「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(118ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photoresists removing solution excellent in ability to remove residue such as a degenerated photoresist film produced after ashing and residue on etching (metal deposition) and excellent in property of preventing the corrosion of a substrate in rising with water and to provide a method for removing a photoresist using the removing solution.例文帳に追加

アッシング処理後に生じるホトレジスト変質膜、エッチング残渣物（金属デポジション）等の残渣物の剥離性に優れ、かつ、水でのリンス処理時、基板の防食性に優れるホトレジスト用剥離液およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

The through hole patterns 10A are formed on a surface side and a back side of each metallic thin film 10 successively via steps of forming photoresist film, of drawing patterns by the laser direct exposure method, of developing a photoresist film, of performing the etching, of peeling the photoresist film, and of water-rinsing and drying.例文帳に追加

透過孔パターン１０Ａは、金属薄膜１０の表面側および裏面側に、フォトレジスト膜の形成、レーザダイレクト露光法によるパターンの描画、フォトレジスト膜の現像、エッチング、フォトレジスト膜の剥離、水洗乾燥の工程をこの順に経て形成する。 - 特許庁

To provide a hair clipper equipped with a cutting blade unit which shows a drastic increase in the structural strength of a metal blade body of a fixed blade (or a movable blade) being formed by the etching method and prevents the metal blade body from being warp-deformed at the time of use to constantly demonstrate a sharp cutting performance.例文帳に追加

エッチング法で形成される固定刃（または可動刃）の金属刃体の構造強度を格段に向上して、使用時における金属刃体のたわみ変形を阻止し、常に鋭い切れ味を発揮できる切断刃ユニットを備えたバリカンを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the piezoelectric device comprises the steps of opening a window in a triangular shape on the main surface of a crystal plate to form a protective film, then melting the window part through wet etching, thinning the window part to process into recessed shape, and processing so that a thin plate is in the triangular shape as seen from the main surface.例文帳に追加

水晶の板の主面に三角形の形状で窓を開けて保護膜を形成した後、ウエットエッチングすることで窓の部分が溶解され薄板化し凹形状に加工し、薄板部が主面より見て三角形であるよう加工する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plastic optical waveguide which can manufacture a core part easily without generating cracks on both sides of the core and which can manufacture an optical waveguide in which an optical transmission loss value is stable and which has a low optical transmission loss in core formation by RIE (Reactive Ion Etching) while using a heat resistive resin.例文帳に追加

耐熱性樹脂を用いながら、ＲＩＥによるコア形成において、コア部の両サイドにクラックを生じないでコア部を設計通りに容易に作製でき、光損失値が安定した低損失な光導波路作製法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an etching device where, in particular, the depths of a plurality of recessed parts formed on the surface of a substrate can be individually controlled, and the degree of freedom in the shape of the recessed parts can be increased, to provide a substrate, to provide a method for producing the same, to provide a die, and to provide a molded article.例文帳に追加

特に、基板の表面に形成される複数の凹部の深さを個別に制御でき、凹部形状の自由度を高めることが可能なエッチング装置、基板、基板の製造方法、型、ならびに成型品を提供することを目的としている。 - 特許庁

This method, wherein a ZnSe substrate 1 is placed on a silicon wafer 2 and then etched, comprises a step of placing the ZnSe substrate 1 on the silicon wafer 2 with grease 11 sandwiched in between; and a step of ion- etching the ZnSe substrate 1.例文帳に追加

ＺｎＳｅ基板１をシリコンウエハ２上に置いてエッチングする方法であって、ＺｎＳｅ基板１とシリコンウエハ２との間にグリース１１を挟み込んで、ＺｎＳｅ基板をシリコンウエハ２に配置する工程と、ＺｎＳｅ基板をイオンでエッチングする工程とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board by the electrophotographic process includes the steps of using a liquid developer made of resin particles by positive type photosensitive polymer, and performing overall surface light emitting substantially immediately before an etching process or/and a resist stripping process.例文帳に追加

ポジ型の感光性高分子による樹脂粒子から成る液体現像剤を使用し、エッチング処理または／及びレジスト剥離処理の略直前に全面光照射を行う電子写真法によるプリント配線板の製造方法によって達成される。 - 特許庁

This method for making a sample comprises thinning a sample piece 2 that becomes the transmission electron microscopic sample, forming a pattern by a photo resist 3 followed by etching, and polishing a formed etched part 4 by an ion milling device to form an observation part 5.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡観察用の試料となる試料片２を薄片化した後、フォトレジスト３でパターンを形成して、エッチングを行い、形成されたエッチング部４にイオンミリング装置による研磨を行って観察部５を形成する試料作製方法である。 - 特許庁

To provide a method and/or TMBS [trench MOS (metal oxide semiconductor) barrier Schottky] device by and/or in which edge leak due to etching is reduced, wherein in the TMBS device, polysilicon is formed in trenches and a contacting metal is connected to a surface between adjacent trenches.例文帳に追加

トレンチ金属酸化物半導体（ＭＯＳ）バリアショットキー（ＴＭＢＳ）デバイスでは、トレンチ内にポリシリコンが形成され、隣接するトレンチ間の表面とは、金属コンタクトで接続され、エッチングに起因するエッジリークを低減する方法及び／又は装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming metal wiring of a favorable sectional configuration with no undercut by side-etching, without affecting the characteristic of a semiconductor device even with a wiring part occupying area far smaller than the area of the semiconductor device.例文帳に追加

配線部の占有面積が半導体装置の面積に比べ非常に小さい場合においても半導体装置の特性に影響を与えることなく、サイドエッチなどによるアンダーカットなどの無い、良好な断面形状を有する金属配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device provided with a stacked type capacitor, a contact 18 (accumulated node contact) is formed by a material, having a selection ratio of wet etching which is higher than that of a capacitor lower electrode 21a.例文帳に追加

スタック型キャパシタを備えた半導体装置の製造方法であって、前記キャパシタ下部電極２１ａよりウエットエッチングにおける選択比が高い材料でコンタクト（蓄積ノードコンタクト）１８を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The method of cleaning the metallic surfaces to make the stable application of the gold plating for protecting the copper wiring possible by subjecting the insulation layer to plasma cleaning after wet etching thereof in a manufacturing process step for the suspension blanks with wiring for the hard disks is established.例文帳に追加

本発明は、ハードディスク用配線付きサスペンションブランクの製造工程において、絶縁層のウェットエッチング後にプラズマクリーニングを行うことで、銅配線保護の金メッキを安定的に施すことを可能にする、金属表面清浄化方法を確立したものである。 - 特許庁

The method includes a step of forming the alignment film on a substrate having an electrode pad at a position corresponding to a transfer electrode for applying a voltage to a common electrode, and a step of locally etching the alignment film to expose the electrode pad without using a mask pattern.例文帳に追加

共通電極に電圧を印加するトランスファ電極に対応する電極パッドを備える基板上に配向膜を形成する段階と、前記電極パッドを露出させるようにマスクパターンを用いずに前記配向膜をエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

After sequentially forming a main pole layer 21a and an STO layered body layer 11a, unnecessary materials are removed until reaching a base body by an ion beam etching method using a single mask 44 for demarcating the range of an STO layered body 11 and a main magnetic pole 21.例文帳に追加

主磁極層２１ａとＳＴＯ積層体層１１ａとを順次成膜したのち、ＳＴＯ積層体１１および主磁極２１の範囲を画定するための単一のマスク４４を用いたイオンビームエッチング法により、基体に至るまで不要な材料を除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing copper foil by which the crystal grains of electrolytic copper foil having granular crystals are controlled, and the surface of the electrolytic copper foil is subjected to etching roughening, thereby the adhesion of the copper foil with a resin is increased, and to provide a printed wiring board using the copper foil.例文帳に追加

粒状晶を有する電解銅箔の結晶粒を制御し、該電解銅箔の表面をエッチング粗化することで樹脂との密着力を増大させる銅箔の製造方法を提供し、該銅箔を使用したプリント配線板を提供する。 - 特許庁

By this method, the distortion occurring in the reed screen type part of the thin metal sheet with the slit type apertures manufactured by the photo-etching process can be corrected, which enables elimination of rejection to be disposed and improvement of the manufacturing yield.例文帳に追加

この方法を用いることにより、フォトエッチング法にて製造されたスリット状の開口部を有する金属製薄板の簾部分に発生した変形を修正することができ、今まで廃棄していた不良品を無くして製造の歩留りを上げることができる。 - 特許庁

To provide a construction and a manufacturing method, wherein an etching margin is assured when a connection hole is formed in an active layer of a thin-film transistor, the controllability of ion implantation is improved in the depth direction, and further the crystal defects and distortion are eliminated in a channel region.例文帳に追加

薄膜トランジスタの活性層上に接続孔を形成する際のエッチングマージンが確保し、イオン注入での深さ方向の制御性を良くし、さらにチャネル領域の結晶欠陥や歪みを解消する構成および製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for selectively anisotropically etching a silicon nitride film with respect to a silicon oxide film, a polysilicon film and a silicon, the temperature of a substrate is kept at 10°C or below, and a mixed gas of a compound gas, containing fluorine, carbon and hydrogen, and a carbon monoxide (CO) is used as a reaction gas.例文帳に追加

シリコン窒化膜をシリコン酸化膜、ポリシリコン膜、シリコンに対して選択的に異方性エッチングする方法において、基板温度を１０℃以下とし、フッ素、炭素及び水素を含む化合物気体と一酸化炭素（ＣＯ）との混合ガスを反応ガスとして使用する。 - 特許庁

This method comprises: a process of coating an element isolation region and at least a part of an element region adjacent to the element isolation region by a resist layer; and a process of completely removing the oxide film on the source and drain regions and on the gate electrode by acidification or anisotropic etching.例文帳に追加

素子分離領域及び少なくとも素子分離領域に隣接した素子領域をレジスト層で覆う工程と、ソース、ドレイン領域及びゲート電極上の前記酸化膜を酸処理及び異方性エッチングにより完全に除去する工程を有する。 - 特許庁

In addition, the method includes the process of forming a first recessed part by laser processing in a region in which at least a region in which the beam 19 is formed in the face to be etched is excluded, and has the process of performing a first wet etching from the face to be etched to the silicon substrate.例文帳に追加

さらに、被エッチング面のうち梁１９を形成する領域を少なくとも除いた領域に、レーザー加工によって第１の凹部を形成する工程と、シリコン基板に対して、被エッチング面から第１のウエットエッチングを行う工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a zinc oxide based transparent conductive film forming material, capable of being used for a target for forming a transparent conductive film which has weather resistance while maintaining conductivity sufficient for practical use, and has an appropriate etching rate in patterning.例文帳に追加

実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a solar cell is characterized in that an insulating film is formed on the surface of a silicon substrate, a plurality of holes are formed in the surface of the insulating film by a wet etching and then, a diffusion layer is formed in the surface of the silicon substrate via these holes.例文帳に追加

シリコン基板の表面に絶縁膜を形成し、ウェットエッチングにより絶縁膜の表面に複数の穴を形成し、次いで、それらの穴を介してシリコン基板の表面に拡散層を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法。 - 特許庁

To provide a photomask which prevents the degradation in pattern accuracy during etching by a difference in aperture ratios from appearing at a chip pattern 11 by improving the unbalance of the aperture ratios between the peripheral region of the chip pattern 11 and the central part of the chip pattern 11 and a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

チップパターン１１の周辺領域とチップパターン１１の中央部との開口率の不均衡を改善し、開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターン１１に現れることのないフォトマスク及びフォトマスク製造方法を提供する - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for shortening the time until start of process of the next processing work after start of process of the first processing work in the process to form a recessed area or a through-hole to the processing work, and also to provide a processing method of a processing work.例文帳に追加

被加工物に凹部又は貫通孔を形成する工程において、第１の被加工物の加工を開始してから次の被加工物の加工を開始するまでの時間を短くする事ができるドライエッチング装置及び被加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device forms a mesa composed of a plurality of trenches by etching an active region of a semiconductor substrate 3 including a first heavily doped region of a first conductivity type and a second lightly doped region of a second conductivity type.例文帳に追加

半導体ディバイスの製造方法は、強くドープされた第１導電率形の第１領域と、弱くドープされた第２導電率形の第２領域とを含む半導体基板３の作動領域をエッチングして複数個の溝からなるメサを形成する。 - 特許庁

In the method for producing a photomask, a photosensitive resin is disposed on the resulting photomask blank comprising the glass substrate and the electrically conductive light shielding film formed on the whole surface of one side of the substrate and exposure with an electron beam exposure system, development and etching are carried out.例文帳に追加

また、ガラス基板とその片面の表面全面に導電性遮光膜が設けられているフォトマスクブランクの上に感光性樹脂を載せ、電子ビーム露光装置により露光、現像、エッチングする事を特徴とするフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing a PDP comprises a process for forming a constitutent element of PDP by transferring the inorganic particle-containing resin layer constituting the transfer film to a substrate, subjecting the inorganic particle- containing resin layer to etching treatment and baking treatment.例文帳に追加

本発明のＰＤＰの製造方法は、上記の転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写し、無機粒子含有樹脂層をエッチング処理および焼成処理することにより、ＰＤＰの構成要素を形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of easily processing shapes different in etching depth on a same surface without inducing a defect (group V atomic vacancy) by desorption of a constituent atom of a semiconductor and causing degradation of a surface morphology.例文帳に追加

半導体の構成原子の脱離による欠陥（Ｖ族原子空格子）の誘起または表面モフォロジーの劣化を生じさせずに、同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a laminate having a patterned metal film excellent in adhesion and in insulation properties between patterned metal films capable of easily performing plasma etching treatment of a plated layer.例文帳に追加

本発明は、被めっき層のプラズマエッチング処理を容易に実施することができる共に、密着性に優れたパターン状金属膜を有し、パターン状金属膜間の絶縁性に優れるパターン状金属膜を有する積層体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the grooved bar manufactures the grooved bar 11 having grooves 23 formed on the surface of a bar material 8 and includes a step of cutting and etching the surface of the material 8 by combining them, thereby forming the grooves 23.例文帳に追加

本発明に係る溝付条の製造方法は、条材８の表面に溝部２３が形成された溝付条１１を製造する方法であり、条材８の表面に切削加工とエッチング加工を組み合わせて施し、溝部２３の形成を行うものである。 - 特許庁

The manufacturing method uses a low-cost process step and a wet chemical etching step at a mainframe, and the SPM sensor which is provided with the rectangular cantilever having the tip protruding or not protruding from the free end part is manufactured from a single object.例文帳に追加

本製造法は費用のかからないプロセスステップ、大体において湿式化学エッチングステップを利用し、その結果自由端部より突出しまたは突出しないチップを持つ矩形片持ちばりを備えたＳＰＭセンサーを単一物から製造することを可能にする。 - 特許庁

The method includes steps of: obtaining data representing the plurality of features; and forming at least one of the plurality of features by etching a substrate to form a mesa and depositing a chrome layer over the entire upper surface of the mesa; where the mesa has a predetermined height.例文帳に追加

この方法は、複数の特徴を表すデータを取得するステップと、基板をエッチングしてメサを形成し、当該メサの全上面にクロム層を設けることで複数の特徴の少なくとも１つを形成するステップとを含み、前記メサが所定高さを持つ。 - 特許庁

To provide a composition for semiconductor cleaning with which side wall deposits and resist residues can be cleaned and removed without damaging, for example, etching an aluminum alloy wiring layer, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device using the composition for semiconductor cleaning.例文帳に追加

アルミニウム合金配線層にエッチングなどのダメージを与えることなく、側壁堆積物やレジスト残渣を洗浄除去できる半導体洗浄用組成物並びに、その半導体洗浄用組成物を用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial growth method of semiconductor element in which a uniform shape can be formed epitaxially by preventing etching damage of a silicon peripheral insulation film being grown in the surface treatment process of a semiconductor substrate for SEG process.例文帳に追加

ＳＥＧ工程のための半導体基板の表面処理工程において成長させるシリコン周辺絶縁膜のエッチング損傷を防止することにより、均一な形状のエピチャネルを形成し得る半導体素子のエピチャネル形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of performing uniform etching treatment without damaging a connection terminal when forming the connection terminal capable of wiring and connecting semiconductor chips, and to provide the semiconductor, a circuit board, and electronic equipment.例文帳に追加

半導体チップ間などを配線接続することができる接続端子を形成するときに、かかる接続端子にダメージを与えずに均一なエッチング処理することができる半導体装置の製造方法、半導体装置、回路基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-curing resin composition made of a polymerizable compound having an ester bond hardly to hydrolyze even in an acidic high-temperature water solution, and a manufacturing method of a shadow mask in which an etching can efficiently perform to produce the shadow mask with high quality.例文帳に追加

酸性高温水溶液中でも、エステル結合が加水分解し難い重合性化合物を含有する紫外線硬化型樹脂組成物、および効率的にエッチングでき且つ高品質のシャドウマスクを製造できるシャドウマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In an amorphous laminate core processing method for cutting out a prescribed core shape by the wire discharge processing of a laminate of amorphous thin plates to which insulating resins are applied and then etching the cut surface, the wire discharge processing is performed in water.例文帳に追加

本発明は、絶縁性樹脂を塗布したアモルファス薄板の積層体をワイヤ放電加工して所定コア形状に切断した後、切断面をエッチング処理するアモルファス積層コアの加工方法であって、ワイヤ放電加工を水中で行うことを特徴としている。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics, the resolution and dry etching resistance of an isolated pattern and enables a pattern of good configuration to be formed, and to provide a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the required amount of a flocculant to be added, reduce the volume of generated sludge, reduce the water content of sludge and improve dewaterability, and stabilize the quality of treated water in a method for solid-liquid separation of silica (SiO_2) precipitated by adding an acid to wastewater from silicon wafer etching.例文帳に追加

シリコンウエハエッチング排水に酸を添加して析出したシリカ（ＳｉＯ_２）を固液分離する方法において、凝集剤の必要添加量の低減、発生汚泥の減溶化、汚泥含水率の低減と脱水性の向上、処理水質の安定化を図る。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A trapezoidal trench is formed on the surface of a semiconductor substrate by using a LOCOS method and wet etching, and a lower electrode layer 5 is formed on the surface of the trapezoidal trench, and a capacitance insulating film 6 and an upper electrode 7 are laminated in this order over the lower electrode layer.例文帳に追加

半導体基板の表面にＬＯＣＯＳ法およびウェットエッチングを用いて台形状トレンチを設け、台形状トレンチ表面に下部電極層５を形成し、下部電極層の上に容量絶縁膜６と上部電極７を順次積層する。 - 特許庁

After a photosensitive resin pattern is formed on a copper seed film on an insulating substrate and a buried wiring pattern of copper is formed at an opening part thereof, a peak part and a side face part of the buried wiring pattern are exposed from the photosensitive resin film through selective etching by a wet blast method.例文帳に追加

絶縁基板上に銅シード膜上に感光樹脂パターンを形成し、その開口部へ銅の埋め込み配線パターンを形成した後、ウエットブラスト法での選択的エッチングで、埋め込み配線パターンの頂部及び側面部を感光性樹脂膜から露出させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a capacitor preventing that an electrode support film may be removed and fall off or be contracted to lead a lower electrode to collapse even when solution etching is used to form the lower electrode of a crown structure, involving simple processes, and suppressing an increase of a process cost.例文帳に追加

クラウン構造の下部電極形成に溶液エッチングを用いても電極支持膜が剥離脱落したり、収縮して下部電極が倒壊することを抑制し、工程が簡略であり、プロセスコストの増大を抑えたキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device capable of preventing light extraction efficiency from being degraded while securing an excellent bondability by subjecting a p-clad layer located on a surface layer to wet etching according to a mask pattern, and to provide a light-emitting device.例文帳に追加

表面層に位置するｐクラッド層がマスクパターンに準じてウェットエッチングされることで、良好なボンディング性を確保しつつ、光取り出し効率を低下させることを防止することができる発光装置の製造方法および発光装置を提供する。 - 特許庁