「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(116ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing an electro-optic apparatus by which minute scratches and cracks present on a substrate edge and a cut face can be eliminated by etching without damaging conductors and IC chips, and to provide an electro-optic apparatus and an electronic equipment.例文帳に追加

配線およびＩＣチップを損傷することなく、基板縁および切断面に存在する微小な傷やクラックをエッチングにより消去可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board which can form a circuit consisting of fine wirings strongly bonded on a substrate having excellent smoothness while preventing deterioration of circuit shape in the etching process and can ensure insulation characteristics among the wirings.例文帳に追加

平滑性に優れた基板上に強固に接着された微細配線からなる回路を、エッチング工程での回路形状の悪化を防ぎつつ形成し、かつ配線間の絶縁特性を確保できる、配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing highly pure cupric oxide usable for a plating raw material by a simple process from a deteriorated etching waste liquid containing hydrochloric acid and copper chloride as principal constituents discharged from a manufacturing process of printed wiring boards.例文帳に追加

プリントの配線板の製造工程等において排出される、劣化した塩酸及び塩化銅を主成分とするエッチング廃液からメッキ原料としても使用可能な高純度の酸化第２銅を簡単なプロセスで製造する方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a master disk of an optical disk in which a land pre-pit(LPP) and its adjacent grooves have a shape not affecting reproduced signals when pits and grooves of different depths are formed on the same master disk by using plasma etching and ashing processes.例文帳に追加

プラズマエッチングとアッシングプロセスを用いて、深さが異なるピットとグルーブを同一原盤内に形成する際に、ランドブリピット(LPP)及びその隣接グルーブが再生信号に影響を与えることない形状の光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation film of a semiconductor device, which improves roughness of a trench side wall by implementing a predetermined cleaning process after element isolating trench etching, and forms a uniform side wall oxide film by skipping a PET process.例文帳に追加

素子分離用トレンチエッチング後に所定の洗浄工程を実施してトレンチ側壁の粗さを改善でき、ＰＥＴ工程を省略して均一な側壁酸化膜を形成できる半導体素子の素子分離膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a metal coating having small surface roughness and good smoothness and denseness, additionally, with a good adhesive property and a good etching property to a substrate, a forming method to form the metal coating, and metal wiring pattern-formed with the metal coating.例文帳に追加

表面粗度が小さく、平滑性や緻密性に優れ、しかも、基材への密着性やエッチング性に優れた金属被膜と、前記金属被膜を形成するための形成方法と、前記金属被膜をパターン形成した金属配線とを提供する。 - 特許庁

In the removal process of the semiconductor layer 14, a dry etching method is used so that even an electrode film 19 hidden under a resist 20 can be prevented from being removed, and that any level in difference can be prevented from being generated between the electrode 15 and 16 and the semiconductor layer 14.例文帳に追加

半導体層１４の除去工程では、ドライエッチング法を用いているので、レジスト２０の下に隠れている電極膜１９まで除去されることがなく、電極１５，１６と半導体層１４との間で段差は生じない。 - 特許庁

To prevent the generation of a blur on the surface of a substrate caused by an adhesive agent regarding treatment equipment which contains back-side etching equipment wherein the back of the substrate is etched in constituent, and regarding an adhesive agent eliminating method.例文帳に追加

本発明は基板の背面をエッチング処理するバックサイドエッチング装置を構成要素に含む処理装置及び接着剤除去方法に関し、接着剤に起因して基板表面に曇りが発生するのを防止することを課題とする。 - 特許庁

This method for producing the solid preparation 61 comprises forming a polymer film 41 containing a medicament on a substrate 1, dividing the polymer film 41 by etching to many fine polymer films, and separating the many fine polymer films from the substrate to provide the solid preparation 61.例文帳に追加

基板１上に薬剤を含有する高分子膜４１を形成し、この高分子膜４１をエッチングして複数の微小高分子膜に分割した後、それらの複数の微小高分子膜を基板１から剥離して固形製剤６１を得る。 - 特許庁

In the manufacturing method of this surface heating element, the surface heating element 6 is obtained by removing only the metallic thin foil 1 of the prescribed width along the outer edge of the metallic thin foil 1 which becomes the surface heating element 6 by means of the etching treatment.例文帳に追加

面状発熱体６となる金属薄箔１の外縁に沿った所定巾の金属薄箔１のみを前記エッチング処理により前記基板部２上から除去することで前記面状発熱体６を得る面状発熱体の製造方法。 - 特許庁

To provide a powder for thermal spraying suitable for the formation of a sprayed coating having excellent plasma etching resistance to high output plasma in which plasma output applied to a sprayed coating per unit area is ≥0.8 W/cm^2; and to provide a method for forming the sprayed coating.例文帳に追加

単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a powder for thermal spraying suitable for the formation of a sprayed coating having excellent plasma etching resistance to low output plasma in which plasma output applied to a sprayed coating per unit area is <0.8 W/cm^2; and to provide a method for forming the sprayed coating.例文帳に追加

単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２未満である低出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering hydrofluoric acid from a hydrofluoric acid waste solution exhausted, e.g., from an etching stage for a glass substrate where scaling is not generated, and refined hydrofluoric acid in which impurities are further reduced can be recovered at a high yield.例文帳に追加

ガラス基板のエッチング工程などから排出されたフッ酸廃液からフッ酸を回収する方法であって、スケーリングの発生がなく、不純物の一層少ない精製フッ酸を高い収率で回収できるフッ酸の回収方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask structure for color selection producible by being arranged side by side in n-lines even if the size of the mask structure for color selection slightly exceeds 1/n of effective etching width, to provide its manufacturing method, and to provide a color selection mechanism, and a color cathode-ray tube.例文帳に追加

色選別用マスク構体のサイズが、有効エッチング幅の１／ｎを少々超えても、ｎ列に並べて生産できるようにした、色選別用マスク構体及びその製造方法、色選別機構、カラー陰極線管を提供するものである。 - 特許庁

To provide a particulate sample processing/retaining material for reducing FIB processing time, preventing deformation by ion beams, reducing objects to be etched, reducing the occurrence of contaminants, preventing a decrease in the degree of vacuum, and preventing a decrease in etching precision, and to provide a method and an apparatus for processing the particulate sample processing/retaining material.例文帳に追加

ＦＩＢ加工時間短縮、イオンビームによる変質防止、被エッチング物低減、汚染物発生減少、真空度低下防止、エッチング精度低下防止可能の、微粒子試料加工保持材、その加工方法および加工装置の提供。 - 特許庁

The substrate inspection method includes a step of preparing the substrate provided at its main surface with the plurality of layers, a film forming step, a local etching step (S321), and an inspection step (S323) or a composition analysis step (S322).例文帳に追加

基板検査方法は、主表面上に複数の層が形成された基板を準備する基板準備工程および成膜工程と、局所的なエッチング工程（Ｓ３２１）と、検査工程（Ｓ３２３）または組成分析工程（Ｓ３２２）とを備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor device preventing a side surface (stand-off side surface) of a mounted terminal exposed when a mounted terminal adjacent thereto is separated by etching lead frames from a rear surface, from being contaminated because of oxidation, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リードフレームを裏面からエッチッグして、隣接する実装端子を切り離した際に露出する実装端子側面（スタンドオフ側面）が酸化などによって汚染されることを防止することが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

In the method for grasping the one-line processing quantity by the FIB under the prescribed condition, the sample is processed by performing scanning of a plurality of lines, and the etching size at that time is measured by the microscope length measuring function, and the average processing quantity by one-line scanning is calculated.例文帳に追加

所定条件下のＦＩＢによる１ラインの加工量を把握する方法は複数ラインの走査を行って試料を加工し、その際のエッチング寸法を顕微鏡測長機能で測長し、１ライン走査の平均加工量を算出する。 - 特許庁

The method of ion beam etching includes a step of oppositely disposing a mask member 20 having an opening 21 formed to define the working region of an ITO (indium tin oxide) film 12 on a substrate 10 to be processed, and illuminating an ion beam IB to the ITO film 12 via the mask member 20 to etch the ITO film 12.例文帳に追加

ＩＴＯ膜１２の加工領域を定める開口２１が形成されたマスク部材２０を被処理基板１０上に対向配置し、マスク部材２０を介してＩＴＯ膜１２にイオンビームＩＢを照射しエッチングする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed circuit board that suppresses attachment of a plated film on the surface of the wiring board, without requiring removal of unnecessary plated film by polishing, etching or the like, and having high reliability free from disconnection and a short circuit.例文帳に追加

配線基板の表面にめっき皮膜が付着することを抑制して、研磨やエッチング等によって不要なめっき皮膜を取り除く必要がなく、断線やショート等のない信頼性の高いプリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further comprises a step of forming the layer 6 in a predetermined shaped by wet etching, and a step of removing the end of the layer 10 so that the outer edge of the layer 10 substantially coincides with the outer edge of the uppermost part of the layer 6.例文帳に追加

また、エミッタキャップ層６をウエットエッチングにより所定形状にする工程と、電極層１０の外縁と、エミッタキャップ層６の最上部の外縁とが略一致するように電極層１０の端部を除去する工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a polymer molded body includes a process of dry-etching a polyglycolic acid-containing polymer structure by the use of a power output of 1-6 W and an electric current of 3 mA or less under the degree of vacuum of 50 mTorr or less, and thus forming a recessed part on the above polymer structure.例文帳に追加

ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a patterned magnetic recording medium which has a good pattern shape using a thin etching mask, and can efficiently deactivate the magnetism of a pattern recess while suppressing magnetic deterioration of a pattern projection with less pattern irregularity.例文帳に追加

薄いエッチングマスク厚での加工ながらも加工後のパターン形状がよく、少ないパターン凹凸でパターン凸部の磁性劣化を抑えつつ、効率的にパターン凹部の磁性を失活させることが可能なパターンド磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EMI shield member and the EMI shield member in which a photolithography is not used for the purpose of solving a problem on costs, and a shield layer composed of an etching mesh can be formed at a low cost and simply, and an image display device.例文帳に追加

コスト面での問題を解決するために、フォトリソグラフィーを用いずに、安価で簡便にエッチングメッシュからなるシールド層を形成できるＥＭＩシールド部材の製造方法及びＥＭＩシールド部材並びに画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of non-contactly measuring a surface temperature of a specimen having a light transmitting property without detecting transmitted light of the specimen, and a plasma treatment device using them such as a deposition device and an etching device.例文帳に追加

透光性を有する被測定体の表面温度を非接触で、被測定体の透過光を検出しなくても測定できる方法とその装置、および、それを用いた成膜装置並びにエッチング装置等のプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

In the method, the super-thin line circuit layer can be formed by electrolytic plating without depending on an etching means, and a carrier object and a metal avoiding layer, which are required for forming the super-thin line circuit layer, are removed during a manufacture process or when it is terminated.例文帳に追加

本発明方法においては、電解メッキによりエッチング手段に頼らず超細線回路層を形成することができ、製造工程中或いは終了時に超細線回路層形成に必要なキャリア体、金属阻隔層を除去する。 - 特許庁

To provide a forming method of contacts with a yield ratio improved through prevention of breaking of a conductive part due to rugged parts of a contact hole formed at a resonator with the use of etching, and to provide a resonator structure, and an EL device equipped with the structure.例文帳に追加

共振器にエッチングを用いて形成されたコンタクトホールの凹凸部による、導電部の断線を防止し、歩留まりを向上した、コンタクトの形成方法、共振器構造及びこの共振器構造を備えたＥＬ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing surface acoustic wave element pieces, a surface acoustic wave element piece and a surface acoustic wave device which does not cause the after-corrosion of interdigital electrodes of the surface acoustic wave element piece due to the residue of etching gas.例文帳に追加

弾性表面波素子片のすだれ状電極に、エッチングガスの残留に起因するアフターコロージョンが発生することのない弾性表面波素子片の製造方法および弾性表面波素子片並びに弾性表面波デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a wiring board capable of preventing an etching resist for tenting covering an opening of a through hole from breaking to secure reliability and applying a cheap tenting process although the through hole is irregularly shaped and has a high board thickness and a large diameter.例文帳に追加

高板厚で大径や異形のスルーホールを有していても、スルーホールの開口を覆うテンティング用のエッチングレジストが破れるのを防止して信頼性を確保し、安価なテンティングプロセスの適用が可能な配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A patterning is made on a transparent conductive film laminate, which is made by laminating a transparent film layer of high refraction factor (a) 20 and a transparent metal film layer (b) 30 on a transparent substrate (A) 10, by a dry etching method by sputtering with an inert gas.例文帳に追加

透明基体（Ａ）１０上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）２０及び透明金属薄膜層（ｂ）３０を積層してなる透明導電性膜膜積層体を不活性ガスによるスパッタリングによりドライエッチング法でパターニングを行なう。 - 特許庁

To provide a washing method of a coverslip with a spacer which prevents the stripping of a spacer and the formation of adhesive residue and which is capable of removing the residue at the time of dry etching and the environmental foreign matter.例文帳に追加

固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスを洗浄するにあたり、スペーサの剥がれ、接着剤残りの形成を防ぎ、ドライエッチング時の残渣、環境異物を除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

This method comprises a step for forming a liquid film 134 on a substrate and a step for laser energy irradiation from a laser 10 through the film 134 so as to etch a substrate surface, and an etched material is removed by vaporization of the film from the substrate surface during the etching.例文帳に追加

基板上での液体膜１３４の形成と、基板表面をエッチングするための該膜１３４を通じたレーザ１０からのレーザエネルギ照射を含み、エッチングされた物質は前記エッチングの間に該膜の気化により基板表面から除去される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electro-optical apparatus capable of certainly preventing poor etching of a semiconductor film caused by remaining contaminations, with the capability of certainly removing the contaminations deposited on a substrate in a process of resist trimming.例文帳に追加

レジストをトリミングする工程において基板に付着した異物を確実に除去できることにより、残留した異物による半導体膜のエッチング不良を確実に防止することができる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that, in a method of making an electrode forming unit simply by dry etching in a GaN RHET element, it is difficult to form an electrode with sufficient yield while reducing a contact resistance with a thin base layer as low as possible.例文帳に追加

ＧａＮ系ＲＨＥＴ素子においては、単純にドライエッチングによって電極形成部を作り込むだけの方法ではその薄いベース層に接触抵抗を極力低くしつつ歩留まりよく電極を形成することは困難である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer mask (stencil mask) that reduces a defect of a warpage caused in a transfer mask fabricated by using an SOI wafer due to a compressive stress of an etching stopper layer and has excellent transfer accuracy.例文帳に追加

ＳＯＩウェハを用いて作製される転写マスク（ステンシルマスク）に発生するエッチングストッパ層の圧縮応力に起因した反りという転写マスクの欠陥を低減し、優れた転写精度を有する転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide manufacturing technique which suppresses damage given to an aluminum alloy film as much as possible, and permits the realization of highly reliable element, in reference to the manufacturing method of the element which comprises a process for forming a wiring circuit by etching the aluminum alloy film.例文帳に追加

アルミニウム合金膜をエッチングして配線回路を形成する工程を備える素子の製造方法に関し、アルミニウム合金膜へダメージを与えることを極力抑制し、信頼性の高い素子を実現可能とする製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor devices using a multichamber system of etching facility for manufacturing semiconductor devices, which has effects of increasing a transfer speed of wafers and the like by arranging many process chambers in series in many layers.例文帳に追加

本発明は、多数個の工程チャンバーを多層に直列配置してウェハの移送速度を向上させる等の効果を奏する半導体素子製造用エッチング設備のマルチチャンバーシステムを用いる半導体素子の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an aluminum alloy plate stock for a printing plate where, even if heating treatment time for an aluminum alloy plate is reduced and alkali etching equivalent to pretreatment to roughening treatment is reduced, a roughened face comparable to that in the conventional plate stock can be obtained.例文帳に追加

アルミニウム合金板の加熱処理時間を短縮し、粗面化処理の前処理に相当するアルカリエッチングを短縮しても、従来の素板と同等の粗面化面の得られる印刷版用アルミニウム合金素板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the device consists of using a composite substrate S comprising a semiconductor substrate with a semiconductor layer 206a to be a device forming layer and a supporting substrate 10A bonded together and forming the device from the semiconductor layer 206a, and has a plurality of steps to subject the composite substrate S to wet etching treatment.例文帳に追加

デバイス形成層となる半導体層２０６ａを有した半導体基板と支持基板１０Ａとを貼り合わせてなる複合基板Ｓを用い、半導体層２０６ａからデバイスを形成するデバイスの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method by which the fall of a resist selection ratio can be prevented and, in addition, no damage is given to a low-dielectric constant interlayer insulating film covered with a resist mask and composed of an SiOCH- or SiOC-based material in dry-etching the interlayer insulating film.例文帳に追加

レジストマスクで覆われたＳｉＯＣＨ或いはＳｉＯＣ系材料の低誘電率層間絶縁膜をドライエッチングする場合に、対レジスト選択比が低下することが防止でき、その上、層間絶縁膜にダメージを与えることがないようにする。 - 特許庁

The sealing plate 40 has a base 42 (main body of the sealing plate) where a recess 41 is formed on a glass raw plate made of a no-alkali glass by means of wet etching method, and an anti-reflection film 43 formed on the outer face of the base 42 in the upper part of the base 42.例文帳に追加

封止板４０は、ウェットエッチング法によって無アルカリガラス製のガラス素板から凹部４１が形成されたベース４２（封止板本体）と、ベース４２の上部においてベース４２の外側面に形成された反射防止膜４３とを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor wafer which can manufacture a wafer free from a ring type drop in an outer peripheral part of a wafer, when a wafer subjected to alkali etching is polished, and to provide the wafer free from the ring type drop in the outer peripheral part of the wafer.例文帳に追加

アルカリエッチングを行ったウエーハを研磨するに際し、ウエーハ外周部のリング状のダレのないウエーハを製造することのできる半導体ウエーハの製造方法及びウエーハ外周部のリング状のダレのないウエーハを提供する。 - 特許庁

To provide semiconductor light emission equipment that can be manufactured by simplifying a process without deterioration in the crystallizability of any etching stop layer in the semiconductor light emission equipment where pluralities of semiconductor light-emitting devices are mounted, and to provide a method for manufacturing the semiconductor light emission equipment.例文帳に追加

複数個の半導体発光素子を搭載する半導体発光装置においていずれのエッチングストップ層の結晶性を悪化させることなく工程を簡略化して製造可能である半導体発光装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁