「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

After the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is raised up to about 800°C, the temperature of the Ni film 1 and the Si substrate 2 is kept at about 800°C, for almost the same time needed for the gradual and step-wise heating process from about 300°C to about 800°C.例文帳に追加

Ｎｉ膜１およびＳｉ基板２の温度を約８００℃まで上昇させた後、Ｎｉ膜１およびＳｉ基板２の温度を、約３００℃〜約８００℃までの段階的かつ階段状の加熱工程に掛かった時間と略同じ時間、約８００℃に保持する。 - 特許庁

The method of producing the photoelectric converting apparatus includes the step of conducting the annealing process for 30 minutes to six hours under the temperature of 150 to 200°C in the atmospheric condition to a photoelectric converting apparatus provided with a photoelectric converting layer including a crystalline silicon layer.例文帳に追加

結晶質シリコン層を含む光電変換層を有する光電変換装置に対して、大気雰囲気において１５０℃以上２００℃以下の温度で３０分以上６時間以下のアニール処理を施すアニール処理工程を含む光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

A measuring method of remaining austenite volume in the invention that includes a step for using an eddy-current measuring device to measure a remaining austenite volume contained in a test object realizes online and low-cost measurement within a manufacturing process of the test object.例文帳に追加

本発明の残留オーステナイト量の測定方法によれば、被検体に含まれる残留オーステナイト量を渦電流方式の測定装置を用いて測定することができるため、該被検体の製造工程内においてオンラインで安価に測定することができる。 - 特許庁

The mixing ratio of binder to ceramic in ceramic paste is made smaller than that of binder to ceramic in ceramic slurry so that the absorptivity of the internal electrode 102 and that of the step absorbing layer 104 in the debinding process may be roughly the same.例文帳に追加

脱バインダ工程における内部電極１０２および段差吸収層１０４の収縮率がほぼ同じになるように、セラミックペーストにおけるセラミックに対するバインダの混合比は、セラミックスラリにおけるセラミックに対するバインダの混合比より小さくされる。 - 特許庁

This production process for sorbic acid or its salt comprises the step wherein the slurry or solution containing sorbic acid and its salt is held in the state that the oxygen concentration of the gas phase area contacting with the slurry or solution including sorbic acid or its salt is maintained at ≤4 vol.%.例文帳に追加

ソルビン酸又はその塩の製造法は、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液に接する気相部の酸素濃度を４容量％以下に保った状態で、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液を保持する工程を含む。 - 特許庁

To uniformly control residual stress or residual distortion in a wafer surface where the crystal of a semiconductor layer is grown while preventing the misregistration of the semiconductor layer in a semiconductor manufacturing process and its contamination, deterioration, deformation, etc. in a thermal treatment step.例文帳に追加

半導体装置製造プロセスにおける半導体層の位置ずれ及び熱処理工程での汚染、変質又は変形等を防止しながら、半導体層を結晶成長させたウェハ面内において残留応力又は残留歪みを均一に緩和できるようにする。 - 特許庁

The amidomalonate N,O-Pt complex having the chemical structure shown in the figure is provided, which is essentially purely obtained by a process including the step of bringing the corresponding amidomalonate O,O'-Pt complex or a mixture of amidomalonate O,O'-Pt and N,O-Pt complex into contact with an aqueous solution of pH 6.0-10.0.例文帳に追加

対応するアミドマロネートO,O'-Pt錯体またはアミドマロネートO,O'-PtおよびN,O-Pt錯体の混合物をpH 6.0〜10.0の水溶液に接触させる段階を含むプロセスによって本質的に純粋に得られる、以下の化学構造を有するアミドマロネートN,O-Pt錯体を用いる。 - 特許庁

To process a perforating blade, a lead crease (cutlery where blades and scribe lines are repeated with a constant pitch) or a nick (a part where paper is not intentionally cut when cutting it is formed and cutting parts are temporarily connected and are cut in a subsequent step) at a Thomson blade with arbitrary depth and width.例文帳に追加

トムソン刃にミシン刃、リ−ド罫（刃と罫線が一定ピッチで繰り返されている刃物）あるいは、ニック（紙を切断時にわざと切断しない部分を作って一時的に切断部をつないでおいて後の行程で切断するもの）を任意の深さと幅で加工する。 - 特許庁

To provide a steel composition intended to be used in a process comprising a cold rolling step, for the production of uncoated, electro-galvanized or hot dip galvanized TRIP steel products; a method for producing the steel products; and the steel products.例文帳に追加

被覆されていない、電気ガルバナイジングされた又は熱浸漬ガルバナイジングされたＴＲＩＰ鋼製品の製造のための、冷間圧延工程を含む方法に使用されることを意図される鋼組成物、さらに、前記鋼製品の製造方法および鋼製品を提供する。 - 特許庁

When it is determined that the processing time is the prescribed time or shorter, the command processing based on the unprocessed received command is executed again (a step S601), and the command processing is repeated till it is determined that the processing time is longer than the prescribed time in the command determination process.例文帳に追加

処理時間が所定時間以下であると判定した場合は再度未処理の受信コマンドに基づくコマンド処理を実行し（ステップＳ６０１）、コマンド判定処理で処理時間が所定時間よりも長いと判定するまでコマンド処理を繰り返し行う。 - 特許庁

To provide a violet pigment dispersion liquid for a color filter and a blue photosensitive resin composition for a color filter, for suppressing decrease in the contrast after a step of high temperature (230°C or higher) heating after exposure in the process of manufacturing a color filter, after the composition is formed into a coating film.例文帳に追加

塗膜形成後、カラーフィルタの製造工程における露光後の高温（２３０℃以上）加熱工程後のコントラストの低減が抑制される、カラーフィルタ用紫色顔料分散液、及びカラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and inspection method for coiled bodies of tapes which are capable of reducing a cost and improving a product yield by sorting the defective and non-defective tapes without undergoing a tape rewinding process step and a tape take-up mechanism and tape take-up method.例文帳に追加

テープ巻き直し工程を経ることなくテープの良・不良選別を行って、コストの低減及び製品歩留まりの向上を図ることができるテープ巻装体の検査装置及び検査方法、並びにテープ巻取装置及びテープ巻取方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat shrinkable film made of a polyester-based material, particularly suitable for wrap around labeling which includes direct wrapping, attachment, or fixation from a film roll without requiring a preliminary step, unlike a sleeve process which essentially requires a commonly-known width-direction heat shrinkage.例文帳に追加

一般的な幅方向の熱収縮性を必要条件とするスリーブ方式とは異なり、事前工程を要せずにフィルムロールから直接巻き付け、装着又は固定し得るラップラウンド方式のラベリングに特に適したポリエステル系熱収縮フィルムを提供する - 特許庁

In a leader pin loading process step, a grip holding groove 41A holding a clip 11 has a suction path 41B and sucks the magnetic tape MT through a through-hole 11E of the clip 11, thereby bringing the magnetic tape MT into tight contact with an inner peripheral surface 11C of the clip 11.例文帳に追加

リーダピンの装着工程において、クリップ１１を保持するクリップ保持溝４１Ａは、吸引路４１Ｂを有し、クリップ１１の貫通穴１１Ｅを介して磁気テープＭＴを吸引し、磁気テープＭＴをクリップ１１の内周面１１Ｃに密着させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can effectively prevent the occurrence of curling in paper in consequence of a difference in quantities of heat acting on both sides of the paper in a fixing process step by eliminating the difference in temperature between a heating roller and pressurizing roller configurating a fixing device.例文帳に追加

定着装置を構成する加熱ローラと加圧ローラとの温度差をなくし、定着工程において用紙の表裏面に作用する熱量の差に起因して用紙にカールが生じるのを効果的に予防することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method suitable for a practically commercial scale process, including no expensive step, as a method for synthesizing (S)-7-hydroxy-3-(4'-hydroxyphenyl)-4-methyl-2-{4"-[2'''-(1-piperidino)-ethoxy]phenyl}-2H-benzopyrane 4',7-bistrimethyl acetate.例文帳に追加

（Ｓ）−７−ヒドロキシ−３−（４’−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−２−（４”−［２’’’−（１−ピペリジノ）−エトキシ］フェニル）−２Ｈ−ベンゾピラン ４’，７−ビストリメチルアセテートの合成方法として、費用のかかる工程を含まない、実際の商業用スケールのプロセスに適する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique capable of directly synthesizing highly dispersible ceria-zirconia solid-solution particulates having excellent uniform mixability with a ternary catalyst and a function as a promoter in a step in which the particles are not subjected to heat treatment in the atmospheric air by a simple process.例文帳に追加

三元触媒との均一混合性に優れた、助触媒としての機能を有する高分散性のセリア−ジルコニア固溶体微粒子を、大気中における加熱処理を経ない段階において、簡易なプロセスにより、直接に合成し得る手法の提供。 - 特許庁

To provide a technique capable of reducing the amount of excess sludge to be produced from a biological treating process step of organic sewage to substantially zero and effectively removing ammonia nitrogen in the anaerobically digested desorption liquid of the sludge without using chemicals, such as methanol, at all.例文帳に追加

有機性汚水の生物処理工程から発生する余剰汚泥量を実質的にゼロにでき、かつ汚泥の嫌気性消化脱離液中のアンモニア性窒素をメタノールなどの薬品を一切使用することなく、効果的に除去できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mixed gas for producing methane, by which a mixed gas usable for synthesizing methane is produced in a single step at low pressure and the long-term operation of a production process is made possible because the catalyst loss is reduced.例文帳に追加

本発明は、メタンの合成に利用可能な混合ガスを、低圧且つ１段で製造することができ、しかも触媒損失が小さいことにより製造プロセスの長期運転が可能な、メタン製造用混合ガスの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyvinyl alcohol-based film stained with iodine, by which the amount of iodine contained in the film can be conveniently controlled without using a step of immersing the polyvinyl alcohol-based film in an iodine aqueous solution.例文帳に追加

ヨウ素染色されたポリビニルアルコール系フィルムを製造する方法であって、ヨウ素水溶液にポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する工程を用いることなく、当該フィルム中に含有されるヨウ素の量を簡便にコントロールできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The damage given to the element by the plasma process is reduced to the utmost by reducing the density of electric charges accumulated in a gate electrode during the course of anisotropic etching performed in the LDD forming step, by forming an LDD in a state where a conductive protective film is formed to cover the whole surface of a substrate.例文帳に追加

基板全面を覆うように導電性保護膜を形成した状態でＬＤＤを形成することで、ＬＤＤ形成工程の異方性エッチングにおいて、ゲート電極に蓄積される電荷密度を低減し、プラズマによる損傷を極力低減する。 - 特許庁

The process contains a step to contact the alkane with a chromium-based dehydrogenation catalyst in the presence of carbon dioxide at about 400°C to about 700°C under a pressure of about 0.1 to about 10 atm at an alkane/carbon dioxide molar ratio of about 1:0.0001 to 1:0.045.例文帳に追加

当該プロセスは、アルカンをクロム系脱水素触媒と、二酸化炭素の存在下、約４００℃から約７００℃の温度、約０．１から約１０気圧にて、当該アルカンと二酸化炭素のモル比率を約１：０．０００１から１：０．０４５として接触させることを含む。 - 特許庁

The optical detecting substrate 1 is manufactured by a process for forming a thin film, which changes the affinity with water by irradiation with an active energy beam, on the surface of the substrate and by a step for selectively irradiating the thin film with the active energy beam.例文帳に追加

光学検出用基板１は、基板１の表面上に、活性エネルギー線の照射により水との親和性が変化する薄膜を形成する工程と、該薄膜に対して活性エネルギー線を選択的に照射する工程を有する方法で製造できる。 - 特許庁

These wire- shaped semiconductor films 2a play the role as protective films to protect the leader wiring 14 and protect the leader wiring 14 from an etchant of a contact hole forming process step even in case of the occurrence of pinholes in insulating films 15 covering the leader wiring 14.例文帳に追加

この線状半導体膜２ａが引出し配線１４を保護する保護膜としての役割を果たすのであり、引出し配線１４を覆う絶縁膜１５にピンホールが生じた場合にも、コンタクトホール形成工程のエッチング液から引き出し配線１４を保護する。 - 特許庁

In the process for desulfurizing the molten pig iron with the use of the mechanical stirring type desulfurization device, this desulfurizing method includes a step of adding the desulfurizing agent 7 onto the bath surface of the molten pig iron 3 which is being stirred by a stirring blade 4, by top-blowing it through a top-blowing lance 5 together with a carrier gas.例文帳に追加

機械攪拌式脱硫装置を用いた溶銑の脱硫方法において、攪拌羽根４によって攪拌されている溶銑３の浴面上に、脱硫剤７を、上吹きランス５を介して搬送用ガスと共に上吹き添加して脱硫処理を行う。 - 特許庁

Then, in the step of manufacture, mounting of the display element 3 to the printed circuit board 2 and connection of the printed circuit board 2 and the casing 1 are merely necessitated and the need for work, such as mounting of the display element 3 to the casing 1 is eliminated and the manufacturing process is simplified.例文帳に追加

したがって、製造する段階では、表示素子３のプリント基板２への取り付けと、プリント基板２と筐体１との接続とを行えば良く、表示素子３の筐体１への取り付け等の作業が不要となり、製造工程が簡素化される。 - 特許庁

The guidelines in the KIPO are made based on the leading case of the Supreme Court of Korea, and clearly state that the product itself manufactured by the process described in the claims has to be compared with the prior art in assessing its inventive step. 例文帳に追加

KIPOの審査基準は、韓国最高裁（大法院）の主要判例に基づいたものであり、進歩性を判断する際には、クレームに記載される方法によって製造される物自体を先行技術と比較しなければならない旨が明確に規定されている。 - 特許庁

A wafer W is equipped with a resist cured film 79 formed through an ion implantation process, and the wafer W is subjected to processing so as to expose the resist cured film 79 to water vapor kept at a prescribed temperature, whereby the the resist cured film 79 is popped out (step 4).例文帳に追加

イオン注入処理等によって形成されたレジスト硬化膜７９を備えたウエハＷを、このレジスト硬化膜７９が所定温度の水蒸気に曝されるように処理することによってレジスト硬化膜７９にポッピングを生じさせる（ステップ４）。 - 特許庁

A photosensor 183 installed in a falling hole 182 detects tokens M falling the supply chute 18, and when the detection time is continued for a first prescribed time, an intake means 17 is opened to stop the incorporation of the tokens M as a first process step.例文帳に追加

補給シュート１８を流下するメダルＭを流下口１８２に装着したフォトセンサ１８３によって検知し、その検知時間が第１の所定時間続いたときは、第１処理段階として、取込手段１７を開放してメダルＭの取り込みを停止する。 - 特許庁

Accordingly, the single wafer substrate cleaning facility and backside cleaning method of substrate, which can simplify a process step and saving a cost therefor by simplifying the facility for cleaning the backside of substrate and can minimize the contamination of the substrate by particles, can be provided.例文帳に追加

従って、基板の裏面を洗浄するための設備を簡素化して費用を節減し、工程ステップを簡素化することができ、パーティクルによる基板の汚染を最小化できる枚葉式基板洗浄設備及び基板の裏面洗浄方法を提供することができる。 - 特許庁

The generation of the yellow rust during a cleaning process step is prevented by subjecting the coiled wire 4 to auxiliary showering with the shower water controlled to a pH of a certain specified range by a pH controller 9 using auxiliary shower pipes 31, 32 and 33.例文帳に追加

補助シャワー管３１・３２・３３を使用してｐＨ制御装置９によってある一定範囲内のｐＨに制御されたシャワー水をコイル状線材４に補助シャワーすることにより、洗浄工程中の黄錆発生を防止することを特徴とする。 - 特許庁

In that process, since a step especially hindering passage does not exist though the first and second slopes 10-5a and 10-5b have 1/15 up-grade, the wheelchair user can enter the dwelling house 1 without special difficulty under the state of sitting on a wheelchair.例文帳に追加

その過程では、第１のスロープ１０−５ａと第２のスロープ１０−５ｂには１／１５の昇り勾配はあるものの特に通行の障害となる段差はなく、車椅子使用者は車椅子に着座したまま特に困難無く住宅１内に入ることができる。 - 特許庁

To obtain an attention-calling wire or tape in an easy process eliminating a troublesome step of separately providing a spiral belt member and a reflective part for attention calling, such as the one proposed in the prior art, and to provide an apparatus and method for manufacturing the attention-calling wire or tape.例文帳に追加

本発明の課題は、従来の提案に見るようなスパイラルのベルト部材と注意喚起の反射部を別に設ける面倒さを無くして、容易な工程で注意喚起線又はテープを得ること、及びその作成装置と方法を提供することである。 - 特許庁

The timing for the irradiation with the UV rays is so set that the ending time of the required process step and the end time of the irradiation with the UV rays nearly coincide, by which the standby time is not disposed during the time after the end of the irradiation with the UV rays and the start of rotational spreading.例文帳に追加

工程所要時間終了時と紫外線照射の終了時とがほぼ一致するように紫外線照射タイミングを設定することによって、紫外線照射終了後、回転展延開始迄の間に待機時間を設けないようにした。 - 特許庁

The method further comprises a step of controlling an intensity of light emitted by the LEDs during an image capture process such that intensity of light emitted by one region of the LEDs is different than intensity of light emitted by another region of the LEDs.例文帳に追加

この方法はさらに、ＬＥＤの１つの領域によって放射される光の強度が、ＬＥＤの他の領域によって放射される光の強度と異なるように、画像取込みプロセス中にＬＥＤによって放射される光の強度を制御するステップを含む。 - 特許庁

To print a pin-hole-free and favorable and all over coating film, a negative mask or a positive mask by a method applicable to the manufacturing of a cylindrical gravure plate, flexographic plate, endless offset plate or rotary screen plate and comprising the process of repeating one round coating in a rotation direction by step feed in an axial direction.例文帳に追加

円筒状のグラビア版、フレキソ版、エンドレスオフセット版、ロータリースクリーン版の製造に適用でき、回転方向一周塗りを軸方向ステップ送りして反復する方式により、ピンホールが生じない良好な全面塗膜又はネガマスク又はポジマスクをプリントする。 - 特許庁

The multilayered container comprises the polyester resin layer, an adhesive resin layer, and the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties wherein the melting point of the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties is not lower than 150°C, and it is molded by a two-step blow molding process.例文帳に追加

ポリエステル樹脂層、接着性樹脂層、及び接着性兼ガスバリヤー性樹脂層から成る多層容器であって、前記接着性兼ガスバリヤー性樹脂の融点が１５０℃以上であり、２段ブロー成形法により形成されることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method capable of efficiently manufacturing a shaft with which the characteristics of fibers forming FRPs are sufficiently exhibited and the appearance and quality are excellent by making it possible to omit a polishing process step after curing and molding and minimizing the void remaining between the FRP layers.例文帳に追加

硬化成形後の研摩工程を省略でき、かつ、ＦＲＰ層間にボイドの残留を極めて少なくすることで、ＦＲＰを構成する繊維の特性を充分発現させ、しかも外観品質に優れたシャフトを効率的に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

In a finishing step of an electrolytic process shown in (C), a tip end part 11 in the axial direction of an electrode 10 is expanded in the radial direction so that the clearance between the workpiece 90 and the electrode 10 is kept approximately constant while applying voltage between the workpiece 10 and the electrode 10.例文帳に追加

、（ｃ）に示す電解工程の仕上げ加工工程において、ワーク９０と電極１０との間に電圧を印加しつつ、電極１０の軸方向の先端部１１をワーク９０と電極１０との間隔が略一定となるように径方向に拡大する。 - 特許庁

When the angle error of the V-groove falls within the distance-adjustable range, a process of a change in the edge point distance to the x-axis as an angle adjustment to the tool edge point, and grooving work is repeated until the angle error of the V-groove falls within a tolerance (step S101 to S109).例文帳に追加

Ｖ溝の角度誤差が距離で調整可能な範囲内になると、Ｘ軸との刃先距離を変化させて工具の刃先の角度調整を行って、溝加工する処理をＶ溝の角度誤差が公差内になるまで行う（ステップＳ１０１〜Ｓ１０９）。 - 特許庁

To provide a coating liquid which largely reduces an operation step in a coating process, forms a coating film by one time operation of application, drying and baking, can freely control the thickness of the coated film and is inexpensively prepared, and to provide an electrode for electrolysis superior in productivity by using the coating liquid.例文帳に追加

塗布工程における作業工程を大幅に削減し、かつ、１回の塗布、乾燥、焼成により形成される被膜厚みを自由にコントロールしうる、安価な組成の塗布液、及び該塗布液を使用し生産性に優れた電解用電極を提供。 - 特許庁

On the other hand, when the number of pages of the original is the prescribed number or less (No in step S3), the digital copying machine 1 executes a printing process using a high speed criss-cross sorting for outputting a head page in the SEF direction and then outputting the other pages in the LEF direction.例文帳に追加

一方、原稿のページ数が所定数以下の場合（ステップＳ３においてＮｏ）、デジタル複写機１は、先頭ページをＳＥＦ方向で出力し、他のページをＬＥＦ方向で出力する高速クロスソートを利用した印刷処理を実行する（ステップＳ５）。 - 特許庁

Furthermore, when a film of Cu layer/Cu alloy layer/Cu plated buried layer 6 is formed, by conducting this at a room temperature, with the result that a close adhesion between the respective laminated layers have full strength, and a leveling process by a CMP in a next step can be executed.例文帳に追加

またＣｕ層／Ｃｕ合金層／Ｃｕメッキ埋め込み層の成膜時の基板温度は何れも室温で行うことで、各積層間の密着性は十分な強度をもつものとなり、次工程のＣＭＰによる平面化処理を実施することができる。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

The kind code and lot name in the implementation and the step No. indicating the position on the manufacture procedure in the operator's console 1 are transmitted to the unit control parts and information on them is transmitted to the operator's console 1 when the process of a unit control part ends to confirm the manufacture implementation.例文帳に追加

製造実行中の品種コード、ロット名称、オペレータズコンソール１内の製造手順上の位置を示すステップＮｏ．をユニット制御部へ送達し、ユニット制御部の処理終了時にこれらの情報をオペレータズコンソール１に送達して実行の確認を行う。 - 特許庁