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dry methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4151件
This method for dry type ammonia decomposition processing of decomposing ammonia includes adding oxygen to a gas containing ammonia together with a flammable compound including carbon atoms and bringing the mixed gas into contact with a catalyst to decompose the ammonia, wherein the catalyst employed is a transition metal carried on zeolite of ten- or twelve-membered ring structure or silica-alumina as a carrier.例文帳に追加
炭素原子を含む可燃化合物とともにアンモニアを含むガスに、酸素を添加して触媒に接触させることにより前記アンモニアを分解する乾式アンモニア分解処理方法において、前記触媒として、10員環構造もしくは12員環構造のゼオライトまたはシリカ・アルミナを担体として遷移金属を担持させたものを使用した。 - 特許庁
A resist pattern formation method forms a resist pattern 2, forms a protection film 3 for protecting the resist from ozone ashing on the resist pattern, irradiates the resist pattern with electron beam 4 via the protection film in an atmosphere in which oxygen exists like in the air, and then forms the resist pattern where dry etching resistance is improved by removing the protection film.例文帳に追加
レジストパターン2を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜3を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線4を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a resist composition highly transparent to a light of a wavelength of at most 250 nm, particularly to an ArF excimer laser light, excellent in resist performances such as sensitivity, resolution, adhesion to a substrate and dry etching resistance, and therefore suitable for the far ultraviolet light excimer laser lithography, an electron beam lithography and the like, and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
波長250nm以下の光、特にArFエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
When drying the wet polyphenylene ether by using a rotary drum dryer in which a plurality of heating tubes are arranged inside, in the production method, the polyphenylene ether is continuously dried by making a gas flow in the reverse direction to the transfer direction of the polyphenylene ether at a rate of 3 to 15 NL/minute per 1 kg of dry polyphenylene ether into the inside of the dryer.例文帳に追加
湿潤状態のポリフェニレンエーテルを乾燥するに際して、複数の加熱管が内部に配置された回転式円筒型乾燥機を用い、乾燥機内部に気体をポリフェニレンエーテルの移送方向と逆方向に、乾燥ポリフェニレンエーテル1kg当たり3〜15NL/分で流すことにより連続的に乾燥を行うポリフェニレンエーテルの製造方法。 - 特許庁
The method for attracting insect pests attracts the insect pests to a preparation for insect pests, a carrier or areas around them, by directly or indirectly adding liquid to the preparation for insect pests or to the carrier capable of holding the liquid and creating a non-dry condition in the preparation for insect pests, the carrier or the areas around them.例文帳に追加
害虫用製剤または液体を保持し得る担体に、液体を直接または間接的に存在させて、前記害虫用製剤または前記担体、もしくはその周囲を非乾燥状態とすることにより、前記害虫用製剤または前記担体、もしくはその周囲に害虫を誘引することを特徴とする害虫の誘引方法。 - 特許庁
The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加
化合物半導体素子が形成されたSiCウエハ1の表面側と、このSiCウエハを保持する支持基板2とを、軟化温度が200℃を超える接着材3により接着した後、上記SiCウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール6を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁
The method includes: a drying step 77 to dry an applied coating subsequent to application of the optically anisotropic layer composed of a liquid crystal compound to an alignment film layer formed on a surface of a transparent support; a cooling step 78 to cool the dried coating; and an ultraviolet ray irradiation step 79 to irradiate the cooled coating with an ultraviolet ray in a heated state.例文帳に追加
透明支持体の表面に形成した配向膜層上に液晶化合物からなる光学異方性層を塗布した後、塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程77と、乾燥した塗膜を冷却する冷却工程78と、冷却した塗膜を加熱した状態で紫外線を照射する紫外線照射工程79と、を備える。 - 特許庁
To provide a display device and an electronic appliance, which can realize a long service life of the display device, by preventing water from coming into organic EL layers and the organic EL layers from degenerating, and can form barrier layers in an organic EL element, by using not only a dry process but also a wet process, and a method of manufacturing the display device.例文帳に追加
バリア層を有機EL素子に形成する場合にドライプロセスだけではなく湿式法を用いても形成することができ、水分が有機EL層に侵入することを防いで、有機EL層の劣化を防いで、ディスプレイ装置の高寿命化を図ることができるディスプレイ装置、電子機器およびディスプレイ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a grinding wheel tool capable of dry grinding, having diamond grains with sharpness and retainability for avoiding unevenness of the tool performance and for eliminating the necessity of cooling water regardless of the kind of material to be ground, by adjusting the amount of projection of diamond or by uniformly arranging the diamond grains, and a method of manufacturing the tool with good productivity.例文帳に追加
ダイヤ突出量の調整あるいはダイヤ粒子を均一に配置することで、ダイヤ粒子の切れ味が良く、ダイヤ粒子の保持性が良く、砥石工具の性能ムラを解消すると共に、被研削材の種類を問わず冷却水を必要としない乾式研削が可能な砥石工具及び生産性の良い製造方法の提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for caustic reduction processing of a polyester-based fabric, with which the concentration of a caustic reduction agent is decreased, a processing time is shortened, processing unevenness is improved and stable processing is carried out even in dry-heat treatment without using a caustic reduction promoter in subjecting a polyester-based fabric to caustic reduction processing.例文帳に追加
本発明は、ポリエステル系布帛を減量加工する際に減量促進剤を使用することなく、減量薬剤の濃度減少、加工時間短縮、加工ムラの改善を可能とし、さらに乾熱処理においても安定な加工を可能にするポリエステル系布帛の減量加工方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
The method includes processes of: (1) forming a single layer film of a translucent light shielding layer comprising one of metal-silicon oxide, metal-silicon nitride and metal-silicon oxynitride or forming a multilayer film of a transparent layer and a light shielding layer on a transparent substrate; and (2) selectively removing the single layer film or the multilayer film by dry etching using an etching gas containing chlorine atoms.例文帳に追加
1)透明基板上に金属−シリコンの酸化物、金属−シリコンの窒化物、金属−シリコンの酸化窒化物のいずれかからなる半透明遮光層の単層膜、もしくは透明層と遮光層からなる多層膜を形成し、2)単層膜、もしくは多層膜を塩素原子を含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより選択的にエッチング除去する。 - 特許庁
The method for reusing a liquid crystal panel includes a step (S1) of removing a polarizing plate to remove the polarizing plate in the liquid crystal panel by dry distillation or combustion and a crushing step (S2) to crush the liquid crystal panel after the polarizing plate is removed by using one of uniaxial shear, biaxial shear and impact crushing machines.例文帳に追加
液晶パネルの再利用方法は、液晶パネルに含まれる偏光板を乾留または燃焼させることによって除去する偏光板除去工程(S1)と、偏光板を除去した後の液晶パネルを1軸剪断方式、2軸剪断方式、衝撃破砕方式の何れかの破砕機を使用して破砕する破砕工程(S2)とを備えている。 - 特許庁
Disclosed is a method for producing an ingot by an electroslag melting process characterized in that dry air is used as a seal gas for shielding the inside of a mold from an air atmosphere during the melting of an electrode composed of a stock for melting and further, Al is continuously added to slag in the mold from the start of the melting of the electrode to the completion of the melting.例文帳に追加
溶解用素材により構成された電極の溶解中に鋳型内を大気雰囲気から遮断するシールガスとしてドライエアを使用するとともに、電極の溶解開始から溶解終了までの間、鋳型内のスラグへAlを連続的に添加することを特徴とするエレクトロスラグ溶解法による鋳塊の製造方法である。 - 特許庁
The method for manufacturing the regenerated molding sand for reproducing the molding sand collected after molding includes a polishing step of polishing the collected molding sand by a dry polishing regeneration machine in the presence of easily-fracturing grains, wherein an average particle diameter of the easily-fracturing grains before the polishing step is 100 μm.例文帳に追加
鋳造後に回収された鋳物砂を再生する再生鋳物砂の製造方法であって、易破砕粒体の存在下に前記回収された鋳物砂を乾式研磨再生機により研磨する研磨工程を有し、前記研磨工程前の前記易破砕粒体の平均粒径が100μm以上である、再生鋳物砂の製造方法とする。 - 特許庁
More concretely, the alcohol fermentation method, wherein yeast, Zymomonas bacterium, or Zymobacter bacterium is used as an alcohol fermentation microorganism; and the ground product of the Perilla frutescens seeds is preferably added in an amount of ≥0.0004% (w/v), more preferably 0.0004 to 0.9% (w/v) as a dry weight on the basis of the alcohol fermentation raw material.例文帳に追加
より具体的には、アルコール発酵微生物として、酵母,ザイモモナス属細菌、又はザイモバクター属細菌を使用し、エゴマの種子の粉砕物のアルコール発酵原料に対する添加量を乾物重量として、0.0004%(w/v)以上添加し、より好ましくは0.0004%(w/v)〜0.9%(w/v)添加する方法。 - 特許庁
To provide an elastic material which is suitably applicable to a grinding/cleaning tool of an environmentally excellent dry system method, has a good separation ability and grinding/cleaning ability, hardly damages an object, realizes a finish with high precision, and has followability to a curved surface and irregularity of the object, and grinding/cleaning tool using the elastic material.例文帳に追加
環境的に優れている乾式工法の研掃用具に好適に適用可能で、剥離能力および研掃能力に優れ、対象物を傷つけにくく、高精度の仕上がりを実現でき、しかも対象物の曲面や凹凸に対し高い追従性を有する弾性材料およびその材料を用いた研掃用具を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing for spraying dry ice particles on the raw film, and a step of forming the irregularity pattern on the surface of the raw film having a fine irregularity formed by emboss processing.例文帳に追加
製造方法は、ドライアイス粒を前記原反の表面に吹きつけるブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸16を前記原反の表面20aに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁
This weeding method in the paddy rice cultivation by the direct sowing on the dry rice field involves using a herbicide composition containing one or more selected from butachlor, esprocarb, pretilachlor, penoxsulam, prazosulfuron-ethyl, bensulfuron-methyl, cinosulfuron, imazosulfuron, azimsulfuron and halosulfuron-methyl at the weeding before beginning of irrigation, following the weeding before seeding the rice and the weeding after seeding the rice.例文帳に追加
イネ播種前除草及びイネ播種後除草に続く入水前除草において、ブタクロール、エスプロカルブ、プレチラクロール、ペノキススラム、ピラゾスルフロンエチル、ベンスルフロンメチル、シノスルフロン、イマゾスルフロン、アジムスルフロン及びハロスルフロンメチルから選択される1以上を有効成分として含む除草剤組成物を使用することを特徴とする水稲乾田直播栽培の除草方法。 - 特許庁
To provide a method for forming via holes in a high-density circuit board, such as a printed board having a plurality of wiring layers, through a plasma treatment under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure, which enables dry processing and size reduction of a device, and facilitates formation of a metal film on the inner wall of each via hole.例文帳に追加
複数の配線層を有するプリント基板等の高密度回路基板のビアホール形成を、大気圧下もしくは大気圧近傍下におけるプラズマ処理法により行う、工程のドライ化、装置の小型化を可能とし、ビアホール内壁への金属膜形成を容易とする高密度回路基板におけるビアホール形成方法を提案する。 - 特許庁
To provide a silver salt photothermographic dry imaging material, even in the case rapid processing is performed, which has a high image concentration, has excellent optical irradiation image preservability, has excellent unevenness in density upon heat developing and transportability, has no generation of image defects and has reduced fogging even upon high temperature preservation, and also to provide an image forming method using the same.例文帳に追加
本発明の目的は、迅速処理を行った場合でも、画像濃度が高く、光照射画像保存性に優れ、熱現像時の濃度むらや搬送性に優れ、画像欠陥の発生がなく、高温保存時にもかぶりが小さい銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びそれを用いた画像形成方法を提供することである。 - 特許庁
In this dry method of removing sulfur content out of solids, a calcium compound is used as the desulfurizing agent, which is added to a sulfur mixture and caused to circulate in two of the three different atmospheres which are a high-temperature oxidizing atmosphere (region A), a reducing atmosphere (region C), and an atmosphere which is a mixture of oxidizing and reducing atmospheres (region B).例文帳に追加
固体中の硫黄分を乾式方法で除去する方法であって、脱硫剤としてカルシウム化合物を用い、該カルシウム化合物を硫黄混合物に混合して、高温の酸化雰囲気(A領域)、還元雰囲気(C領域)、及び酸化と還元の混合した雰囲気(B領域)の異なる3つのうち2つ以上の雰囲気を循環させる。 - 特許庁
This testing method for nuclear reactor containment vessel comprises a field pressure test c and leakage test d for a reactor containment vessel 1 containing a nuclear reactor pressure vessel and a reactor body foundation base 2 for supporting the nuclear reactor pressure vessel and having a diaphragm floor 7 for partitioning a dry well 4 and a suppression chamber 5, and a leakage ratio test g for the diaphragm floor.例文帳に追加
本発明は原子炉圧力容器及びこの原子炉圧力容器を支持する原子炉本体基礎台2を格納し、かつドライウェル4及びサプレッションチェンバ5を区画するダイヤフラムフロア7を有する原子炉格納容器1の現地耐圧試験c,漏洩試験d及び前記ダイヤフラムフロア漏洩率を試験gする原子炉格納容器の試験工法である。 - 特許庁
The method for specifying the abnormal place in the steel shell of the pickling tank including a region 41 where abnormality due to the acid leakage is suspected includes: cooling the exterior surface of the steel shell of the on-line pickling tank by dry ice; observing the recovery velocity of its surface temperature; and specifying a portion 4 of the recovery velocity higher than that for the other portions as the abnormal point.例文帳に追加
酸液漏洩による異常の疑われる領域41を含む、オンラインの酸洗槽の鉄皮外面をドライアイスで冷却し、その表面温度の回復速度を観測して、他の部分より回復速度の速い部分42を異常個所として特定することを特徴とする酸洗槽鉄皮の異常箇所特定方法である。 - 特許庁
The coating device and the coating method such that the device includes a coating unit for supplying a coating liquid through a slit nozzle on the surface of a substrate and a reduced pressure drying unit, having a reduced pressure drying device to dry the coating liquid applied on the substrate surface; and the reduced pressure drying device has an inlet part for fluorocarbon gas and a plasma discharge part.例文帳に追加
基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置および塗布方法を提供する。 - 特許庁
The method for preparing the photocatalyst comprises a first process wherein a photocatalyst coat is formed by coating a photocatalyst coating liquid on the substrate and a second process wherein a photocatalyst film is formed by forcing the undried photocatalyst coat prepared in the first process to dry and calcining it by blowing hot air thereon.例文帳に追加
また、光触媒体の製造方法は、基体の表面に光触媒塗布液を塗布して光触媒塗布膜を形成する第1の工程と、第1の工程により形成された未乾燥状態の光触媒塗布膜に熱風を吹き付けて強制乾燥を行うとともに焼成して光触媒膜を形成する第2の工程とを具備している。 - 特許庁
To provide a monoclonal antibody recognizing both canine CRP and human CRP, a hybridoma producing the monoclonal antibody, an immunoanalytical reagent for measuring canine CRP and human CRP using the monoclonal antibody, a dry analytical element for measuring canine CRP and human CRP using the monoclonal antibody, and a method of measuring CRP using the monoclonal antibody.例文帳に追加
犬CRPと人CRPの両方を認識するモノクローナル抗体、上記モノクローナル抗体を産生するハイブリドーマ、上記モノクローナル抗体を用いた犬CRP及び人CRP測定用免疫分析試薬、上記モノクローナル抗体を用いた犬CRP及び人CRP測定用乾式分析要素、並びに上記モノクローナル抗体を用いたCRPの測定方法を提供すること。 - 特許庁
The method for preparing the alumina-containing porous inorganic oxide carrier comprises the step of irradiating the molded product prepared by molding the alumina-containing inorganic oxide and/or an alumina-containing inorganic oxide precursor with a microwave to dry, and the hydrogenation catalyst composition using the carrier is disclosed.例文帳に追加
アルミナ含有多孔性無機酸化物担体の製造方法において、アルミナ含有無機酸化物および/またはアルミナ含有無機酸化物前駆物質を成型して得られた成型物を、マイクロ波を照射して乾燥することを特徴とするアルミナ含有多孔性無機酸化物担体の製造方法およびその担体を使用した水素化処理触媒組成物 - 特許庁
To provide a method for producing a hydrogenated aromatic compound capable of inhibiting the reduction of activity of a catalyst even by using a hydrogen-containing gas containing catalyst poison components such as carbon monoxide, a sulfur compound, etc., such as a gas obtained by heating coal or its dry distilled products as a hydrogen source for the hydrogenated aromatic compound.例文帳に追加
水素化芳香族化合物の水素源として石炭またはその乾留生成物を加熱処理して得られるガスのように一酸化炭素、硫黄化合物などの触媒被毒成分を含む水素含有ガスを用いても触媒の活性低下を抑制できる水素化芳香族化合物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
The laminate comprises the polymer substrate, a primer layer comprising a cyclized rubber which is a conjugated diene polymer cyclized product or a derivative thereof, the layer being formed on the surface of the polymer substrate, and a thin film laminated on the surface of the primer layer by a dry film-forming method.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明は、ポリマー基材と、前記ポリマー基材の表面に形成された、共役ジエン重合体環化物またはその誘導体である環化ゴムを含有するプライマー層と、前記プライマー層表面に乾式成膜法により積層された薄膜と、を有する積層体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition having high transparency to light with wavelength ≤250 nm, especially to ArF excimer laserbeam and resist performance such as high sensitivity, excellent in dry etching tolerance, and suitable for far-ultraviolet light excimer laser lithography, electronic beam lithography, etc., and to provide a method for forming fine patterns using the composition.例文帳に追加
波長250nm以下の光、特にArFエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、高感度であるといったレジスト性能を有し、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a drain drying compsn. which rapidly decreases the wet and dry interface on the surface of a washing object due to vaporization of this compsn. by draining due to condensation of the drain drying compsn. itself and lowers the average contact angle of water in a drying region soon after drying, and a method of drain drying therewith.例文帳に追加
液切り乾燥用の組成物自体が凝縮して液切りをすることにより、洗浄対象物に対して、その表面での組成物の蒸発による濡れ・乾燥界面がすばやく減少する、また、乾燥直後の乾燥領域における水の平均接触角が低くなるような液切り用組成物およびそれを用いた液切り乾燥方法を提供する。 - 特許庁
In this continuous drying method of the honeycomb compact 2 by placing the honeycomb compact 2 on a loading space 10, conveying the loading space 10 by a conveying means 6, and heating the honeycomb compact 2 by a heating means 7 during conveying to dry the honeycomb compact, the honeycomb compact 2 is rotated by rotating mechanisms 9, 11a during conveying.例文帳に追加
ハニカム成形体2を載置台10上に載置し、該載置台10を搬送手段6により搬送し、該搬送中に前記ハニカム成形体2を加熱手段7により加熱して乾燥させるハニカム成形体2の連続乾燥方法において、前記搬送中に前記ハニカム成形体2を回転機構9,11aにより回転させる。 - 特許庁
The method for producing the bread includes steps of fermenting bread dough,contained at 5-500 g per kg of grain flour of Shochu refuse dry powder by lactobacillus and/or yeast, followed by baking, and of fermenting bread dough contained at 300-800 g per kg of grain flour of Shochu waste liquid by lactobacillus and/or yeast, followed by baking.例文帳に追加
穀物粉1kgに対し焼酎粕の乾燥粉末を5〜500g含有させたパン生地を乳酸菌及び/又は酵母により醗酵させた後焼成するようにし、また穀物粉1kgに対し焼酎廃液を300〜800g含有させたパン生地を乳酸菌及び/又は酵母により醗酵させた後焼成する。 - 特許庁
In the method of manufacturing the printing ink containing β-type copper phthalocyanine where the aspect ratio of pigment primary particles in the printing ink is 1-2, an α-type copper phthalocyanine containing the crude copper phthalocyanine and copper phthalocyanine derivative is dry-pulverized together with a resin for printing ink, and then the obtained pulverized material is heated in a solvent for printing ink or varnish.例文帳に追加
粗製銅フタロシアニンと銅フタロシアニン誘導体を含有するα型銅フタロシアニンを印刷インキ用樹脂と共に乾式粉砕した後、得られた粉砕物を印刷インキ用溶剤又はワニス中で加熱することを特徴とする、印刷インキ中の顔料一次粒子のアスペクト比が1〜2であるβ型銅フタロシアニンを含有する印刷インキの製造方法。 - 特許庁
In a method of reproducing a cleaning member for a semiconductor device, a cleaning layer 2 comprised of a heat resistant resin resulting from heat-curing polyamic acid is provided on at least one side of a wafer 1, and particles stuck on the top layer of the cleaning layer are removed using a dry etching system.例文帳に追加
ウエハ1の少なくとも片面にポリアミック酸を熱硬化させた耐熱性樹脂からなるクリーニング層2が設けられてなる半導体装置用クリーニング部材の再生方法であって、上記クリーニング層の表層に付着したパーティクルをドライエッチング方式を用いて除去することを特徴とする半導体装置用クリーニング部材の再生方法。 - 特許庁
The fine particulate containing gas generated by a dry particle generating method in a fine particulate containing gas supplying part 10 is vacuum-sucked into a container 31 brought into a vacuum condition preliminarily by vacuum evacuating using a pump 39P, via vacuum suction part 20, and sealing gas supplied from a sealing gas supplying part 40 is thereafter pressurization sealed into the container.例文帳に追加
あらかじめ真空ポンプ39Pで真空排気することにより真空状態とした容器31内に、微粒子含有ガス供給部10での乾式粒子発生法で生成した微粒子含有ガスを真空吸引部20を介して真空吸引した後、該容器内に封入用ガス供給部40から供給される封入用ガスを加圧封入する。 - 特許庁
In a method of drawing the rigid pile vertically buried in the ground, an earth retaining pile 1 which is the rigid pile is separated from the soil after forming a dry membrane for lowering the cohesion and adhesion of the soil to the earth retaining pile 1, on a surface layer 4a of the ground 4 abutting on the earth retaining pile 1.例文帳に追加
土中に縦状に埋設されている剛性杭の引き抜き工法において、前記剛性杭である土留め杭1に対する土壌の粘着力、付着力を低下させる乾燥状の皮膜を,前記土留め杭1と接する地盤4の表面層4aに形成してから、前記土留め杭1を土壌から縁切る方法とした。 - 特許庁
The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加
有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁
The method of storing the photoreceptor by sealing the photoreceptor with the dry-laminated composite film composed of layers of polyester 31, aluminum foil 33 and polyethylene 34 using polyester on the outer surface, is characterized in that a humidity control functional composition layer 32 is provided between polyethylene and aluminum foil on the photoreceptor facing surface side directly or through adhesive layers 35, 36.例文帳に追加
ポリエステルを外表面とするポリエステル31/アルミ箔33/ポリエチレン34の層構成でドライラミネートした複合フィルムにより感光体を密封、保管する方法において、感光体対向面側のポリエチレン/アルミ箔の間に調湿機能性組成物層32を直接又は接着層35、36を介して設けた事を特徴とする感光体の保管方法。 - 特許庁
To provide a construction method of an inlaid floor material for maintaining initial luster of a floor surface by only simple daily maintenance of a degree of wiping by a broom, wiping with dry cloth such as a mop and wiping with wet cloth, by dispensing resin wax maintenance to a surface, by performing specific initial maintenance in the inlaid floor material.例文帳に追加
本発明は、インレイド床材において、特定の初期メンテナンスを行うことで、表面への樹脂ワックスメンテナンスを不要として、ほうき等による拭き掃除や、モップ等による空拭きや、水拭き程度の簡単な日常のメンテナンスのみで初期の床表面の艶を維持するインレイド床材の施工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a β-type copper phthalocyanine pigment composition of a high quality with few deterioration with time by oxidation, and a lithographic ink using the same in a method of manufacturing a pulverized object in which crude copper phthalocyanine is dry-pulverized, and of directly manufacturing an ink using the pulverized object, that is a very efficient measure in an aspect of productivity and cost.例文帳に追加
生産性やコストの面で非常に有効な手段である、粗製銅フタロシアニンの乾式粉砕した摩砕物および該摩砕物を用い直接印刷インキを製造する方法において、酸化による経時劣化のない高品位のβ型銅フタロシアニン顔料組成物およびそれを用いた平版印刷インキを提供することである。 - 特許庁
The method for charging the biomass into CDQ (coke dry quenching equipment) is to charge the biomass 161 into a prechamber 105 which is a charging space for red-hot coke in the CDQ by pneumatic conveying with a carrier gas 171 and the volume of the carrier gas is fluctuated with a carrier gas flow rate regulating part 167 during charging of the biomass.例文帳に追加
コークス乾式消火設備における赤熱コークスの投入空間であるプレチャンバ105にバイオマス161を搬送ガス171による気流搬送で投入する方法であって、バイオマス投入中に搬送ガス量を搬送ガス流量調節部167で変動させることを特徴とするコークス乾式消火設備へのバイオマス投入方法。 - 特許庁
To obtain dried pregelatinized rice which is a dried rice product capable of satisfactorily eating as it is and having proper texture or having flavor or seasoned and can pregelatinize and dry rice starch in a short time without puffing the rice starch and can provide mono-granular dried rice product to which roast feeling is imparted and provide a method for producing the pregelatinized rice.例文帳に追加
そのままでも十分に食することが可能で適度な食感を有する、あるいは風味又は調味付けされた米乾燥品であり、米デンプンを膨化させることなく短時間でα化、乾燥でき、さらにロースト感の付与された単粒状の米乾燥品を得ることのできる乾燥α化米及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This papermaking method is intended to obtain paper sheets by the use of deinked pulp as at least part of stock pulp; wherein the deinked pulp is a pulp obtained by treating waste paper with a deinking agent comprising an alkylene oxide adduct of a carboxylic acid or an ester thereof and contains the residual deinking agent at 0.001-1 wt.% based on the bone dry pulp.例文帳に追加
カルボン酸又はそのエステルのアルキレンオキサイド付加物を含有する脱墨剤を用いて古紙を処理して得られた脱墨処理パルプであって、脱墨処理パルプ中に存在する脱墨剤量が絶乾パルプに対し0.001重量%以上1重量%以下である脱墨処理パルプを、原料パルプの少なくとも一部として用いて抄紙シートを得る。 - 特許庁
To provide a device manufacturing method with high reliability that provides a configuration of controlling unique plasma directivity against variations in the symmetry of a processing cross-sectional shape within a plane of a wafer to be processed in plasma dry etching, thereby capable of uniformly adjusting the symmetry of the processing cross-sectional shape within a plane of the object to be processed.例文帳に追加
プラズマドライエッチングにおいて、加工するウェハの面内での加工断面形状の対称性バラツキに対し、固有のプラズマ指向性を制御する構成を有しており、これにより加工断面形状の対称性を被処理物面内均一に調整でき、信頼性の高いデバイス製造方法を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁
The fine-processing method for the glassy carbon comprises the processes of: coating the glassy carbon substrate with an ultraviolet ray-sensitive resin used in the development of a photograph; forming the resin into a desired micropattern by the exposure and development of the resin; dry-etching the resin, to transfer the micropattern onto the glassy carbon substrate.例文帳に追加
本ガラス状カーボンの微細加工方法は、ガラス状カーボン基板に写真現像用の紫外線感光性樹脂を塗布する工程と、紫外線感光性樹脂の露光、現像を行い、紫外線感光性樹脂を所望の微細パターンに成形する工程と、紫外線感光性樹脂にドライエッチングを施し、微細パターンをガラス状カーボン基板へ転写する工程を有する。 - 特許庁
The magnetic head cleaning and drying method is characterized by using semi-aqueous cleaner in a washing step 10, using pure water in a rinsing step 20, applying the sweep of modulation frequency to fundamental frequency and applying vibration by ultrasonic waves of a plurality of frequencies, carrying out cleaning and rinsing, and then rotating a washed article 1 at high speed to dry it.例文帳に追加
洗い工程10に準水系洗浄剤を使用し、すすぎ工程20に純水を使用し、基本周波数に変調周波数のスイープを掛け、さらに数種類の周波の超音波を用い振動を与え、洗浄、すすぎを施し、被洗浄物1を高速回転させることで乾燥させることを特徴とする磁気ヘッドの洗浄、乾燥方法。 - 特許庁
By using a method of dry etching which uses a reactive gas with high processing accuracy for etching and by controlling the etching depth d larger than the thickness (t) of the transparent film 11, the height (h) of disk-like protrusions 13 can be made uniform, fluctuation in the volume of the protrusions 13 can be suppressed and the size of the microlenses 14 after the heat treatment is made uniform.例文帳に追加
エッチングに加工精度の高い反応性ガスを用いたドライエッチング法を用い、エッチングの深さdが透明膜11の厚さtより深くなるようにすることにより、円板状の突起13の高さhを一定にすることができ、突起13の体積変動が抑えられ、熱処理後のマイクロレンズ14のサイズが均一となる。 - 特許庁
The method for removing stains from OA equipments comprises a step to open the outer wall part of, for example, a copying machine 35, a step to spray water toward the opened copying machine and remove stains and a step to convey the water-sprayed copying machine into a drying chamber, send air to the drying chamber, fluidize the sent air in the drying chamber and dry the copying machine.例文帳に追加
OA機器類から汚れを除去する方法であって、たとえば、複写機35の、外壁部分を開く工程と、開かれた複写機に、水を噴射して汚れを落とす工程と、水を噴射された複写機を乾燥室9内に搬入して、その乾燥室内に空気を送り込み流動させて複写機を乾燥する工程とを備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a self-aligned ferroelectric gate transistor using a buffer layer with a large etching selectivity, which can achieve a higher degree of integration of the self-aligned ferroelectric gate transistor while preventing damage to a silicon substrate by forming a buffer layer with a large etching selectivity between the silicon substrate and a ferroelectric layer and then performing dry etching.例文帳に追加
シリコン基板と強誘電体層間に蝕刻選択比の高いバッファ層を形成して乾式蝕刻を遂行することで、シリコン基板の損傷を防止しながら自己整列強誘電体ゲートトランジスタの集積度を向上し得る蝕刻選択比の大きいバッファ層を利用した自己整列強誘電体ゲートトランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
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