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process stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3735



例文

The control part also determines whether the printing process is applied to the n+1-th substrate by a printer or the printing process is stopped by referring to the number of the substrates yet to be processed, the residual quantity information on the components, and information on the number of components mounted per one substrate (step S4).例文帳に追加

そして、上記仕掛かり基板枚数、部品の残量情報及び基板1枚当たりに実装される部品数の情報を参照して、印刷装置本体にn+1番目の基板に対して印刷処理を実行させるか、或いは、印刷処理を停止させるかを判定する(ステップS4)。 - 特許庁

In the propylene oxide recovery system through the extractive distillation process, a process step where oxygen-containing compounds including propylene oxide dimer, trimer oligomers, more high-molecular oligomers and polymers that accumulate in the extracting agent is inserted into the circular line for the extraction agent.例文帳に追加

抽出蒸留法によるプロピレンオキサイドの回収システムにおいて、抽出剤中に蓄積する上記プロピレンオキサイドの二、三量体オリゴマー、より高分子量のオリゴマー並びにポリマーを含むことのある含酸素化合物を除去する工程を該抽出剤の循環ライン中に設ける。 - 特許庁

Contamination evaluation is executed to the semiconductor substrate on the way of manufacturing in the manufacturing line of the semiconductor device, and if the substrate current value does not satisfy a condition specified by a proceeding step working process, an optimum cleaning process purposing the removal of the adsorbed substances on the substrate surface is applied.例文帳に追加

また、半導体装置の製造ラインにおいて製造途中の半導体基板に対して汚染評価を実施し、基板電流値が後段階作業工程の定める条件を満たさない場合は基板表面吸着物質の除去を目的とする最適な洗浄工程を実施する。 - 特許庁

A method of improving throughput in a semiconductor wafer deposition process in a high-density plasma processing chamber, comprises a step of processing a first wafer within the high-density plasma processing chamber using a process including high output sufficient for burning out fluorosilicate glass residue in the processing chamber.例文帳に追加

高密度プラズマ処理室内の半導体ウエハ堆積工程の処理量を改善する方法は、処理室内のフオロ珪酸塩ガラス残留物を焼き尽くすのに十分な高出力を含む工程を用いて、高密度プラズマ処理室内で第1のウエハを処理する工程を含む。 - 特許庁

例文

The film pattern formation method comprises a step S1 of forming banks in compliance with film patterns on a substrate, a process S5 of forming an accepting film having acceptability with respect to a functional liquid in a groove between the banks, and a process S6 of arranging the functional liquid on the accepting film.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基板上に膜パターンに応じたバンクを形成する工程S1と、バンク間の溝に、機能液に対して受容性を有する受容膜を設ける工程S5と、受容膜上に機能液を配置する工程S6とを有することを特徴とする。 - 特許庁


例文

The process is a dry process for introducing crosslinkages to a polysaccharide having a functional group capable of adsorbing a metal ion and comprises a step of contacting the above polysaccharide in the state of a solid with a crosslinker to thereby introduce crosslinkages to the polysaccharide.例文帳に追加

本発明は、金属イオンを吸着し得る官能基を有する多糖類に架橋を導入するための乾式架橋導入方法であって、固体状の前記多糖類に架橋剤を接触せしめて前記多糖類に架橋を導入する工程を備えた方法を提供する。 - 特許庁

In a step for forming the recessed parts on the surface of the glass substrate in a production process of the micro-lens array, a process for forming the recessed parts is performed by etching the glass substrate after forming indentations or parts where residual stress remains by pressing the surface of the glass substrate with a pointed article.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造工程中、ガラス基板表面に凹部を形成する工程において、当該凹部を形成する工程を、ガラス基板表面に尖状物で加圧して圧痕又は応力残留部を形成した後、当該ガラス基板のエッチングを行う工程とする。 - 特許庁

The process for producing ceramics includes a step to obtain a barium titanate dispersion containing at least one kind selected from among alginates, alginic acid derivatives and agar, barium titanate particles, and water, a step to mold the barium titanate dispersion into a desired shape to obtain a molding of barium titanate, and a step to heat-treat the molding of the barium titanate.例文帳に追加

セラミックスの製造方法は、アルギン酸塩、アルギン酸誘導体および寒天から選択される少なくとも一種と、チタン酸バリウム粒子と、水と、を含む、チタン酸バリウム分散体を得る工程と、前記チタン酸バリウム分散体を所望の形状に成形し、チタン酸バリウム成形体を得る工程と、前記チタン酸バリウム成形体を熱処理する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The process for fabricating a group III nitride based compound semiconductor laser comprises a step for forming a plurality of semiconductor layers composed of a group III nitride based compound semiconductor on a substrate, a step for forming an electrode narrower than the semiconductor layer on the surface thereof, and a step for forming a ridge by etching the semiconductor layer using the electrode as a mask.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体レーザの製造方法において、基板上にIII族窒化物系化合物半導体から成る複数の半導体層を形成する工程と、前記半導体層の表面に、前記半導体層よりも狭い幅を有する電極を形成する工程と、前記電極をマスクとして前記半導体層をエッチングし、リッジ部を形成する工程とを含む。 - 特許庁

例文

The method of producing the diaphragm of the speaker does not includes a paper making process, and reduces production time by manufacturing the diaphragm through at least: a step 1 of pulverizing cane material into chip shapes; a step 2 of separating the bamboo chips into a fiber shapes by a press kneader; and a step 3 of forming a three dimensional shape by heat pressurization press molding.例文帳に追加

本発明のスピーカ用振動板の製造方法は、抄紙工程を含まず、少なくとも竹材をチップ状に粉砕する工程1と、竹チップを加圧ニーダで繊維状に解繊する工程2と、3次元形状に加熱加圧プレス成型する工程3とで振動板を製造することで、製造時間を短縮することができる優れたスピーカ用振動板の製造方法を確立することができる。 - 特許庁

例文

The method for producing a gas barrier film includes: a base material preparation step of preparing a base material; and a gas barrier layer formation step of forming a gas barrier layer containing silicon oxynitride formed on the base material, wherein the formation of the gas barrier layer in the gas barrier layer formation step is performed using an ion plating process with a sublimation gas including a xenon gas.例文帳に追加

本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、基材を準備する基材準備工程と、基材の上に酸窒化珪素を含有するガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程とを有し、ガスバリア層形成工程におけるガスバリア層の形成を、キセノンガスを含む昇華ガスを用いたイオンプレーティング法を用いて行うようにすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for wafer dicing process capable of: stably holding a wafer in a dicing step for cutting and separating the wafer into semiconductor chips, the wafer having through electrodes formed thereon; making small element pieces to be easily peeled off in a pickup step for picking up semiconductor chips; and preventing adhesive from easily sticking onto rear faces of the small element pieces and through electrodes after the pickup step.例文帳に追加

貫通電極が形成されたウエハを、半導体チップに切断分離するダイシング工程の際にはウエハを十分に保持し、半導体チップをピックアップするピックアップ工程の際には素子小片を容易に剥離でき、ピックアップ工程後に素子小片の裏面及び貫通電極に粘着剤が付着しにくいウエハダイシング加工用粘着テープを提供する。 - 特許庁

The design process of a semiconductor device includes arranging a circuit block containing a pulse width adjusting circuit adjusting a pulse width of a clock signal by individually adjusting delay amounts in rising and falling of the clock signal (step S2), inspecting the pulse width (step S7 and S8), and adjusting the pulse width by the pulse width adjusting circuit when abnormalities are detected in the pulse width (step S9).例文帳に追加

半導体装置の設計工程において、クロック信号の立ち上がり及び立ち下がりの遅延量を別々に調整することでクロック信号のパルス幅を調整するパルス幅調整回路を含む回路ブロックを配置し(ステップS2)、パルス幅を検査し(ステップS7,S8)、パルス幅に異常が検出された場合、パルス幅調整回路によりパルス幅を調整する(ステップS9)。 - 特許庁

The feeding action of the rotation feeder unit 11 is adjusted by at least three continuous connecting steps, i.e., a first step of adjusting the penetration of the supported plate 2, a second step of adjusting the friction welding between the supporting plate 1 and the shaft part, and a third step of applying the axial force of the connecting element 5 to the supporting plate 1 to complete the friction welding process.例文帳に追加

回転フィーダ部11の送り動作が、被支持板2を貫通するように調整する第1の段階と、支持板1とシャフト部との摩擦溶接を調整する第2の段階と、接合要素5の軸方向の力を支持板1に加える第3の段階の少なくとも3つの連続した接合段階によって調整されて摩擦溶接プロセスを完了させる。 - 特許庁

This method includes a first step to create a source code, a second step to analyze the created source code according to grammar definition of a programming language, and a third step to apply processing rules corresponding to the platform using the created source code to the analyzed source code, process the analyzed source code, and output the source code corresponding to the platform.例文帳に追加

ソースコードを生成する第1のステップと、生成されたソースコードをプログラム言語の文法定義に従って解析する解析する第2のステップと、解析済みのソースコードに対し、生成したソースコードを使用するプラットフォームに対応した加工ルールを適用し、前記解析済みのソースコードを加工し、プラットフォーム対応のソースコードを出力する第3のステップとを備える。 - 特許庁

A multi-layer coating process for a bulky granular material includes a step in which the wet material is obtained, a step in which the material is mixed in advance with the first coating agent supplied in the form of powder, and a step in which the mixture is introduced into the inlet end of a spiral passage in a rotating drum.例文帳に追加

バルクの粒状材料の多層被覆工程であって、湿った状態の粒状材料のバルクを入手すること、粉末化形態で提供された第1の被覆剤と、粒状材料を前以て混合すること、及び次に、前以て混合された材料を、回転しているドラム内の螺旋巻き路の入り口末端中に導入すること、の段階を含んでなる方法。 - 特許庁

The manufacturing process of thin sapphire substrates comprises a step in which a single crystal nickel oxide thin film 2 is formed on a single crystal sapphire preform 1, a step in which a thin single crystal sapphire substrate 3 is formed on the single crystal nickel oxide thin film 2 and a step in which the thin single crystal sapphire substrate 3 and the single crystal sapphire preform 1 are separated.例文帳に追加

単結晶サファイヤ母材1上に単結晶酸化ニッケル薄膜2を成膜させる工程と、該単結晶酸化ニッケル薄膜2上に薄型単結晶サファイヤ基板3を成膜させる工程と、該薄型単結晶サファイヤ基板3と該単結晶サファイヤ母材1とを分離する工程を含むことを特徴とする、薄型単結晶サファイヤ基板3の成長方法。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a wiring structure of a conductive material being buried in a first insulator, a step for exposing the wiring structure by removing the first insulator, and a step for forming a second insulator to bury the wiring structure.例文帳に追加

第1の絶縁層に埋設される、導電材料よりなる配線構造を形成する配線構造形成工程と、前記第1の絶縁層を除去して前記配線構造を露出させる絶縁層除去工程と、 前記配線構造を埋めるように第2の絶縁層を形成する絶縁層埋設工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing the compound thermoelectric material comprises: a step of mixing powders of constituent elements at the measurement ratio corresponding to the chemical composition; a step of producing compound powder having the chemical composition by subjecting the powder mixture to a high-energy ball milling process or mechanical alloying; and a step of subjecting the produced compound powder to spark plasma sintering to harden and form the powder.例文帳に追加

この化合物熱電材料の製造方法は、上記化学組成に対応する計量比で各成分元素の粉末を配合し、配合された粉末混合物に高エネルギ・ボールミル過程または機械合金化を行うことにより上記化学組成の化合物粉末を生成し、生成された化合物粉末に放電プラズマ焼結を行なうことにより硬化成形する。 - 特許庁

The silicon oxide nanostructure body is manufactured by an extremely simple process including: a step for arranging a film containing aluminum as a main component on a base body containing silicon as a main component; a step for forming an alumina coat having arrayed pores by anodically oxidizing the film containing aluminum as a main component; and a step for anodically oxidizing the base body containing silicon as a main component.例文帳に追加

シリコンを主成分とする基体上にアルミニウムを主成分とする膜を配置するステップと、前記アルミニウムを主成分とする膜を陽極酸化して細孔が配列するアルミナ皮膜を形成するステップと、前記シリコンを主成分とする基体を陽極酸化するステップとによって、きわめてシンプルなプロセスによってシリコン酸化物ナノ構造体を製造する。 - 特許庁

The process for producing a cavity substrate comprises a step for cleaning a substrate 33 with functional water, a step for performing heat treatment and/or film deposition of the substrate 33, and a step for forming a liquid containing recess 342 from one side of the substrate 33 and providing the part thinned through formation of the recess 342 as a vibrating plate 31.例文帳に追加

本発明のキャビティ基板の製造方法は、基板33を機能水により洗浄する洗浄工程と、基板33に対して熱処理および/または成膜処理を施す処理工程と、基板33の一方の面側から、液体を収容するための凹部342を形成して、凹部342の形成により肉薄化された部分を振動板31とする工程とを有する。 - 特許庁

The process for producing a sulfur-containing aromatic polymer includes a step 1 of reacting bis(4-mercaptophenyl) sulfone in the presence of an alkaline metal to obtain an alkaline metal salt of the bis(4-mercaptophenyl) sulfone, and a step 2 of reacting the alkaline metal salt of the bis(4-mercaptophenyl) sulfone obtained in the step 1 with a dihalogenated biaryl represented by formula (2).例文帳に追加

ビス(4−メルカプトフェニル)スルホンをアルカリ金属の存在下で反応させて該ビス(4−メルカプトフェニル)スルホンのアルカリ金属塩を得る工程1と、水と有機溶媒との混合溶媒中で、前記工程1で得られた(4−メルカプトフェニル)スルホンのアルカリ金属塩と下記式(2)で表されるジハロゲン化ビアリールとを反応させる工程2とを有する含硫黄芳香族ポリマーの製造方法。 - 特許庁

The method consists of a step A of calculating a forecasted occupant displacement by integrating the acceleration detection signal twice, a step B of comparing the forecasted occupant displacement with the position signal, and a step C of adjusting the adjustable filter 52 on the basis of the process B for comparing as the forecasted occupant displacement is closely correlated with the position signal and thereby idealizing control of the occupant restraint system.例文帳に追加

その方法は、A. 加速度信号を二回積分することにより予測乗員変位を計算する工程、B. 予測乗員変位と位置信号とを比較する工程、及びC. 予測乗員変位が位置信号に密接に相関し、それにより乗員拘束システムの制御を理想化する様に、比較工程に基き調整可能フィルターを調整する工程、を有する。 - 特許庁

The method includes: a step of forming an oxide film on a semiconductor substrate; a step of forming a nitrogen containing insulation film on the oxide film by the plasma nitridation process at a temperature between 800 to 900°C; and a step of forming a nitrogen storing layer at the interface between the semiconductor substrate and the oxide film formed with the nitrogen containing insulation film.例文帳に追加

半導体基板上に酸化膜を形成する段階と、800〜900℃のプラズマ窒化処理工程によって前記酸化膜の表面に窒素含有絶縁膜を形成する段階と、前記半導体基板と前記窒素含有絶縁膜の形成された前記酸化膜との界面に窒素蓄積層を形成する段階とを含む、フラッシュメモリ素子のトンネル絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The process for producing a packaging substrate 11 comprises a step for forming a plurality of electrodes connected electrically by a plated wire 18 on the packaging substrate 11, a step for applying an electroplating film 19 to the electrode by conducting the electrode through the plated wire 18, and a step for separating individual electrodes electrically by cutting the plated wire 18.例文帳に追加

本発明の実装基板11の製造方法は、実装基板11にメッキ線18で電気的に接続された複数個の電極を形成する工程と、メッキ線18を介して電極に通電させることで、電気メッキにより電極にメッキ膜19を被着する工程と、メッキ線18を分断することにより個々の電極を電気的に分離する工程とを有する。 - 特許庁

This method of repairing a turbine engine component 10 comprises a step of providing the turbine engine component 10 having an air foil part 16, a step of applying a coating 15 to the air foil part 16, and a step of flowing by heating the coated material in a die set 24 and regenerating the tip part, chord, and surfaces of the air foil part 16 to the initial dimensions by a single process.例文帳に追加

タービンエンジン構成要素10の修復方法は、エアフォイル部16を有するタービンエンジン構成要素10を提供するステップと、エアフォイル部16にコーティング15を付与するステップと、コーティングされた材料をダイセット24内で加熱して流動させ、エアフォイル部16の先端部、翼弦、及び表面を単一の工程で初期寸法に修復するステップと、を備える。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step for forming a high-k gate insulating film 30 on a silicon substrate 200; a step for nitrogenizing the high-k gate insulating film 30 using gas comprising nitrogen gas and rare gas; a step for forming an electrode 32 on the high-k gate insulating film 30; and a process for forming an insulating layer 34 while surrounding the electrode 32.例文帳に追加

シリコン基板200上にHigh-kゲート絶縁膜30を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜30を窒素及び希ガス含有ガスでHigh-kゲート絶縁膜30を窒化する工程と、前記High-kゲート絶縁膜30上に電極32を形成する工程と、前記電極32を囲むように絶縁層34を形成する工程とを有する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The nitrogen-containing organosilane with at least one Si-H or N-H group which is susceptible to product decomposition is treated with a process comprising: (a) a step to bring into contact with a weak basicity ion-exchange vehicle for removing a residual anion or residual metal cation; (b) a step of separating the organosilane from the weak basicity ion exchange resin; and (c) a step of distilling the organosilane.例文帳に追加

製品の分解の影響を受けやすい、少なくとも一つのSi−H又はN−H基を有する窒素含有オルガノシランを、(a)残余のアニオン又は金属カチオンを除去するための弱塩基性イオン交換媒体と接触させる段階、(b)前記オルガノシランを前記弱塩基性イオン交換樹脂から分離する段階、(c)前記オルガノシランを蒸留する段階よりなる処理を施す。 - 特許庁

The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.例文帳に追加

乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にCOガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁

The process for producing a light transmitting electromagnetic wave shielding film subjected to uneven gloss prevention treatment comprises a step for forming a mesh-like metal conductive layer 12 on a transparent film 11, a step for forming a blackening treatment layer at least on the surface of the metal conductive layer 12 by blackening the metal conductive layer 12, and a step for coating the blackening treatment layer with adhesive transparent resin.例文帳に追加

透明フィルム11上にメッシュ状の金属導電層12を形成する工程、該金属導電層12を黒化処理することによって該金属導電層12の少なくとも表面を黒化処理層とする工程、前記黒化処理層上に、接着性透明樹脂を塗布する工程、を含む、光沢ムラ防止処理された光透過性電磁波シールド性フィルムを製造する方法。 - 特許庁

A process 100 to form the elastic laminate comprises a step to form a laminate material by bonding a first non-woven fabric 50 with an elastic film 60, a step to form an activated laminate 75 by activating the laminate material, and a step to form an elastic laminate material 95 by bonding a cured non-woven fabric with the elastic film of the activated laminate material.例文帳に追加

第一の不織布を弾性のあるフィルムに結合しラミネート材を形成する段階;前記ラミネート材を活性化し活性化ラミネート材を形成する段階;および硬化不織布を、当該活性化ラミネート材の当該弾性のあるフィルムに結合し弾性のあるラミネート材を形成する段階から成ることを特徴とする弾性のあるラミネートを形成する方法。 - 特許庁

The step functions generated by the respective step function generation parts are added by the addition part 12, a step-formed analog voltage corresponding to the addition value is generated by the D/A converter 14, and the two integrating processes parts 16 and 18 performs an integrating process twice for the composite waveform, thereby generating a continuous analog voltage having the inputted digital data connected.例文帳に追加

各階段関数発生部で発生した階段関数を加算部12によって加算し、この加算値に対応した階段状のアナログ電圧をD/A変換器14によって発生し、さらに2つの積分処理部16、18によってこの合成波形に対して2回の積分処理を行うことにより、入力されたデジタルデータをつなぐ連続的なアナログ電圧を発生させる。 - 特許庁

The method of production for fermented product of the fish garbage comprises (1) a step heating the fish garbage, (2) functioning a microorganism which reduces lipidperoxide and/or reek under a condition sustaining activity of the microorganism, to the fish garbage after heated in the step (1), and a step (3) drying the fish garbage after subjecting to the process described in the (2).例文帳に追加

(1)魚残滓を加熱することと、(2)前記(1)で加熱された魚残滓に、その活性が維持される条件下で過酸化脂質および/または臭気を低減する微生物を接触させ、前記微生物を魚残滓に作用させることと、(3)前記(2)に記載の作用させることを行った魚残滓を乾燥することと、を具備する魚残滓発酵製品の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for step-down chopper regulator which copes with high-speed oscillation without needing an expensive process, and provides a stable step-down chopping action by widening an input voltage range and performing boot operation certainly even in a light load, and also to provide a step-down chopper regulator and electronic equipment each using it.例文帳に追加

本発明は、高価なプロセスを要することなく、高速発振に対応することができ、入力電圧範囲が広く、かつ、軽負荷時でも確実にブート動作を行うことで安定した降圧チョッピング動作を実現することが可能な降圧チョッパレギュレータ用の半導体装置、並びに、これを用いた降圧チョッパレギュレータ及び電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method has a step where a computation process for data read access to a 1st activated memory area stored with a 1st programmable device configuration is carried out, a step for inactivating the 1st memory area, and a step for activating a 2nd inactivated memory area stored with a 2nd programmable device configuration.例文帳に追加

上記課題は、プログラム可能な第1のデバイスコンフィギュレーションを格納する活性化された第1のメモリ領域にデータ読み出しアクセスする計算プロセスを実行するステップを有し、第1のメモリ領域を不活性するステップを有し、プログラム可能な第2のデバイスコンフィギュレーションを格納する不活性化された第2のメモリ領域を活性化するステップを有することによって解決される。 - 特許庁

The process comprises: a melting step to heat and melt a cyclic olefin thermoplastic resin by a twin screw extruder 22, a feeding step to extrude the heat molten resin from a single screw extruder 23 and feed to a molding die 24, and a molding step to form a film by spouting the molten resin in film shape from the molding die 24 to a cooling drum 26 and then cooling.例文帳に追加

環状オレフィン系の熱可塑性樹脂を二軸スクリュー押出機22により加熱溶融する溶融工程と、加熱溶融した溶融樹脂を一軸スクリュー押出機23から押し出して成形ダイ24に供給する供給工程と、成形ダイ24から溶融樹脂を冷却ドラム26にフィルム状に吐出して冷却することによりフィルム成形する成形工程と、を備えた。 - 特許庁

The production process of the triarylmethane compound includes (a) a step of feeding an aryl acetal as a reaction mixture with an electron-rich aryl compound, (b) a step of adding an acid catalyst to the reaction mixture, and (c) a step of reacting the aryl acetal with the electron-rich aryl compound in the presence of the acid catalyst to form the triarylmethane compound.例文帳に追加

トリアリールメタン化合物の製造プロセスは、(a)アリールアセタールを電子の豊富なアリール化合物と共に反応混合物として供給するステップと、(b)酸触媒を前記反応混合物に添加するステップと、(c)前記酸触媒の存在下で前記アリールアセタールに前記電子の豊富なアリール化合物を反応させてトリアリールメタン化合物を生成するステップと、を含む。 - 特許庁

The coffee drink manufacturing apparatus extracts a coffee drink by a process including: a first step for milling roasted coffee beans coexisting with a liquid for extraction; a second step for extracting in the liquid for extraction; and a third step for separating the extraction residue of the coffee beans from the extract by centrifuging.例文帳に追加

焙煎済みのコーヒー豆と抽出用液体とを共存させた状態で粉砕を行なう第1工程と、該抽出用液体中で抽出を行なう第2工程と、遠心分離によりコーヒー豆の抽出残さと抽出液とを分離する第3工程とを含む工程によってコーヒー飲料の抽出を行なうことを特徴とするコーヒー飲料製造装置。 - 特許庁

The process for preparation of a liposome includes: a step of giving an aqueous solution; a step of giving a lipid solution including P_a between about 0.84 and 0.88, and P_v between about 0.88 and 0.93 in which at least one lipid in this solution includes a polyethylene glycol (PEG) chain, and a step of mixing the lipid solution with the aqueous solution.例文帳に追加

リポソームを調製する方法であって、以下:水溶液を提供する工程;脂質溶液を提供する工程であって、この溶液が、約0.84と0.88との間のP_a、約0.88と0.93との間のP_vを有し、そしてこの溶液中の少なくとも1つの脂質がポリエチレングリコール(PEG)鎖を含む、工程、および脂質溶液および水溶液を合わせる工程、を包含する、方法。 - 特許庁

The rubbing method is characterized in that a long-sized alignment substrate film is rubbed using a rubbing roll on which rubbing cloth is stuck, the rubbing cloth being obtained from velvet woven cloth using rayon pile yarn and having no paste material stuck thereto and being obtained by a manufacturing process including a raising processing step and including neither a washing step nor a resin impregnation step for the velvet woven cloth.例文帳に追加

レーヨンパイル糸を用いたベルベット織布から得られるラビング布であって、該レーヨンパイル糸が糊材の付着していないものであり、該ベルベット織布の洗浄工程および樹脂浸漬工程を含まず起毛処理工程を含む製造工程で得られるラビング布を貼り付けたラビングロールによって長尺配向基板フィルムをラビングすることを特徴とするラビング方法。 - 特許庁

The method for deleting packets in a wireless communication system comprises a step for setting a timer which actuates deletion of a packet in ARQ process, a step for actuating the deletion timer, in response to an HARQ of a packet corresponding to a loss sequence number, and a step for stopping reception of a packet corresponding to a loss sequence number, when it is not received even if the deletion timer has expired.例文帳に追加

方法は、ARQプロセスにおいてパケット削除を起動するための削除タイマーを設定し、紛失シーケンス番号に対応するパケットがHARQするとともに上記削除タイマーを起動し、削除タイマーが満了しても紛失シーケンス番号に対応するパケットが受信されない場合に、当該紛失シーケンス番号に対応するパケットの受信を停止するステップからなる。 - 特許庁

The scrubber-less operation method in a metal strip cleaning process includes: a chemical cleaning step of immersing a metal strip into an alkali aqueous solution in a short period of time and performing degreasing; an electrolytic cleaning step of separating particle metal powder and oil by electrolysis after the chemical cleaning step; and a CVJ step of jetting warm water dissolved with air under pressure to the metal strip to clean the surface of the metal strip after the electrolytic cleaning step.例文帳に追加

金属帯をアルカリ水溶液に短時間浸して脱脂する化学洗浄工程と、該化学洗浄工程後に、電気分解により微粒金属粉や油分を分離する電解洗浄工程と、該電解洗浄工程後に、空気を加圧溶解した温水を金属帯に噴射して金属帯表面を洗浄するCVJ工程とを有する、金属帯洗浄工程のスクラバーレス操業方法であって、化学洗浄および電解洗浄の各工程において使用される電清添加剤濃度と、CVJ工程においてスプレーノズルから噴射されるCVJ圧力が下記式で規定される値以上である。 - 特許庁

To discharge sheets out of a device at a speed slower than the sheet carrying speed in the previous step by means of a simple structure without affecting the processing speed or carrying speed for sheets in an upstream process.例文帳に追加

簡単な構成によって上流工程のシートの処理速度や搬送速度に影響を与えることなく,前段のシート搬送速度よりも遅い速度でシートを装置外へ排出する。 - 特許庁

To provide an operation transaction system device which minimizes the oppression of a server device to resources and restarts an operation step in process when a user restarts operation after fault recovery.例文帳に追加

サーバ装置の資源への圧迫を最小限にとどめ、且つ障害復旧後にユーザが業務を再開した際に仕掛かり中の業務ステップを再開できる業務取引システム装置を提供する。 - 特許庁

To provide a determining apparatus of a melting state in an arc furnace that reliably determines the completion of melting scrap to shift process to the next step without waste of electricity consumption or the like.例文帳に追加

スクラップの溶解完了を確実に判定して無駄な電力消費等を生じることなく次ステップへの工程移行を行うことができるアーク炉の溶解状態判定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a size measuring mark which can detect a fault at the initial stage of a process by combining the step difference of a lower layer and the pattern roughness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.例文帳に追加

下層の段差とパターン疎密を組み合わせることにより、プロセス初期段階での異常検出が可能な寸法測定マーク、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

A rice washing process step is started by feeding a prescribed amount of the milled rice 1 into a rice storage container 5 and driving rotary vanes 31 which are freely rotatably disposed in the rice storage container 5 by a drive means 33.例文帳に追加

所定量の白米1を米収納容器5内に投入して、米収納容器5内に回転自在に配設した回転羽根21を駆動手段23により駆動して米研ぎ工程を開始する。 - 特許庁

The two-step process accurately controls the exothermicity of the reaction, which allows for a very accurate temperature control which controls the growth of the particles and results in obtaining UO_2 powder that is active.例文帳に追加

この2工程製法は反応の発熱度を正確に制御することによって、粒子の成長を制御して活性のUO_2粉末を得るのに必要な極めて正確な温度制御を可能にする。 - 特許庁

To efficiently remove an electrolytic solution remaining in a pocket-shaped part which has been formed inside of a joint between a hanger of a cathode and a metal plate, in a cleaning step in a process of electrolytically refining copper, nickel or the like.例文帳に追加

銅、ニッケルなどの電解精製における洗浄工程において、カソードの吊手と金属板との接合部の内側に形成されるポケット状部位に残存する電解液を効率的に除去する。 - 特許庁

例文

A demodulated and decoded received signal is applied to a CRC decoder 212, an error symbol is generated and supplied through an output 242 to a preceding step and a continuous noise erasing process is provided.例文帳に追加

からの復調および複号された受信信号は、CRCデコーダ212に加えられ、エラー標識が生成され、出力242を介して前段に供給され、連続的な雑音消去過程が実現される。 - 特許庁




  
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