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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > fine processingに関連した英語例文

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fine processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 892



例文

To reproduce the fine projected and recessed form of an optical object by clear color contrast as needed by an image processing without depending on an actual pigment endoscope inspection method.例文帳に追加

電子内視鏡において、実際の色素内視鏡検査法に依らないで、光学的被写体の微妙な凹凸形態を画像処理により必要に応じて明瞭な色コントラストで再現し得るようにする。 - 特許庁

To provide a signal processor capable of keeping a sound volume constant and controlling the adjustment of attack time and release time at fine timing without inviting the increase of the area of a signal processing system circuit.例文帳に追加

信号処理システム回路の面積の増加を招くことなく、音量を一定に保ち、かつ、アタックタイム及びリリースタイムの調整を細かなタイミングで制御することができる信号処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing circuit 23 segments a pseudo-sine wave signal after digital conversion, and detects a rotational quantity (rotation angle) of a motor at fine resolution compared with a period of the pseudo-sine wave signal.例文帳に追加

処理回路23は、ディジタル変換後の疑似正弦波信号に対して細分化処理を施し、モータの回転量(回転角)を疑似正弦波信号の周期より細かい分解能で検出する。 - 特許庁

To provide a polyimide/metal laminate having an increased wet etching speed, enabling the fine processing of a polyimide and capable of being enhanced in productivity, and a suspension for a hard disk manufactured from it.例文帳に追加

ウェットエッチング速度が向上し、ポリイミドの微細加工を可能とし、且つ生産性を向上させることが可能なポリイミド金属積層体、およびそれから製造されるハードディスク用サスペンションを提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a process for preparing a base polymeric compound for a resist material having high transparency and good resist performance for fine processing required for semiconductor production.例文帳に追加

本発明の目的は半導体製造で要求されている微細加工に対して、高い透明性と良好なレジスト性能を持つレジスト材料のベース高分子化合物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁


例文

To obtain a spun yarn for weaving a soft and bulky textile product of cotton with a knitting yarn having excellent weaving and processing properties, and a spun yarn which is efficiently spun by an air fine spinning frame.例文帳に追加

編み立て加工性の良い編糸によってソフトでボリューム感のある綿の繊維製品を編成可能とする紡績糸であって空気精紡機で効率よく紡出できる紡績糸を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayered flexible printed board having an interlayer connection between wiring layers that is of high reliability, is suitable for ultra fine processing of the wiring layers, and is excellent in productivity.例文帳に追加

接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる配線層間の層間接続を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A fine adjustment is also made in the shape of minimizing an evil caused by its speed difference while admitting a very small speed difference generated between the respective carrier rollers in the speed adjusting processing.例文帳に追加

さらに、速度調整処理における各搬送ローラ間で発生する微小な速度差は容認しつつ、その速度差に伴う弊害を可及的に少なくするような形で微調整を行う。 - 特許庁

An individual article is optically read by a scanner or the like, and distribution position information of the fine grains is extracted by applying a predetermined image processing and is stored in a storage part 102 as reference feature point data.例文帳に追加

また個々の物品をスキャナ等により光学的に読取り、所定の画像処理を施して微細物質の分布位置情報を抽出し、基準特徴点データとして記憶部102に記憶しておく。 - 特許庁

例文

To provide an apparatus and a method for the development of a substrate wherein it is possible to prevent very fine deposits from remaining on the substrate after a processing operation, especially on an open frame for the substrate or on a pattern formation region.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

例文

Article 80-2 When a violation listed in any of the following items has been committed, the officers or personnel of the designated information processing organization that has committed the violation shall be punished by a fine of not more than five hundred thousand yen: 例文帳に追加

第八十条の二 次の各号のいずれかに掲げる違反があつた場合には、その違反行為をした指定情報処理機関の役員又は職員は、五十万円以下の罰金に処する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The processing of the fine place to be analyzed of the sample 1 is simple and the sample piece 1A preventing the occurrence of burr or a new peeling surface can be exacted without applying an excessive force to the sample 1.例文帳に追加

試料1の微小な分析対象箇所の加工が簡易であり、試料1に余分な力を加えずに、バリや新たな剥離面の発生を生じない試料片1Aを抽出することができる。 - 特許庁

At a position where the dielectric fine particles in the gap approach or contact the film to be processed, an electric potential gradient becomes steep and activation energy is concentrated on the position to progress removal processing.例文帳に追加

ギャップ中の誘電体微粒子が被加工対象膜に近接、または接触した箇所の電位勾配が急峻となり、その部分に活性化エネルギーが集中して除去加工が進行する。 - 特許庁

To provide a method for finely processing a glass substrate where recessed parts are formed on the surface of the glass substrate and a fine recessed and projecting pattern being highly accurate and having a high aspect ratio can be easily formed and to provide the glass substrate having the recessed and projecting pattern.例文帳に追加

ガラス基板表面に凹部を形成し、高精度で高アスペクト比の微細な凹凸部パターンを容易に形成できる微細加工方法および凹凸部パターンを有するガラス基板を提供する。 - 特許庁

The sizes of the image data can also be different from one another; and even if image compressibility ratios are different from one another, the fine printing with the excellent printing quality can be done by similarly performing sorting processing.例文帳に追加

また、画像データはサイズが異なる場合であってもよく、また画像圧縮率が異なる場合であっても、同様に区分け処理を行い、綺麗で印字品質の優れた印刷を行うことができる。 - 特許庁

To provide a highly integrated device by manufacturing the device using an organic substance independent of crystallinity even when subjected to fine processing of below 0.1 micron associated with the advance of the high density of devices.例文帳に追加

デバイスの高密化が進展し、0.1ミクロン以下の微細加工がなされても、結晶性に左右されない有機物を用いたデバイスを作製することで、高集積化されたデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can prevent production of a defect in a substrate even when the resist film is made thinner in forming a fine pattern of a semiconductor substrate or the like and by which high accuracy processing of a substrate is performed.例文帳に追加

半導体基板等の微細パタン形成において、レジスト膜の薄膜化を一層進めても、基板の欠陥形成を防止でき、高精度に基板加工できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The brush is formed into a structure capable of removing even fine hair, by vertically and horizontally processing an angle of the branch bristle 3 and the branch bristle 4.例文帳に追加

なお、使用する目的によって枝ブリッスル(3)のみでも良く、また、枝ブリッスル(3)並びに枝ブリッスル(4)角度を上下、水平に加工する事により、細かい毛まで取り除く事ができる構造とした。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a grid polarizer manufacturing method with which a large-sized grid polarizer having the grid shaped pattern of submicron order can be economically manufactured by precise fine processing and vapor deposition.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの格子形状を有するグリッド偏光子を、精密微細加工及び蒸着により大面積で経済的に製造することができるグリッド偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce power consumption in an apparatus for processing information effectively by performing fine control of clock frequency depending on the receiving state of information.例文帳に追加

情報を受信した際の受信状況に応じてきめ細かなクロック周波数の制御を行うことにより、当該情報を処理する機器における消費電力を、効果的に削減することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new forming method of a high-temperature superconducting Josephson junction wherein the formation of the Josephson junction having a highly excellent characteristic is realized simply and rapidly without requiring an expensive fine-processing apparatus.例文帳に追加

高価な微細加工装置を必要とせず、簡便かつ迅速に高い特性を持つジョセフソン接合の形成を実現する新たな高温超伝導ジョセフソン接合形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine processing pattern with high position precision without using a photomask, typically, a method relating to a contact opening in the process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

フォトマスクを使用することなく、微細な加工パターンを高い位置精度で形成する方法、代表的には半導体装置を製造する工程の中でのコンタクト開口に関する方法を提示する。 - 特許庁

To provide a resin for a radiation-sensitive material having excellent transparency and high sensitivity to far ultraviolet rays, further having good adhesion to a substrate, and etching resistance, and enabling fine pattern processing.例文帳に追加

遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyester resin composition having an excellent mold releasability at the time of processing and enabling to form a calender sheet having fine transparency.例文帳に追加

カレンダー加工する際のロールからのシートの離型性が良好であり、かつ、出来上がったシートの透明性が良好である優れた品質のカレンダーシート加工を可能にするポリエステル樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

By the above mechanism, a processing by using an ion beam, and observation of secondary electron image in optional direction through an electron microscope are made possible without taking out a fine piece of sample from the sample stand.例文帳に追加

このような構成によれば、微小試料片を試料台から取り外すことなく、イオンビームによる加工および任意の方向からの二次電子像および電子顕微鏡観察が可能となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of manufacturing a semiconductor device having fine pitch electrodes, and including a process for testing a number of semiconductor devices in a batch processing.例文帳に追加

ファインピッチの電極を有する半導体デバイスの製造が可能であり,多数の半導体デバイスを一括して試験することが可能な工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for processing a single gene into a uniform, fine nanoparticle and coating the same with a lipid membrane as a gene transfer technology that supports gene therapy or innovative therapies in regenerative medicine.例文帳に追加

遺伝子治療や再生医療の革新的治療法を支える遺伝子導入技術として、一遺伝子を均一かつ微小なナノ粒子としそれを脂質膜でコーティングする技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for decreasing the friction of the surface of a crosslinked rubber without damaging the crosslinked rubber by easily forming a fine unevenness on the surface of the crosslinked rubber by a conventional rubber processing procedure.例文帳に追加

架橋ゴムにダメージを与えることなく、通常のゴム成形の操作で容易に架橋ゴム表面に微細凹凸構造を形成せしめて、架橋ゴム表面を低摩擦化しうる方法を提供する。 - 特許庁

An article to be identified is read in the same manner as that in the above-described reading, and distribution position information (object feature point data) of the fine grains is extracted by applying the same image processing.例文帳に追加

識別対象となる物品を上述の読取りの際と同様の手法で読取り、同様の画像処理を施して微細物質の分布位置情報(対象物特徴点データ)を抽出する。 - 特許庁

The suede tone processing to form fine asperity is applied to the surface of the garnish 1 constituting an opening seal part 14 of a weather strip 10 for an automobile by means of shotblasting, buffing, or crimp roller processing, and patterns such as crimp patterns are formed by irradiating the surface of the decoration 1 after the suede tone processing with a laser beam 501.例文帳に追加

自動車用ウェザーストリップ10のオープニングシール部14を構成する装飾体1の表面に、ショットブラスト処理、バフ掛け処理、又はシボローラー処理により、微細な凹凸を形成するスエード調加工処理を施し、スエード調加工処理後の装飾体1の表面にレーザー光501を照射することによりシボ模様等の模様を形成する。 - 特許庁

This method materializes highly accurate converged ion beam processing in a relatively short time, by executing the position correction work at relatively long intervals in the case of processing not requiring accuracy thereby omitting not efficient position correcting work, though this executes the position correction work by check of a reference mark at short intervals thereby performing highly accurate processing in a fine processing requiring accuracy.例文帳に追加

本発明は、精度を要求される微細な加工の際には参照マーク確認による位置補正作業を短い時間間隔で実行して高精度の加工を行うが、精度を要求されない加工の場合には位置補正作業を長い時間間隔で実行し、効率の悪い位置補正作業を省略することで、無駄時間をなくし比較的短時間で高精度の集束イオンビーム加工を実現するものである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, or the like capable of preventing a functional module from being adversely affected by fine particles and corrosive gas generated when a processed substrate comes into contact with the atmosphere; in the substrate processing apparatus having a processing vessel for processing the substrate, an atmosphere conveyance chamber, and the functional module installed on the conveyance path of the substrate by a conveyance means in the atmosphere conveyance chamber.例文帳に追加

基板に対して処理を行う処理容器と大気搬送室と大気搬送室内の搬送手段による基板の搬送経路上に設置された機能モジュールとを備えた基板処理装置において、処理後の基板が大気に接することにより生じる微粒子や腐食性のガスによって機能モジュールが悪影響を受けないようにすることが可能な基板処理装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

A vehicle painted face inspection device is provided with an image pick-up device, and an image processing means for detecting automatically a fine defect generated on a vehicular painted face, based on a change in an image signal therefrom, and for preparing a two-dimensional defect position data projected with the fine defective position on a two-dimensional horizontal or vertical projection face.例文帳に追加

車両塗面検査装置は、撮像装置と、その画像信号の変化から車両塗面に生じている微小欠陥を自動的に検知して、この微小欠陥位置を水平もしくは垂直の二次元投影面に投影した二次元の欠陥位置データを作成する画像処理手段とを備える。 - 特許庁

In a primary processing step of the fluid polishing method in which a slurry (7) is supplied by supply devices (2a, 2b) to polish a fine hole on a workpiece (5), the supply devices are stopped before a predetermined fine hole is processed, and a first operating fluid flow rate (Q1) at this time is measured.例文帳に追加

スラリー(7)を供給装置(2a,2b)によりに供給して、工作物(5)に微小孔を研磨加工する流体研磨加工方法の1次加工工程においては、所定の微小孔を加工する前の段階で供給装置を停止し、この時点の第1の作動流体流量(Q1)を計測する。 - 特許庁

To provide an analyzer capable of collectively performing the analysis of a sample and the recording of analyzed data using one disc-like inspection disc and capable of performing analytic processing at a high speed by a compact constitution using fine wells within an arbitrary range among a large number of the fine wells formed to one inspection substrate.例文帳に追加

円板状の1枚の検査ディスクを用いて試料の分析と分析データの記録とを統括的に行うことが出来るとともに、1枚の検査基板に微細なウェルを多数形成し、これらのうち任意の範囲のウェルを使用してコンパクトな構成で高速に分析処理を行うことのできる分析装置を提供する。 - 特許庁

The fixed mold 2 of a mold 1 for molding, for example, the light guide plate of a liquid crystal display is constituted by fixedly attaching the stamper 6, which is formed into a thin plate shape with a thickness of 1 mm, for example, by electroforming processing and has a fine pattern wherein the fine pattern on the surface of a molded article is reversed, to a fixing stand 7.例文帳に追加

例えば液晶ディスプレイの導光板を成形するための金型1のうち固定型2を、電鋳加工により例えば1mmの薄板状をなし、その表面成型品の表面の微細パターンを反転した微細パターンが形成されたスタンパ6を、固定台7に固定的に取付けて構成する。 - 特許庁

At the processing of a film 3 of the flux residue between electrodes 2 and 2 in the electronic circuit board 1, which are mounted as components by soldering, by using flux, where water is made to be a base material, the fine grains of water are made to deposit onto the electronic circuit board 1, the flux residue is dissolved in the fine grains of water, and flux aqueous solution is obtained.例文帳に追加

水を基材としたフラックスを用い、半田付けによって部品実装された電子回路基板1の電極2,2間のフラックス残渣の被膜3を処理する際に、上記電子回路基板1上に水の微粒子を付着させ、この水の微粒子にフラックス残渣を溶解させてフラックス水溶液とする。 - 特許庁

To provide a solid-liquid separation method for a slurry material in which secure solid-liquid separation is carried out without flowing out from a gap between processing parts even if a solid component is fine and has a hardly entwined shape such as honing sludge, a fine liquid component can be recovered, and complicated maintenance such as filter replacement is not required; and an apparatus.例文帳に追加

ホーニングスラッジ等のように、固体成分が細かなものや、絡み難い形状のものであっても、加工部の隙間から流出することなく、確実な固液分離が行えて、綺麗な液体成分が回収でき、またフィルタ交換等の煩雑な保守が不要なスラリー状体の固液分離方法および装置を提供する。 - 特許庁

The toner for image formation is constructed by adding inorganic fine particles to a toner mother particle comprising at least a binder resin and a coloring agent from the outside, wherein the inorganic fine particles A having 50% or less coefficient of variation of volume distribution in particle size distribution are made to adhere to the toner mother particle via wet processing.例文帳に追加

少なくとも結着樹脂、着色剤からなるトナー母体粒子に無機微粒子を外添させてなる画像形成用トナーであって、前記トナー母体粒子に、粒度分布における体積分布の変動係数が50%以下の無機微粒子Aを湿式処理により付着してなる画像形成用トナーである。 - 特許庁

This cross-linked resin aqueous dispersion for processing fibers contains acrylic copolymer fine particles comprising the emulsion copolymer of a specific monomer group containing ethyl acrylate as a main monomer component, wherein the acrylic copolymer fine particles are at least partially crosslinked in the particles.例文帳に追加

主単量体成分としてエチルアクリレートを含む特定の単量体群の乳化共重合体により構成されるアクリル系共重合体微粒子であって、その少なくとも一部が粒子内架橋されている共重合体微粒子を含有してなる繊維加工用架橋型樹脂水性分散液。 - 特許庁

To provide a processing apparatus of a lithographic plate for developing lithography, having photosensitivity and thermal sensitivity, using a highly fine screen in image exposure, without generating image defects, such as treatment irregularities over a long period of time, and to provide a processing method of the lithographic plate.例文帳に追加

画像露光に於いて高精細スクリーンを用いる感光性又は感熱性を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる、平版印刷版の処理装置及び平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁

When a through-hole is formed using laser such as UV-YAG laser, excimer laser or the like with a wavelength of 150-500 nm fitted to fine processing, the absorptance of laser beam in the region with a wavelength of 150-500 nm of the liquid crystal polymer layer is enhanced and, as a result, the laser processing time of the insulating film can be shortened.例文帳に追加

波長が150〜500nmで微細加工に適したUV−YAGレーザやエキシマレーザ等のレーザを用いて貫通孔を形成する際、液晶ポリマー層の波長150〜500nmの領域におけるレーザ光の吸収率が向上し、その結果、絶縁フィルムのレーザ加工時間を短縮することができる。 - 特許庁

The acoustic processing unit is provided with a control means 103 that controls sound image localization processing of a sound image localization means 101 for generating a virtual acoustic space by headphone reproduction and reads parameters and with an operation means 102 to the control means 103 so as to allow a listener to perform fine adjustment of the sound image localization.例文帳に追加

ヘッドホン再生による仮想音響空間を生成する音像定位手段101の音像定位処理の制御、およびパラメータの読み出しをおこなう制御手段103と、制御手段103への操作手段102とを備え、受聴者による音像定位の微調整を可能にする。 - 特許庁

To make the mounting position of an extra length processing part freely changeable as well as to make its processing function demonstrable with at least two mounting holes, to make fine adjustment possible with a few millimeters as a unit, and to perform mounting in a state of high density in installing electronic circuit components and to make high density possible in designing a wiring pattern.例文帳に追加

余長処理部の取付け位置が自由に変更できるとともに最低2カ所の取付け穴で余長処理機能を発揮するすること、数ミリ単位で微少調整を可能にすること、高密度に電子回路部品が実装できるとともにパターン配線設計も高密度化できる。 - 特許庁

To provide a fine processing surface treating liquid with homogeneous composition for a glass substrate, capable of processing the glass substrate having multi-components such as a liquid crystal or organic electroluminescence flat panel display, without deposition of crystals or surface roughening.例文帳に追加

多成分を有する例えば液晶や有機ELなどのフラットパネルディスプレイ用のガラス基板自体を結晶の析出及び表面あれを生じさせることなく加工する事が出来る多成分を有するガラス基板用の均一組成を有する微細加工表面処理液を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method having sufficient etching resistance and capable of closely transferring a formed pattern formed by self-organization and obtain a formed body in a fine processing technology using an etching mask formed by self-organization of a block copolymer.例文帳に追加

ブロックコポリマーの自己組織化より形成されるエッチングマスクを用いた微細加工技術において、十分なエッチング耐性を有し、しかも自己組織化により形成されるパターンを忠実に転写することができる加工方法及び成形体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminate type filter material capable of easily performing heat lamination processing of a fine porous membrane made of a fluororesin excellent in a fusion property and reducing processing cost in the filter material for filtering dust contained in an exhaust gas of high temperature at a high capturing efficiency, and a production method therefor.例文帳に追加

高温の排ガス中に含まれるダストを高い捕集効率にて濾過するためのフィルター材において、融着性に優れたフッ素樹脂製微多孔膜の熱ラミネート加工が容易で、その加工コストが低減できるラミネート型フィルター材およびその製造方法の提供。 - 特許庁

例文

(1) A work as an object of processing is processed through a manner in which ultrasonic waves are given to liquid material so as to disperse fine particles contained in the liquid material before the liquid material is supplied to the processed part of the work for processing.例文帳に追加

加工対象品の加工処理部分に液状物質を供給して加工を行う際に、加工処理部分に液状物質を供給する前に該供給する液状物質に、該液状物質中の微粒子を分散させ得る超音波を与える加工処理方法。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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