「due process」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image processing apparatus capable of avoiding interruption of conversion process which is caused due to inputting of color images exceeding its own capability and an event that takes an extremely long time for processing.例文帳に追加

自己の性能を超えるカラー画像が入力されたことによって生じる変換処理の停止や、処理に極端に時間がかかるという事象に対し、これらの停止や事象を抑制する画像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vehicular shifting operation device having no trouble in resetting a manual transmission mode added to an automatic transmission mode for an automatic transmission vehicle into the automatic transmission mode by preventing the process of shifting not intended by a driver due to stones flying from a road surface or a failure of shifting intended by the driver due to bitten foreign matters.例文帳に追加

ＡＴ車両の自動変速モードに付加された手動変速モードにおいて、路面からの跳ね石等によって運転者の意図しない変速が行なわれたり、異物の噛み込み等によって運転者の意図する変速が行なえなくなったりすることを防止し、自動変速モードへの復帰が支障なく行なえる車両用変速操作装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treating method capable of preventing blocking of a pipe due to deposit adhering, an original purpose, preventing the pipe from being excessively heated, and preventing thinning and blocking of the pipe due to a reaction product by the pipe material and fluorine radicals, when introducing exhaust gas from a membrane forming system containing Si components, into an exhaust gas treating process.例文帳に追加

Ｓｉ成分を含有する成膜系排ガスを排ガス処理工程に導入する場合、析出物付着による管の閉塞防止という本来の目的が達成でき、配管が必要以上に高温になるのを防止可能であり、かつ、管材とフッ素ラジカル等との反応物による配管の薄肉化および閉塞の防止が可能な排ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

The audit’s objective is to express an opinion or conclusion as to whether the design of the issuer’s due diligence measures as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is in conformity with, in all material respects, the criteria set forth in the nationally or internationally recognized due diligence framework used by the issuer, and whether the issuer’s description of the due diligence measures it performed as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is consistent with the due diligence process that the issuer undertook.例文帳に追加

監査の目的は、紛争鉱物報告書に示されている発行人のデュー・ディリジェンス措置のデザインが、その報告書の対象期間に関するあらゆる重要な点において、国内的または国際的に広く認められ、その発行人が利用したデュー・ディリジェンスの枠組に示されている基準に合致しているか否か、および発行人が報告書の対象期間に関して実行したと紛争鉱物報告書に示しているデュー・ディリジェンス措置についての記述が、その発行人の実行したデュー・ディリジェンスのプロセスと一致しているか否かについて、意見または結論を表明することである。 - 経済産業省

The final rule states that the audit’s objective is to express an opinion or conclusion as to whether the design of the issuer’s due diligence framework as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is in conformity with, in all material respects, the criteria set forth in the nationally or internationally recognized due diligence framework used by the issuer, and whether the issuer’s description of the due diligence measures it performed as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is consistent with the due diligence process that the issuer undertook.例文帳に追加

最終規則には、監査の目的は、紛争鉱物報告書に記された発行人のデュー・ディリジェンスの枠組のデザインが、その報告書の対象期間に関してすべての重大な点で、発行人によって用いられた国内的または国際的に認められたデュー・ディリジェンスの枠組の基準に従っているか否か、および報告書の対象期間に関して紛争鉱物報告書に示されたデュー・ディリジェンスの措置に関する発行人の記述が当該発行人によって実行されたデュー・ディリジェンス・プロセスと一致しているかどうかについて、意見または結論を表明することであると規定されている。 - 経済産業省

To provide a method for producing an acetoxymethylbiphenyl compound by an oxidative esterification reaction from raw materials consisting essentially of a dimethylbiphenyl compound and acetic acid, by which the deposition of the unreacted dimethylbiphenyl compound can be prevented in a process after the reaction to produce the acetoxymethylbiphenyl compound without causing a trouble due to the deposition of the dimethylbiphenyl in the production process.例文帳に追加

ジメチルビフェニル類と酢酸とを必須とする原料から酸化的エステル化反応によりアセトキシメチルビフェニル類を製造するに際し、未反応のジメチルビフェニル類が反応後の工程において析出することを抑制することにより、ジメチルビフェニル類の析出による製造工程における不具合が生じることなくアセトキシメチルビフェニル類を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an annealing method of a silicon carbide single crystal capable of removing thermal stress distortion and processing distortion remaining in the silicon carbide single crystal without causing remarkable crystallinity deterioration due to surface carbonization and hardly causing crystalline cracking and crack generation at a working process of a crystal and at a device process and to provide a silicon carbide single crystal wafer subjected to an annealing treatment.例文帳に追加

炭化珪素単結晶中に残留する熱応力歪や加工歪を、表面炭化による著しい結晶性劣化を起こすことなく除去し、結晶の加工プロセス時やデバイスプロセス時に結晶割れやクラック発生が起こらない炭化珪素単結晶の焼鈍方法、及び、その焼鈍処理を施された炭化珪素単結晶ウェハを提供する。 - 特許庁

A reception processing section 130 obtains the priority of the packets among the received packets on the basis of information protected by the IPsec, uses replay prevention windows 141, 142 adapted to the packet priority to carry out the reply prevention process of the packets so as to be capable of carrying out the reply prevention process for preventing packets from being abrogated even when the reception sequence is replaced due to the priority.例文帳に追加

受信処理部１３０は、受信パケットのうちでＩＰｓｅｃに保護された情報から当該パケットの優先度を求め、当該パケットの優先度に対応したリプレイ防止ウィンドウ１４１〜１４２を用いて当該パケットのリプレイ防止処理を行うことにより、優先度による受信順序が入れ替わった場合でも、パケット廃棄を防ぐリプレイ防止処理を行える。 - 特許庁

To provide a method and a program for controlling a chemical process, for stably controlling the chemical process in which a reaction is advanced by adding a catalyst while continuously feeding a raw material so that the amount of the raw material to be retained in the reactor is kept within a predetermined range, even when the performance of the catalyst changes due to some disturbance.例文帳に追加

原料を反応器内での存在量が所定の範囲となるように継続的に供給しながら、触媒を添加することで反応を進行させる化学プロセスにおいて、何らかの外乱により触媒の性能が変化した場合であっても、安定した制御を行なうことが可能な化学プロセスにおける制御方法および化学プロセスを制御するためのプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a continuous electric connection means for a detachable process cartridge having an information storage medium mounted on a primary electrophotographic image forming apparatus body and to prevent damage due to abrasion of a contact part resulting from long-time vibrations caused when the process cartridge is carried and transported and so on while loaded in the primary electrophotographic image forming apparatus body.例文帳に追加

電子写真画像形成装置本体に装着される情報記憶媒体を有する着脱可能なプロセスカートリッジにおいて常時電気的接続手段を行うもので、プロセスカートリッジが電子写真画像形成装置本体に装着された状態で運搬、輸送等を行う際に生じる長時間の振動によって接触部分の摩耗による損傷が生じないようにする。 - 特許庁

To provide a method for preparing a semiconductor device including a non-contact checking process capable of confirming whether a circuit and a circuit element formed on a TFT board capable of preventing drop up production yield operate normally or not by reducing defects due to sticking of fine dust in the checking process for the mass production of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の量産化に向けて、検査工程で微細なゴミが付着することにより不良が発生する問題を減らし、歩留まりの低下を防ぐことができるＴＦＴ基板に形成された回路および回路素子が正常に動作するかどうかを確認できる非接触の検査工程を含む半導体装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image display tube for which degradation of display image due to the mixture of a spacer never occurs, bubbles adversely affecting the image hardly intrude and the excessive application of an adhesive can be reduced in a bonding process, a process for bonding an image display panel to a front plate can be shortened, and a low cost can be realized.例文帳に追加

スペーサーの混入などで表示画像の劣化が起こらず、また、接着工程において、画像に悪影響を及ぼすような気泡が混入し難く、かつ、接着剤のはみ出しを減少させることができ、しかも、画像表示パネルと前面板とを接着する工程も短縮することができて、インラインの工程速度を短縮し、低コスト化できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an acetoxymethylnaphthalene compound by an oxidative esterification reaction from raw materials consisting essentially of a dimethylnaphthalene compound and acetic acid, by which the deposition of the unreacted dimethylnaphthalene compound can be prevented in a process after the reaction to produce the acetoxymethylnaphthalene compound without causing a trouble due to the deposition of the dimethylnaphthalene in the production process.例文帳に追加

ジメチルナフタレン類と酢酸とを必須とする原料から酸化的エステル化反応によりアセトキシメチルナフタレン類を製造するに際し、未反応のジメチルナフタレン類が反応後の工程において析出することを抑制することにより、ジメチルナフタレン類の析出による製造工程における不具合が生じることなくアセトキシメチルナフタレン類を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for batchwise producing polyamide in which the formation of a massive deposit in a stirring apparatus is suppressed to enhance production efficiency, and the resultant product includes less unmelted material due to the deposit, with respect to a process for batchwise producing polyamide through direct melt polymerization of a diamine component comprising paraxylylenediamine and a dicarboxylic acid component in the substantial absence of solvents.例文帳に追加

パラキシリレンジアミンを含むジアミン成分とジカルボン酸成分とを実質溶媒の非存在下に直接溶融重合させるポリアミドのバッチ式製造方法において、撹拌装置への塊状の付着物の生成を抑制して生産効率を上げると共に、得られる製品中に該付着物を起因とする未溶融物の混入が少ないポリアミドのバッチ式製造方法を提供。 - 特許庁

To provide an electron emitting element whereby deterioration of landing characteristics of emitted electrons classified by each coloring matter due to dislocation of the alignment of a first substrate and a second substrate which is caused in an assembling process, or contraction/expansion errors of the first substrate and the second substrate which is produced during a heating process can be alleviated, and uniformity of luminance and color reproducibility can be enhanced.例文帳に追加

本発明の目的は組立工程で発生する第１基板と第２基板の整列位置外れ、又は熱工程の途中で発生する第１基板と第２基板の収縮/膨脹誤差などによる各画素別放出電子のランディング特性低下を軽減でき、輝度と色再現力の均一度を向上させられる電子放出素子を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a honeycomb panel, which prevents the unevenness from generating by reducing, in the process of bonding CFRP and a light metal honeycomb, the difference in residual thermal strain due to the difference in thermal expansion and reducing the load between the surface plates of the honeycomb panel and the light metal honeycomb after the forming and which at the same time improves strengths and rigidity of the honeycomb panel itself.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＣＦＲＰと軽金属ハニカムを接着する工程で、熱膨張差に起因する残留熱歪差を低減させ、成形後のハニカムパネルの表面板と軽金属ハニカム間の荷重を低減することで、凹凸が発生することを防止すると共に、ハニカムパネル自体の強度剛性を向上させるハニカムパネル製造方法を提示することにある。 - 特許庁

To improve reliability by changing the shape of a die of an air vent to a projecting shape for restraining generation of inner void in a substrate one-sided mold process, improving degassing in a sealing process, stopping air vent burr generated due to the improved degassing at a prescribed position by forming a recess part in a substrate surface, and reducing generation of inner void.例文帳に追加

基板片面モールド工程において、内部ボイドの発生を抑止するために、エアベント部の金型の形状を凸状に変え、封止工程におけるエアの抜けを良くし、エアの抜けがよくなったために発生するエアベントバリを、基板表面に凹部をつけることにより所定の位置で止め、内部ボイドの発生の低減を実現することにより、信頼性を向上させる。 - 特許庁

To eliminate necessity of machining a framework of a filter means in a separate process, to eliminate a process of engaging the framework for fixation when assembling, and to prevent the reduction of surface area of a filter member due to the framework in the filter member to be arranged in a port of a sleeve communicated with a hydraulic device of a solenoid valve arranged in a hydraulic circuit for hydraulic control.例文帳に追加

油圧制御における油圧回路に配設されるソレノイドバルブの油圧装置に連通するスリーブのポートに配設される濾過部材において、濾過手段の枠体を別工程にて加工する必要がなく、組付の際、枠体を係合し固定する工程を必要としないようにするとともに、枠体により濾過材の表面積が小さくならないようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method that can form a high-quality film and prevent heat damage to a substrate due to a high-density plasma, in a method for manufacturing a functional film by CCP-CVD in which a roll-to-roll process using a film forming drum is adopted.例文帳に追加

成膜ドラムを用いるロール・トゥ・ロールを利用する、ＣＣＰ−ＣＶＤによる機能性フィルムの製造において、高品質な膜を成膜することができ、かつ、高密度なプラズマに起因する基板の熱損傷も防止できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce cost by obviating the need of nonslip work (post-process) for preventing the coming off of a slope member 5 after being mounted to a housing 3 without using an expensive resin material (synthetic resin small in the amount of deformation due to high-temperature creep or the like).例文帳に追加

高価な樹脂材料（高温クリープ等による変形量の小さい合成樹脂）を使用することなく、また、ハウジング３への装着後のスロープ部材５の抜け防止のための抜け止め作業（後工程）を不要とすることで、コストダウンを図ることを課題とする。 - 特許庁

To avoid high manufacturing cost due to a complicated manufacturing/ assembling process requiring precise processing for uniformizing the thickness of a side wall of a dielectric cylinder that is used to cover the reflecting face of a secondary reflecting mirror in the structure for supporting the conventional secondary reflecting mirror of this kind.例文帳に追加

従来のこの種の副反射鏡支持構造は、副反射鏡の反斜面を覆う誘電体円筒を用いているが、この誘電体円筒の側壁の厚さの均一化に精密加工を要する等、製造／組立工程が複雑で製造コストが高くなる。 - 特許庁

To prevent degradation in speech quality which happens due to an instability of a coping process until stopping of echo-canceling toward after the second stage echo-canceler cascade-connected, and to guarantee an action of an echo-canceler connected to a terminal to which an echo-canceler is unnecessary.例文帳に追加

従属接続での２段目以降のエコーキャンセラに対してエコーキャンセラ停止までの間に収束過程の不安定さに起因して起こる通話品質劣化防止を行い、エコーキャンセラ不要端末が接続されたエコーキャンセラに対して動作を保証する。 - 特許庁

To provide a method permitting to further secure a low resistance metallic area on data wiring without an additional process, and to manufacture an array substrate of a large area not causing a phenomenon of deterioration in picture quality due to a delay in a signal.例文帳に追加

本発明は、工程をこれ以上追加しなくてもデータ配線上部に低抵抗金属領域をさらに確保することができる方法を提案して、信号遅延による画質低下現像が発生しない大面積アレー基板を製作することを目的とする。 - 特許庁

To provide a process liquid for a waterless planographic printing plate, the liquid suppressing decrease in developing property and peeling of an ink repelling layer due to changes in an amino compound content and stably processing any type of positive or direct-drawing waterless planographic printing plates for a long period of time.例文帳に追加

アミノ化合物の含有量の変動による現像性の低下、インキ反発層剥離を抑制し、ポジ型、直描型水なし平版印刷版のいずれをも長期間安定して処理することができる水なし平版印刷版用処理液を提供すること。 - 特許庁

To provide an easily peelable multilayered stretched film generating no peeling in a film longitudinal stretching process, good in stretchability and reduced in cutting and thickness irregularity and a polyester film peeled from the multilayered stretched film, high in light permeability and generating no cutting due to tearing at a time of peeling.例文帳に追加

フィルムの縦延伸工程での剥離がなく、延伸性が良好で切断が少なく、厚み斑が良好な易剥離性多層延伸フィルム及びこれから剥離した光透過率が高く、剥離時に引き裂きによる切断が起こらないポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To decrease the number of process of attaching a reflection member in a light guide plate having the reflection member attached to the side faces having reflection grooves, to prevent leaking of light due to complicated recesses and projections on the side faces and to improve the conversion efficiency of light.例文帳に追加

反射溝を有する側面に反射部材を取り付けてなる導光板において、反射部材を取り付ける工数を低減をするとともに、側面の複雑な凹凸に起因する光の漏れをなくし、光の変換の効率を改善することを課題とする。 - 特許庁

In the heat fixing device of the image forming device, an oil repelling process is applied on the whole surface or on one part of a specified position in a heat generating source of the heat fixing device or its vicinity at least where movement of the silicone oil due to the creeping phenomenon is allowed.例文帳に追加

画像形成装置の熱定着装置において、少なくともシリコーンオイルのクリープ現象による移動が許容される箇所である熱定着装置の発熱源或はその近傍における特定個所の全面若しくは一部分に撥油処理を施す。 - 特許庁

To improve a conveyance tray storing an optic filter for reducing the influence of scratches and breakage on a principal plane of the optic filter due to a crack or the like from a corner or the whole of the filter to the principal plane and capable of serving both during a manufacturing process and delivery to a customer.例文帳に追加

光学用フィルタの角部や全体からのカケなどによるフィルタ主面部のキズ破損などの主面へ影響を軽減し、製造工程でも客先への出荷にも共用できる光学用フィルタを収納する搬送トレーの改善を目的とする。 - 特許庁

To provide a process for forming the interconnections of a semiconductor integrated circuit, capable of stabilizing the characteristics and operation of the integrated circuit by preventing bridge phenomenon where adjacent interconnections are short-circuited due to turning into high density of semiconductor integrated circuits.例文帳に追加

半導体集積回路が高密度化されることによって互いに隣接する配線が短絡されるブリッジ現象を防止して、集積回路の特性及び動作を安定化させることができる半導体集積回路の配線製造方法を提供する。 - 特許庁

At the process of correcting the deviation of the belt, the belt deviation recovering force is generated by the belt deviation correcting means 30 so that the operation may be converged in a well-balanced position with the belt deviating force due to belt deviation characteristics peculiar to the device equipped with the belt.例文帳に追加

ベルト寄り修正手段３０は、ベルト寄りを修正する過程において、そのベルトが装着された装置の有する固有のベルト寄り特性によるベルト寄り力とつり合う位置に動作を収束させるように、ベルト寄り戻し力を発生させる。 - 特許庁

To provide a method for highly efficiently producing a sulfur-containing cyclic compound useful as a raw material for an optical resin to be expected for development as an optical material due to having high heat resistance, high transparency and high refractive index by a short process.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、高屈折率を有することから光学材料としての展開が期待できる光学用樹脂の原料として有用な含硫黄環状化合物を短工程で高効率で製造することが可能となる製造方法を提供する事。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge, reducing the cost of a driving motor and decreasing power consumption by reducing the torque of the driving motor for driving a brush-like roller in rotation, and improving the allowance to banding due to rotational vibration of the brush-like roller.例文帳に追加

ブラシ状ローラを回転駆動する駆動モータのトルク低減による駆動モータコスト減や消費電力の減少、ブラシ状ローラの回転振動によるバンディングに対する余裕度向上を図ることが可能な画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To detect and correct the state of inclination of output picture in order to correct the color slurring of pictures generated thereby, even when the state of skew differs every process color due to the variation of attachment angle of respective LED arrays and photoreceptors.例文帳に追加

各ＬＥＤアレイや感光体の取り付け角度のばらつきによってスキューの状態も各プロセスカラーごとに違っていても、それによって生じる画像の色ずれなどを補正するために、出力画像の傾きの状態を検出して補正することを目的としている。 - 特許庁

In a case where this device is continuously operated for prescribed time or more in a parted retard combustion range where increase of smoke quantity due to enrichment can be restricted, a sulfur poisoning elimination process is executed even before deposited sulfur quantity reaches an elimination requiring level.例文帳に追加

ここで、リッチ化によるスモーク量の増大を抑制できる分割リタード燃焼の成立領域で所定時間以上連続して運転されているときには、硫黄堆積量が解除要求レベルに達する前であっても、硫黄被毒解除処理を実行させる。 - 特許庁

To provide a light-emitting element assembly integrated (single chip) with a light-emitting element in which a regrowth process of a compound semiconductor layer is not required in structure and a protective means effective for breakdown due to overcurrent flow in the forward or reverse direction is provided.例文帳に追加

発光素子と一体化（１チップ化）され、構造上、化合物半導体層の再成長工程が不要であり、しかも、順・逆方向の過電流が流れることによって生じる破壊に対して有効な防護手段を有する発光素子組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning process apparatus which can prevent operational failures of a driving system, due to flying of the cleaning liquid to the driving system and can keep the apparatus inside clean, by preventing flying of particles generated in the driving system to the wafer to be cleaned.例文帳に追加

洗浄液の駆動系への飛散による駆動系の動作不良の発生を防止し、また、駆動系において発生するパーティクルの被処理基板への飛散を防止して、洗浄処理装置内を清浄に保持することを可能とした洗浄処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which reduces the fatigue due to the exposure to a large quantity of light and reduces the difference in chargeability of the photoreceptor between the first rotation of the photoreceptor conductor and the second and subsequent rotations even after repeated use and can form a good image from its first rotation, image-forming equipment, and a process cartridge.例文帳に追加

大光量露光による疲労が少なく、繰り返し使用後も感光体１回転目と２回転目以降の帯電性の差が少なく、一回転目から良好な画像を形成できる電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

The deposition of the cover layer is conducted in a state in which a bias voltage, selected so as to make arithmetic average roughness (Ra) of the molding surface more increased than that before deposition due to collision of a portion of ions of a process gas with the molding surface during deposition, is applied to the base material.例文帳に追加

被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nitride-based compound semiconductor substrate for eliminating a growth process of a low-temperature protective layer for reducing the manufacturing cost of a GaN-based semiconductor substrate and removing influence due to variations in the quality of the low-temperature protecting layer.例文帳に追加

低温保護層の成長プロセスを省略でき、ＧａＮ系半導体基板の製造コストを低減できるとともに、低温保護層の品質のばらつきによる影響を排除できる窒化物系化合物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

With this method, since the communication clearance 61 can be stably formed, a rise of the internal pressure to be generated by thermal expansion of the air inside of the noise absorbing space 25 during a heat treatment process can be relaxed, and a formation failure due to a rise of the internal pressure can be restricted.例文帳に追加

この方法では、連通空隙６１を安定して形成できるため、熱処理工程の際に吸音空域２５内の空気が熱膨張することにより生ずる内圧上昇を緩和でき、該内圧上昇による成形不良を抑制できる。 - 特許庁

To provide an internal solid pharmaceutical preparation in which formulation change due to mixing of an antipyretic and analgesic component having an acidic carboxy group and an antiacid including a bivalent and/or trivalent metal salt is suppressed and which has an excellent antipyretic and analgesic component-eluting characteristics, and to provide a process for producing the internal solid pharmaceutical preparation.例文帳に追加

酸型のカルボキシ基を有する解熱鎮痛成分と、２価及び／又は３価の金属塩からなる制酸剤との配合変化が抑制され、前記解熱鎮痛成分の溶出性に優れた内服固形製剤及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a support body for a substrate and a substrate storage container such that a thin film has its peeling or cracking due to contacting with a support piece suppressed, process as designed or the like can be performed on a substrate, and contamination of the substrate and a decrease in yield of a product can be prevented.例文帳に追加

薄膜が支持片と接触して剥離したり、クラックが発生するのを抑制し、基板に設計通りの加工等を施すことができ、基板の汚染や製品の歩留まり低下を防止できる基板用支持体及び基板収納容器を提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory that achieves low-temperature heat treatment in a manufacturing process while preventing degradation of memory characteristics due to shortage of heat treatment of baking densification to crystallize a ferroelectric film, especially degradation of residual polarization characteristics of the ferroelectric film.例文帳に追加

強誘電体膜の結晶化のための焼き締めによる熱処理不足によるメモリ特性の低下、特に強誘電体膜の残留分極特性の低下を防止しながら、製造プロセスの低温熱処理化を実現できる強誘電体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

In the welding process, the output and irradiation time of the laser are set such that the second temperature becomes such a temperature that a leading end of a weld penetration part 81 produced due to melting of the vicinity of the fitting surface 80 is located within thickness of the fuel passage member 30.例文帳に追加

溶接工程において、レーザの出力および照射時間は、第２温度が、嵌合面８０近傍が溶融することで生じる溶け込み部８１の先端が燃料通路部材３０の板厚内に位置する程度の温度となるよう設定される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition used for patterning due to double exposure, suitably used for a liquid immersion exposure process, such as water, without requiring separate formation of an upper layer film, and which os suitably used for forming a first resist layer.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングに用いられ、上層膜を別途形成する必要がなく、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられることが可能であり、第一のレジスト層を形成するために好適に用いられる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁