極３１乃至３８に印加する駆動パターンと駆動電圧を適切に制御し、この状態で光ビームを通過させて屈折率の違いに基づく位相差を付与することにより、非点収差を良好に補正することができる。 - 特許庁

This method for splashed pattern dyeing is performed by applying a tension of the same strength with the tension applied in weaving to warp T loaded in arranging between two rolls 8 and 22 and prescribed splashed pattern is printed on the warp T in the state by a computer-controlled printing device 26.例文帳に追加

２つのロール８，２２間に整列して装架した経糸Ｔに、製織時において付与される張力と同一大きさの張力を付与し、この状態でコンピュータ制御されたプリント装置２６により前記経糸に所定の絣模様をプリントするようにした絣織物における経糸の絣柄染付け方法。 - 特許庁

The respective individual control parts 13-1-13n have a discrimination circuit 21 discriminating whether the fed voltage is positive or negative, and the guide signs corresponding to the individual control parts are controlled to be driven so as to light the guide signs 1-n by a lighting pattern and a display pattern according to the discriminated signals from the discrimination circuit 21.例文帳に追加

各個別制御部１３−１〜１３−ｎは、給電された電圧が正負いずれであるかを識別する識別回路２１を有し、識別回路２１からの識別信号に応じた点灯パターン及び表示パターンで誘導標１〜ｎが点灯するように、当該個別制御部に対応する誘導標を駆動制御する。 - 特許庁

While an anti-reflection film 9 and a resist pattern 10 are formed on the second interlayer dielectric 8, a capacitor hole 11 is formed between the surface of the second interlayer dielectric 8 and a position-controlled bottom face 11a in the first interlayer dielectric 5 through the stopper film 7 by dry etching process using the resist pattern 10 as a mask.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜８上に反射防止膜９とレジストパターン１０を形成し、このレジストパターン１０をマスクとしたドライエッチングにより第２の層間絶縁膜８の表面からストップ膜７を貫通して第１の層間絶縁膜５内に、底面１１ａの位置が制御されたキャパシタホール１１を形成する。 - 特許庁

In a half cycle of a current waveform, i.e., when a current flows in on direction, switching deices of an inverter are controlled so as to form a pattern that a current flows from the inverter side to an AC power supply side, and a pattern that a current flows from the AC power supply side to the inverter side, are alternately repeated to generate a current waveform.例文帳に追加

電流波形の半サイクルでは、同一の方向の電流の流れで、インバータから交流電源側に電流が流れるパターンと交流電源側からインバータ側に電流が流れるパターンとを交互に繰り返して電流波形を生成するようにインバータのスイッチング素子を制御する。 - 特許庁

The digital data of the light distribution patterns can be used as it is and the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle can be controlled in a digital form, thus positively achieving the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle with little analog unevenness.例文帳に追加

また、デジタル的に作成された配光パターンのデジタルデータをそのまま使用して車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５をデジタル的に制御することができるので、アナログ的なばらつきがない車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５が確実に得られることとなる。 - 特許庁

Closely to a position to drive the top end part of the nail 32 on the play panel surface 12, a reference pattern 36 is provided corresponding to a position and a form of the head 32A of the controlled nail 32 vertically to the play panel surface 12 and the reference pattern 36 is offset from the driving position just for the required nail control.例文帳に追加

遊技盤面１２の釘３２先端部打ち込み位置近傍には、調整後の釘３２の頭部３２Ａを遊技盤面１２に対して垂直方向から投影した位置及び形状に対応する基準模様３６が設けられ、基準模様３６は釘調整が必要な分だけ上記打ち込み位置からオフセットされている。 - 特許庁

When a plurality of symbols are aligned and displayed in a predetermined pattern at the variable pattern display portion 2, the roulette display portion 3 starts its operation, and in the case a predetermined point is displayed when operation of the roulette display portion 3 is stopped manually, the game is controlled to carry out a bonus game advantageous to the player.例文帳に追加

可変図柄表示部２に複数の図柄が予め定めた所定の組み合わせで揃うと、ルーレット表示部３が作動を開始し、ルーレット表示部３の作動を人為操作で停止させたときに所定のポイントを表示した場合には、遊技者にとって有利なボーナスゲームを行なうことができるようにゲーム制御する。 - 特許庁

When an on-vehicle element 5 detects two ground elements 2a, 2b of the same frequency F1 within a constant time, a brake pattern BP is generated from the restriction speed possessed by the frequency f1 without condition and the speed of the train 3 is pattern-controlled by the simple constitution without giving the influence to the existing ATS device.例文帳に追加

車上子５が同一周波数ｆ１の２個の地上子２ａ，２ｂを一定時間以内に検出したとき、無条件で周波数ｆ１が持つ制限速度からブレーキパターンＢＰを発生して、既存のＡＴＳ装置に影響を与えることなく、簡単な構成で列車３の速度をパターン制御する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with high reliability, wherein a size difference which varies with a variety of factors and is generated owing to a sparse/dense difference of a mask pattern is securely controlled to be reduced as much as possible, and a pattern of the semiconductor device to be formed is formed with high precision without depending upon the sparse/dense difference.例文帳に追加

様々な要因により変化する、マスクパターンの疎密差に起因して生じる寸法差を確実に制御して当該寸法差を可及的に低減させ、形成される半導体装置のパターンを疎密差に依存することなく高精度に形成することを可能とし、信頼性の高い半導体装置を実現する。 - 特許庁

The tide pattern F by interference of a main flow C and injection water W is formed on the water surface by injecting water in a direction opposed to a flow of the water surface from a plurality of nozzles 4, and movement of the floating article D on the water surface is controlled by the tide pattern F formed on the water surface and it is guided/accumulated to the specific place.例文帳に追加

複数ノズル４から水面の流れに対向する方向に水を噴射することにより本流Ｃと噴射水Ｗの干渉による潮目Ｆを水面に形成させ、水面に形成させた潮目Ｆにより水面の浮遊物Ｄの移動を制御し特定場所に誘導集積させる。 - 特許庁

To provide a resist material which shows sufficient transparency when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used for the manufacture of a semiconductor device, which reduces a pattern dimension by flow baking, and which is easily controlled for the flow amount and a flow figure, and also to provide a method for forming a pattern in the resist material.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つフローベークでパターン寸法を小さくすることが可能で、フロー量、フロー形状が制御し易いレジスト材料及びそのパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁