| 意味 | 例文 |
post- processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 750件
To improve weak points of a gel formed and its post-treatment when a conventional nano-crystalline lithium titanate spinel is prepared by a sol-gel process in which lithium ethoxide and a titanium alkoxide are reacted at a high temperature.例文帳に追加
従来公知のナノ結晶性リチウムチタネートスピネルを、ゾルゲル法で高温でリチウムエトキシドとチタンアルコキシドを反応させることにより製造する方法において、形成されたゲルと後処理の不具合を改善する。 - 特許庁
To provide a sticking method capable of reducing a proportion of generating foams between sticking faces and increasing the probability of defoaming in a post process when a hard sticking material is to be stuck to another hard object of sticking.例文帳に追加
硬い被貼付材に対し同じ硬い貼付材を貼付する際に、貼付面間に気泡が発生する割合を低減し、後工程における脱泡の確率を高めることができる貼付方法を提供する。 - 特許庁
This control method of the processing line 10 can remove the chips gathered in the tool 14 without lengthening the cycle time by using stopping time of a pre-and-post-process of the processing line 10.例文帳に追加
本発明に係る加工ライン10の制御方法によれば、加工ライン10の前後の工程の停止時間を利用して、サイクルタイムを長くせずに、治具14に溜まった切屑を除去することが可能になる。 - 特許庁
Accordingly, a length in the width direction of the reed-shaped plate can be decreased, and the product can be easily separated from the roller even when a projecting portion of the roller is inserted during the offset cutting 63, in a post-process.例文帳に追加
したがって、短冊状板69の幅方向の長さは小さくなり、後工程で、オフセット切断63の間にローラの突出部が挿入されても、ローラからの製品の引き剥がしを容易に行うことができる。 - 特許庁
Finally, it has become known that most of by-product HCB (over some 95%) contained in material TCPA is transferred to reaction solvents (post-reaction filtrates) in the manufacturing process of Solvent Red 135. 例文帳に追加
最後に、ソルベントレッド135の製造工程で、原料TCPA中に含まれる副生HCBのうち大部分(95%程度以上)が反応溶媒(反応後ろ液)中に移行することが明らかとなっている。 - 経済産業省
However, in the midst of the global structural change that has recently occurred in the semiconductor industry, the company has made active efforts to participate in global value chains as a company that specializes in the post-process of semiconductor product manufacturing.例文帳に追加
しかし、近年の半導体業界の世界的な産業構造変化の中で、同社は半導体製造の後工程に特化した事業者としてグローバル・バリュー・チェーンに積極的に参画しようとしている。 - 経済産業省
To provide a resin sealing molding device of a semiconductor chip which improves productivity in a molding process furthermore by coupling a required number of arrangement constitutions wherein one substrate is subjected to compression molding to a pair of compressing molding dies after consistently effectively and smoothly carrying out processes before and after a molding process in a production line such as a pre (bonding) process and a post (dicing) process.例文帳に追加
生産ラインにおけるモールド工程の前後の工程、例えば、前(ボンディング)工程、後(ダイシング)工程等を一環して効率良く円滑に行うことを加味したうえで、一対の圧縮成形用金型に対して一枚の基板を圧縮成形する配置構成を所要数連結することにより、より一層モールド工程における生産性の向上を図る、半導体チップの樹脂封止成形装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the method for forming rugged surface whose cross-section has nonlinear symmetric shape, the rugged surface is obtained by a process of forming energy-sensitive negative type resin composition material including polymerizable monomer or oligomer of at least one kind, a process of applying active energy rays via a mask patterned with three or more gradations and a process of performing post-heating without etching operation.例文帳に追加
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物質を形成する工程、3値以上の階調パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を放射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程により得られる表面凹凸の断面形状が、非線対称である表面凹凸形成方法。 - 特許庁
This exhaust emission control device calculates an injection amount of post fuel injected in an expanding process to an exhausting process of the fuel performed in regenerating the DPF when a regenerating timing of a diesel particulate filter(DPF) is discriminated, discriminates whether or not the NOx trap catalyst exceeds NOx absorbing capacity when the DPF is regenerated, regenerates the NOx trap catalyst by post injection, and then regenerates the DPF when the catalyst exceeds the capacity.例文帳に追加
ディーゼルパティキュレートフィルタ(DPF)の再生時期と判断されたときに、該DPF再生時に行われる燃料を膨張行程から排気行程にかけて噴射するポスト燃料の噴射量を算出し、該DPFを再生した場合にNOxトラップ触媒がNOx吸収能力を超えるかを判断し、超える場合はポスト噴射によるNOxトラップ触媒の再生を行ってからDPFの再生を行うようにした。 - 特許庁
The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step.例文帳に追加
基板10上のフォトレジスト11を露光現像して凹凸パターン12,13を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト11をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト11の凹凸パターン13にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁
The ion implanting apparatus 10 comprises a process chamber 12 for arranging a semiconductor wafer 100, a beam line part 14 having a source portion 24, an ion beam selecting portion 26 and a post stage accelerating portion 28 and irradiating an ion beam IB to the semiconductor wafer 100, and H2 gas supplying part 18 for supplying H2 gas to the post stage accelerating portion 28 of the beam line part 14.例文帳に追加
イオン注入装置10は、半導体ウェハ100を配置するプロセスチャンバ12と、ソース部24とイオンビーム選別部26と後段加速部28とからなり半導体ウェハ100にイオンビームIBを照射するビームライン部14と、ビームライン部14の後段加速部28にH_2ガスを供給するH_2ガス供給部18とを備えている。 - 特許庁
In a fuel injection control system for an internal combustion engine provided with a fuel injection valve injecting fuel directly into the cylinder, a pressure increasing process for increasing injection pressure of post injection as compared to injection pressure of main injection is executed when the fuel injection valve need to do post injection after doing main injection.例文帳に追加
本発明は、気筒内へ直接燃料を噴射する燃料噴射弁を備えた内燃機関の燃料噴射制御システムにおいて、燃料噴射弁がメイン噴射を行った後にポスト噴射を行う必要がある場合は、メイン噴射の噴射圧力に対してポスト噴射の噴射圧力を高めるための昇圧処理を行うようにした。 - 特許庁
To provide a PTT-POY which can industrially be produce by inhibiting the tight winding of the PTT-POY and the generation of bulge, inhibits the generation of fluffs and yarn breakage in the spinning process and in post processes such as a false twisting process, by controlling frictions and wears of the yarn with guides, and can stably be false-twisted.例文帳に追加
巻締まりおよびバルジの発生を抑制することにより工業的に製造が可能であり、かつ繊維とガイド類との摩擦、摩耗を制御して、紡糸時や仮撚加工などの後加工時に毛羽や糸切れの発生を抑制した、安定した仮撚加工が可能なPTT−POYを提供する。 - 特許庁
To realize an isolation method of a semiconductor layer which can isolate a semiconductor layer well from a base material in a post-process without peeling of a semiconductor layer from a base material in the middle of a manufacturing process, a manufacturing method of a semiconductor substrate wherein it is used, and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加
製造工程の途中において基体から半導体層が剥離することなく、かつ後工程において基体から半導体層を良好に分離することができる半導体層の分離方法、並びにそれを用いた半導体基板の製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing a semiconductor device is the method of subjecting the semiconductor substrate to a processing including a pre-process and a post-process, inspects the characteristics of the semiconductor substrate to be processed, judges whether it passes the predetermined standard or not, and subjects the semiconductor substrate not passing the standard to the re-processing to pass the standard.例文帳に追加
前工程と後工程とを含む処理を半導体基板に対して行う半導体装置の製造方法であって、処理された半導体基板の特性を検査して所定の規格に適合するか否かを判断し、規格に適合しない半導体基板に対して、規格に適合するように再処理を行う。 - 特許庁
To provide a multilayer structure porous material and its production process, which not only allow producing multilayer porous materials without limitation in material combination but also allow bonding and applying porous materials anew on existent half finished goods in a post-process.例文帳に追加
本発明は、多層構造の多孔質材を、材質の組合せに制限なく製造することを可能にするとともに、すでにできあがった半製品に対しても、その後工程で新たに多孔質材を密着、付与することが可能となる多層構造の多質材料およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a glass substrate with an antireflection film, which has sufficient low reflective performance against obliquely incident light, high visible light transmittance, sufficient abrasion resistance and preferable transmittance for electromagnetic waves, which has sufficient durability against heat treatment in a production process, which can be subjected to post-process treatment, which has a small number of films and can be produced at a low cost.例文帳に追加
斜め入射光に対する充分な低反射性能と、高い可視光透過率と、充分な耐摩耗性と、良好な電磁波透過性とを有し、製造時熱処理にも充分耐え、後加工処理が可能であり、さらに、膜数が少なく低コストで製造することができる反射防止膜付きガラス基板の提供。 - 特許庁
This method has a circulation heating step 22 for heating the whole furnace to a temperature sufficiently higher than an evaporating temperature of moisture and not oxidizing/coloring the heated object, while circulating an inert gas in the furnace in a state of closing the furnace door as a pre-process or a post-process of the vacuum heat treatment 21 of the treated object.例文帳に追加
被処理物の真空熱処理21の前工程及び/又は後工程として、炉扉を閉じたままで炉内に不活性ガスを循環させながら炉内全体を水分の蒸発温度よりも十分高く被処理物が酸化・着色しない温度まで加熱する循環加熱ステップ22を有する。 - 特許庁
Before being sent back to a load lock chamber 13, a silicon substrate 11 completed in an etching process in an etching chamber 16 is carried to a post-processing chamber 20 provided independently from the etching chamber 16 and subjected to plasma treatment thus removing chlorine remaining on each silicon substrate 11 after ending the etching process.例文帳に追加
エッチングチャンバ16でエッチングプロセスを終了したシリコン基板11をロードロックチャンバ13に返送するに先だって、エッチングチャンバ16とは別途に設けた後処理用チャンバ20に搬送してプラズマ処理することにより、エッチングプロセス終了後の各シリコン基板11上に残留した残留塩素を除去する。 - 特許庁
The signal, after subjecting it to the difference process is given to a post-stage main amplifier 34 via a switching circuit 33, and taken into a control circuit 35, than, determined as to whether there is an object within a prescribed distance from an observation point.例文帳に追加
この差分処理後の信号は、切替回路33を介して後段のメインアンプ34に与えられた後、制御回路35に取り込まれ、観測地点より所定距離以内に物体が存在するか否かが判定される。 - 特許庁
A resource information library device 50 stores information for at least two kinds of stepwise approval and correction routes set as fixed route and work post route and others in a unit of application document style every kind of decision process.例文帳に追加
リソース情報ライブラリ装置50は、意思決定過程の種類毎に段階的承認修正の経路を、固定ルート及び職位ルートとして少なくとも2種類設定した情報その他を、申請文書様式の単位で保存する。 - 特許庁
For example, in a PCI process for performing the post vulcanization of the tire 7 while applying pressure to the inside space 9 of the tire 7 after pre-vulcanized to hold the shape of the tire 7, the metal member in the tire 7 is subjected to electromagnetic dielectric heating.例文帳に追加
例えば、前加硫後のタイヤ7の内側空間9に圧力を加えてタイヤ7の形状を保持しながらタイヤ7を後加硫するPCIの工程においてタイヤ7の内部の金属部材を電磁誘電加熱した。 - 特許庁
To provide a method for processing a magnetic disk substrate which is capable of preventing the generation of scratches on a data surface during end surface grinding, simplifying a post-process, and manufacturing the magnetic disk storage medium of a high storage density at low cost.例文帳に追加
端面研削加工時におけるデータ面へのキズの発生を防止し、後工程を簡略化できると共に高記憶密度の磁気ディスク記憶媒体を廉価に製造できる磁気ディスク用基板の加工方法を提供する。 - 特許庁
A compression processing is applied to an Sn plated layer 18 as the tertiary plated layer on the connection surface 11a of the chip resistor 10 as a post-process with the heated compression roller 31 of a connection surface compression apparatus 30.例文帳に追加
チップ抵抗10の接続表面11aにおける3次メッキ層としてのSnメッキ層18には、接続表面圧縮装置30の加熱された圧縮用ローラ31によって、後工程として圧縮加工が施される。 - 特許庁
To provide a multi-layer release film improved in plating in the post-process of FPC, which has been unsatisfactory by a conventional multi-layer release film, while excellent characteristics such as releasing properties, shape followability, and uniform moldability are maintained.例文帳に追加
離型性、対形状追従性、均一な成形性に優れた特性を維持しながら、従来の離型多層フィルムでは不満足であったFPCの後工程におけるメッキ付きを向上させた離型多層フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a molded article with a good appearance by using an appropriate masking film in manufacturing a solid molded article with a curable film formed on the surface by a post cure process.例文帳に追加
表面に硬化塗膜を形成した立体的な成形品をポストキュア手法により製造するにあたり、適当なマスキングフィルムを用いることにより、良好な外観を有する成形品を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an insert which is high design having a picture pattern layer and an internal uneven pattern, does not need a post-process and expensive equipment, keeps a feeling of design even at high temperatures, and has good processability, and a decorative sheet for in-mold molding.例文帳に追加
絵柄模様層と内部凹凸模様を併せ持つ高意匠で、かつ後工程や高価な設備が必要無く、高温下でも意匠感を保持した加工性の良好なインサートおよびインモールド成形用化粧シートを提供すること。 - 特許庁
To provide a method of applying an adhesion preventive to a rubber sheet material, in which there is no variation in a coating amount of the adhesion preventive, there is no scattering of the adhesion preventive around an apparatus, no foreign materials adhere to the rubber sheet material, and there is no adhesion trouble in a post-process.例文帳に追加
防着剤の塗布量のバラツキがなく、防着剤の装置周辺への飛散がなく、ゴムシート材料に異物が付着せず、後工程での密着トラブルのないゴムシート材料の防着剤塗布方法を提供する。 - 特許庁
To provide a highly accurate lens array element that eliminates a complicated post-process such as applying a light-shield member and prevents light-shield member from adhering to a lens face; and to provide an image reader that has the element, and a method for manufacturing the lens array element.例文帳に追加
遮光部材を塗布するなどの複雑な後工程を無くし、かつ、レンズ面に遮光部材が付着しないような、高精度のレンズアレイ素子、該素子を有する画像読取装置およびレンズアレイ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a protection film for an optical member having a fine and uneven pattern, which protection film is excellent in storage stability, does not cause detachment in a post processing process, and is detached without adhesive transfer after use.例文帳に追加
本発明は、微細な凹凸パターンを有する光学部材に対して、保管安定性に優れ、後加工工程中においても剥離せず、使用後は糊残りなく剥離可能な光学部材用保護フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for baking a resist, for reducing the time required for baking and enhancing the process ability while preventing coating defects such as coating irregularity and foaming, in baking (PAB: post applied bake) after application of a resist in the manufacture of a photomask.例文帳に追加
フォトマスク製造にて、レジストの塗布後のベーク(PAB)にて、塗布ムラや発泡といった塗布欠陥を発生させず、ベークに要する時間を短縮し工程能力を向上させるレジストのベーク方法、ベーク装置を提供する。 - 特許庁
The truck simulation device includes a means 36 for displaying the types of trucks of each truck included in each unit schedule Sch by each post-process, and identification information on the plate components w loaded on each truck 5 on a display device 9.例文帳に追加
その各単位スケジュールSchに含まれる各台車の後工程別の台車種類、およびその各台車5に載せる板材部品wの識別情報を表示装置9に表示させる手段36を設ける。 - 特許庁
To provide a method for exposing intermediate core of optical fiber and an apparatus therefor capable of safely and quickly exposing a core of optical fiber intermediate part by moving/contracting a clad of the optical fiber intermediate part and preventing the contracted clad from being elongated by the heating in a post-process.例文帳に追加
光ファイバ中間部の被覆を移動・収縮させて素線を露出し、この収縮した被覆が後工程の加熱により伸長することを抑止して、安全かつ迅速に光ファイバ中間部の素線を露出する。 - 特許庁
To easily manufacture a small diameter glass substrate for a magnetic disk by cutting a zone to become the glass substrate for the magnetic disk from a glass base material so as not to be tapered in the end face to facilitate a post shaping process.例文帳に追加
ガラス母材より端面にテーパがつかないようにして磁気ディスク用ガラス基板となる領域を切り出せるようにして、後の形状加工工程を容易とし、小径の磁気ディスク用ガラス基板を容易に製造できるようにする。 - 特許庁
To provide a vapor-phase content removing device, which when attached to a post stage of a CVD apparatus for forming a film on the surface of a semiconductor wafer, efficiently collects vapor-phase components of the process gas exhausted from the CVD apparatus.例文帳に追加
半導体ウェハの表面に成膜をなすCVD装置の後段に装着され、当該CVD装置から排気される処理ガスの気相成分を効率よく補集することのできる気相成分除去装置を提供する。 - 特許庁
To provide a game medium counter which does not need to interrupt or stop a counting process of game media even under an error state that a processing part of a post-stage limits the reception of the game media after the game media are counted.例文帳に追加
遊技媒体の計数後に後段の処理部が遊技媒体の受付けを制限するエラー状態になったとしても、遊技媒体の計数処理を中断または中止させなくてもよい遊技媒体計数機を提供すること。 - 特許庁
To provide a non-combustible post-formed thermosetting resin decorative panel used as a kitchen panel, a skirt wall panel or the like and to solve a problem for the reduction of a substrate chamfering process as the pre- processing in the formation of the decorative panel and the reduction of members at the time of execution.例文帳に追加
本発明はキッチンパネル、腰壁パネル等に使用される不燃性ポストフォーム化粧板に関し、化粧板作成の前加工としての基材の面取り工程の削減、施工時の部材の削減という課題を解決する。 - 特許庁
To provide a foamed curable resin reinforced molded object having a fundamental capacity as a molding material for a lid or the like for water treatment, reducing a post-process and almost generating no warpage, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
水処理用の蓋等の成形材としての基本的な性能を有すると共に、後工程が少なく、しかも反りの発生がほとんどない発泡硬化性樹脂強化成形体、及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a process for producing valve metal powder which can maintain the desired morphology without necessitating an expensive post-treatment step and has the morphology specially adjusted by reduction of corresponding oxides.例文帳に追加
高価な後処理工程を必要とすることなく、所望の形態を維持することが可能である、相応する酸化物を還元することにより特別に調整された形態を有するバルブ金属粉末の製造法を提供する。 - 特許庁
By selectively depositing in the region of a gate electrode that is respectively provided in a set of a semiconductor, an insulator and a conductor and a set of source/drain electrodes and formed in the post-process, an array of a thin film transistor is formed.例文帳に追加
そして、半導体、絶縁体及び導電体、ソース及びドレイン電極の組にそれぞれ設けられ後の工程で形成されるゲート電極の領域に選択的に蒸着することによって、薄膜トランジスタのアレイを形成する。 - 特許庁
To remarkably decrease the discharge amount of non-combustible wastes from a refuse-derived solid fuel production process, lessen the load in the post-treatment, and provide a refuse selection method for recovering refuse- derived solid fuel with a high RDF recovery efficiency.例文帳に追加
ごみ固形燃料の製造工程からの不燃性廃棄物の排出量を大幅に削減し、その後処理の負担を減少させるとともに、RDF化率を高めたごみ固形燃料化におけるごみ選別方法を提供する。 - 特許庁
To provide a nucleic acid amplification method, by which a PCR reaction-inhibiting factor is excluded without affecting a normal PCR reaction system and a post process to enhance the efficiency of the amplification, even when an initial amount of a target nucleic acid is rare.例文帳に追加
正常なPCR反応系や後工程へ影響を与えることなくPCR反応の阻害要因を排除して、初期標的核酸量が稀少な場合でも増幅効率の高いPCR増幅方法を提供すること。 - 特許庁
To eliminate the clogging of a gate due to stopping of an injection molding machine when the trouble of a post-process occurs, to increase a material yield by reducing the trial run of the injection molding machine, and to improve productivity by suppressing running costs.例文帳に追加
後工程のトラブル発生時に、射出成形機の停止によるゲート詰まりを解消し、射出成形機の捨て打ち量を削減して材料歩留りを向上させ、ランニングコストの抑制を図って生産性を向上させる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing polyethers, using a water-soluble solvent having no problem as a reactor material, enabling a simple post-treatment process of washing with substantially water only, and capable of stably reaching a sufficient degree of polymerization.例文帳に追加
反応器材質的に問題がなく、後処理工程が実質水洗のみと簡素化が可能である水溶性溶剤を用い、しかも十分な重合度まで安定的に到達可能なポリエーテル類の製造方法を提供する。 - 特許庁
The resin particle 1 can also be prepared while optionally changing its form from powder to pebble so as to be easily processed in post-process such as twin screw extrusion.例文帳に追加
本発明は、一体化工程を樹脂の硬化及び液状化処理が不要な工程で作製でき、二軸押出等の後工程に利用しやすいよう粉体状から小石状にまで適宜形状を変えて作製することができる。 - 特許庁
To provide an electron emission source excellent in electron emission performance without the need of a post-treatment process, to provide its manufacturing method, and to provide a field emission element using this, as well as a composition for forming the electron emission source.例文帳に追加
後処理工程を必要としない、電子放出能に優れる電子放出源、その製造方法、およびこれを用いた電界放出素子、並びに当該電子放出源を形成するための組成物を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the steel drum cans includes a metal surface conversion treatment process for treating steel drum cans with an aqueous conversion treatment agent containing zirconium ions, fluoride ions, nitride ions and aminosilane, then performing alkali post treatment with an alkali water solution of a pH10 or higher.例文帳に追加
ジルコニウムイオン、フッ素イオン、硝酸イオンおよびアミノシランを含む水性化成処理剤で処理し、pH10以上のアルカリ水溶液でアルカリ後処理を行う金属表面化成処理工程を含む鋼製ドラム缶の製造方法。 - 特許庁
To promote a polymerization rate of a reversible addition-elimination chain transfer polymerization and enhance the productivity and the economical efficiency by a polymerization process not using any expensive additive and not requiring any complicated post-treatment or waste disposal.例文帳に追加
高価な添加物を使用することなく、かつ煩雑な後処理や廃棄物処理を必要としない方法で可逆的付加脱離連鎖移動重合の重合速度を促進し、生産性および経済性を向上させることである。 - 特許庁
To obtain a resin/metal composite thin tubular body which consists of a resin layer on its inner side and a metallic layer on its outer side, does not give rise to trouble in machining, etc., by post process steps and is straight and uniform.例文帳に追加
内側が樹脂層、外側が金属層からなる樹脂・金属複合細管体において後工程による機械加工等で不具合が発生しない真っ直ぐで均一な樹脂・金属複合細管体が得られることを可能にする。 - 特許庁
To reduce or eliminate the inprint effect of ferroelectric devices such as capacitive elements and memory cells without exposing the devices to a too high temperature and ultraviolet light or without conducting a post-annealing process.例文帳に追加
強誘電体素子を過大な温度にさらしたり、紫外光にさらしたり、あるいはポストアニーリング処理を行ったりすることなく、容量素子やメモリセルなどの強誘電体素子におけるインプリント効果を少なくしあるいはなくす。 - 特許庁
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