「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

Data processing, such as encoding, decoding and word length processing is applied to an input signal to predict deterioration quantity, in the case of performing electronic watermark embedding processing of the input signal, and an electronic watermark pattern corrected, on the basis of prediction results, is generated and embedded into the input signal.例文帳に追加

入力信号に対して電子透かし埋め込み処理を実行する際に、入力信号に対して符号化復号化、語長変換などのデータ処理を実行して劣化量を予測し、予測結果に基づいて補正した電子透かしパターンを生成して入力信号に対して埋め込む。 - 特許庁

A CPU 12 starts a playback processing task for executing a loop playback processing and executes a plurality of playback processing tasks in parallel every time a material selection operation for instructing a playback of a phrase pattern pp-k corresponding to a mark cf-k on a feature distribution screen is performed.例文帳に追加

特徴分布画面のマークｃｆ−ｋと対応するフレーズパターンｐｐ−ｋの再生を指示する素材選択操作を行うたびに、ＣＰＵ１２は、ループ再生処理を実行するタスクである再生処理タスクを立ち上げ、複数の再生処理タスクを並列して実行する。 - 特許庁

A transmitting/receiving device includes a mapping processing means 30 having a transform processing circuit 31 for mapping and a mapping arithmetic circuit 32, performs sign processing for mapping to a sending signal in a converting circuit 31 for mapping, performs mapping to the sending signal in mapping arithmetic circuit, and performs transformation to the mapping pattern in the mapping arithmetic circuit 32.例文帳に追加

マッピング処理手段３０ではマッピング用変換処理回路３１及びマッピング演算回路３２を備え、マッピング用変換回路３１において送信信号に対してマッピングのための符号処理を行い、マッピング演算回路３２においてマッピングパターンへの変換を行う。 - 特許庁

When specified big win patterns is defined to be displayed on a special pattern display device 6, a time shortening processing (S81) is executed and the variable display of special figures are forbidden (S93) to execute a big win processing (S94) while a processing of winning specified starting scoring slots (S95) is executed.例文帳に追加

特別図柄表示器６で特定大当図柄が確定表示されたら、時短処理（Ｓ８１）を実行し、特別図柄の変動表示を禁止（Ｓ９３）して大当り処理（Ｓ９４）を実行すると共に、特定始動入賞口入賞処理（Ｓ９５）を実行する。 - 特許庁

In a slot machine 1, when the special favor is awarded by a game processing (S7) and when win is earned by an image acquisition lottery processing (S6), by the operation of a screen shot operation part 210 in an image acquisition processing (S9), a screen shot pattern 115 is generated from a lower liquid crystal display 4.例文帳に追加

スロットマシン１において、ゲーム処理（Ｓ７）で特典が付与され、画像取得抽選処理（Ｓ６）に当選すると、画像取得処理（Ｓ９）でスクリーンショット操作部２１０の操作を行うことで、下部液晶ディスプレイ４に基づくスクリーンショット図柄１１５が生成される。 - 特許庁

When receiving information related to a coding pattern in a region away from a range on the screen 4 specified by the processing of positioning (calibration), the computer device 2 displays a selection picture for selecting whether to perform positioning processing, and starts the positioning processing according to the selection by a user.例文帳に追加

コンピュータ装置２は、位置合わせ（キャリブレーション）の処理によって規定されたスクリーン４上の範囲から外れた領域におけるコード化パターンに関する情報を受信すると、位置合わせ処理を行うかどうかの選択画面を表示させ、ユーザの選択により、位置合わせ処理を開始する。 - 特許庁

When the user inputs that the quality of the recording result is bad to the recording result confirmation request means 102D, a mode for recovery processing by a purging processing means 22, which is executed after the end of the recording of the check pattern, is changed corresponding to the degree of the bad state by a recovery processing control means 102A.例文帳に追加

記録結果確認要求手段１０２Ｄに、記録結果が不良であるとの入力がなされた場合に、チェックパターンの記録終了後に行う、パージ処理手段２２による回復処理の態様を、回復処理制御手段１０２Ａによって不良の程度に応じて変更する。 - 特許庁

An encoding part 110 of a terminal device 100 performs bit interleave, frequency interleave and time interleave as interleave processing of a transmission system 1, and performs various interleave processing according to a rearrangement pattern different from that of the transmission system 1 as interleave processing of a transmission system 2.例文帳に追加

端末装置１００の符号化部１１０は、送信系統１のインタリーブ処理として、ビットインタリーブ、周波数インタリーブおよび時間インタリーブを行い、送信系統２のインタリーブ処理として、送信系統１とは異なる並び替えパターンに従った各種のインタリーブ処理を行う。 - 特許庁

A large-sized texture processing section 55 applies first texture processing using colors of the pixels to the data of the plurality of pixels selected by the large-sized processing target selecting section 53 while using a drawing pattern of the drawing direction determined by the large-sized drawing direction determining section 54.例文帳に追加

サイズ大テクスチャ処理部５５は、サイズ大描画方向決定部５４により決定された描画方向の筆運びパターンで、サイズ大処理対象選択部５３によって選択された複数の画素のデータについて、その画素の色を用いた１回目のテクスチャ処理を施す。 - 特許庁

In the processing of s502, whether or not a device (printer 20) on the side to be set is provided with the function (acquisition function) for performing a part of the processing relating to setting is decided and commanding by the succeeding processing is performed in a pattern corresponding to the decided result (branching of YES and NO).例文帳に追加

ｓ５０２の処理において、設定される側のデバイス（プリンタ２０）が設定に関する処理の一部を行う機能（取得機能）を有しているか否かを判定し、その判定結果に応じたパターンで以降の処理による指令を行うことができる（ＹＥＳ，ＮＯの分岐）。 - 特許庁

A control part 1 carries out an image processing, first, by obtaining and recognizing a radiographing part of a radiographed image when detecting an image processing parameter setting order, and by reading out a plurality of processing parameter pattern corresponding to the radiographing part from a memory part 6.例文帳に追加

本第１の実施の形態の処理パラメータの設定処理において、制御部１はまず、画像処理の処理パラメータ設定指示を検出すると、撮影された画像の撮影部位を取得して認識し、該撮影部位に応じた複数の処理パラメータパターンを記憶部６から読み出し、画像処理を行う。 - 特許庁

When the retention time in the specified start prize port winning processing (S96), the processing of S93 is released to start the variable display of special pattern (S110), and the time reducing processing (S81) is performed until all retained balls of the number stored during the retention time HT are consumed.例文帳に追加

そして、この特定始動入賞口入賞処理（Ｓ９６）にて保留時間がＨＴになったら、Ｓ９３の処理を解除して特別図柄の変動表示を開始し（Ｓ１１０）、保留時間ＨＴの間に記憶した保留球数が全て消化するまで時短処理（Ｓ８１）を実行する。 - 特許庁

When the retention time is HT in this specified prize port winning processing (S96), the processing of S93 is released to start the variable display of special pattern (S110), and the time reducing processing (S81) is performed until all retained balls of the number stored during the retention time HT are consumed.例文帳に追加

そして、この特定始動入賞口入賞処理（Ｓ９６）にて保留時間がＨＴになったら、Ｓ９３の処理を解除して特別図柄の変動表示を開始し（Ｓ１１０）、保留時間ＨＴの間に記憶した保留球数が全て消化するまで時短処理（Ｓ８１）を実行する。 - 特許庁

When the number of retained balls (retained memory) is H in the specified starting prize port winning processing (S95), the processing of S93 is released to start the variable display of special pattern (S112), and the reduction-in-time processing (S81) is executed until the retained ball number H is entirely used up.例文帳に追加

そして、この特定始動入賞口入賞処理（Ｓ９５）にて保留球数（保留記憶）がＨになったら、Ｓ９３の処理を解除して特別図柄の変動表示を開始し（Ｓ１１２）、保留球数Ｈが全て消化するまで時短処理（Ｓ８１）を実行する。 - 特許庁

To provide a processing method and processing apparatus of a wiring board which does not cause deterioration such as peeling of a copper foil and a solder which form a circuit pattern when divided, and performs processings efficiently, with no sticking of a carbide and no residual crack on the surface of the wiring board and a cutting plane after processing.例文帳に追加

加工後に、配線基板表面や切断面に炭化物の付着、割れの残留がなく、分割時に回路パターンを形成する銅箔やはんだが剥離するなどの品質低下を招くことのない加工を効率よく行うことが可能な配線基板の加工方法および加工装置を得る。 - 特許庁

An information processing system 10 is provided with: a screen 4 on which a coded pattern showing position coordinates is formed; a reading means 1 for reading the coded pattern; a computer device 2 for receiving information on the coded pattern transmitted from the reading device 1, and for performing processing corresponding to the information; and a projector 3 for receiving an image signal from the computer device 2, and for projecting an image on the screen 4.例文帳に追加

情報処理システム１０は、位置座標を示すコード化パターンが形成されたスクリーン４と、前記コード化パターンを読み取る読取手段１と、読取手段１から送信されたコード化パターンに関する情報を受信して、当該情報に応じた処理を行うコンピュータ装置２と、コンピュータ装置２からの画像信号を受信して、スクリーン４に画像を投影するプロジェクター３とを備える。 - 特許庁

An appropriate binarization threshold is automatically set by adopting processing that a standard deviation in a repeating pattern area is measured from the extracted image as binarization processing, that a threshold responding to the standard deviation is calculated and binarized and that the standard deviation is subsequently measured again and the threshold is binarized with a pixel decided as a repeating pattern by the binarization as a true repeating pattern part.例文帳に追加

また、２値化処理として、抽出画像から繰り返しパターン領域内の標準偏差を計測し、標準偏差に応じたしきい値を求めて２値化した後、その２値化で繰り返しパターンと判定された画素を真の繰り返しパターン部として、再度標準偏差の計測としきい値を求めて２値化するという処理を採用することで、適切な２値化しきい値を自動的に設定する。 - 特許庁

The method of processing the glass substrate has a first step S1 for polishing the processing surface of the glass substrate, a third step S3 and a forth step S4 for forming an etching mask on the processing surface and a fifth step S5 for pattern-forming a micro-processed uneven structure on the processing surface of the glass substrate by wet-etching.例文帳に追加

本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 - 特許庁

Characteristic configuration technique to be constituted by passing a test procedure manual creating means 4 to create a test procedure manual 5 to indicate test procedures about a 'processing function A', a 'processing function B' by inputting function pattern tables 2', 3 to express the 'processing function A', the 'processing function B', etc., described in program specifications 1 of a testing object by standardized patterns is adopted.例文帳に追加

試験対象物のプログラム設計書１に記載された［処理機能Ａ］，［処理機能Ｂ］などを、標準化したパターンで現した機能パターン表２’，３が入力されることで、当該［処理機能Ａ］，［処理機能Ｂ］についての試験手順を示す試験手順書５を作成する試験手順書作成手段４を経てなる特徴的構成手法の採用。 - 特許庁

Also, when the input data are a pattern (1001110111), and when data are a pattern (110111) and next three channel bits are "010", the minimum run continuation limit processing part 52 outputs a corresponding code sequence, while outputs a minimum run continuation limit data detecting flag "on".例文帳に追加

また、最小ラン連続制限処理部52は、入力データがパターン（1001110111）である場合、並びにデータがパターン（110111）であり、次の３チャネルビットが“010”である場合、対応する符号列を出力すると共に、最小ラン連続制限データ検出フラグonを出力する。 - 特許庁

The imaging unit is provided with an identification part 1-10 for identifying the pattern of the imaged image, and auto-focus control parts 1-4 to 1-9 for changing a processing method for auto-focus on the basis of the pattern information of the image identified by the identification part.例文帳に追加

撮像した画像のパターンを識別する識別部１−１０と、識別部により識別された画像のパターン情報に基づいてオートフォーカスを行なうための処理方法を変更するオートフォーカス制御部１−４〜１−９と、を備える。 - 特許庁

Also, a horizontally rotating pattern is stopped at the pattern announcing changeover to a third display surface 9c in advance (Figure (D)), and the processing of switching the display surface facing the player from the second display surface 9b to the third display surface 9c is performed (Figure 44(E)).例文帳に追加

また、横回転図柄を第３表示面９ｃへの切換を予告する図柄で停止させ（図４４（Ｄ））、遊技者に正対する表示面を第２表示面９ｂから第３表示面９ｃに切り換える処理を実行する（図４４（Ｅ））。 - 特許庁

Subsequently, actual print processing is performed using a correction printing plate 18 with a pattern region PT2 which is corrected to contract in fan-shape in the reverse direction based on the deformation ratio so that the pattern enlarged in fan-shape is corrected.例文帳に追加

そして、当該扇状に拡大したパターンを補正するように、変形の割合に基づいて逆方向の扇状に縮小修正されたパターン領域ＰＴ２を備える修正印刷版１８を用いて実際の印刷処理が行われる。 - 特許庁

To provide a method of preventing collapse of a resist pattern owing to microfabrication of a pattern dimension, and preventing adverse effects on subsequent processes, in executing development processing for an exposed resist film formed on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配も無い方法を提供する。 - 特許庁

In a transparent solid matter, by processing for drawing a predetermined display pattern by irradiating it with laser light from the outside, crack groups consisting of lots of cracks are generated along the display pattern inside of the solid matter, so as to be used as a display device.例文帳に追加

透明な固体の外部からレーザ光を照射して所定の表示パターンを描く加工を施すことによって、前記固体の内部に前記表示パターンに沿った多数のクラックから成るクラック群を生成せしめ、ディスプレイ装置とした。 - 特許庁

The resolution determination technique of lithography adds background light by performing all transmission exposure with the exposure amount of such a degree that an estimation pattern is resolved to intentionally deteriorate an exposure state followed by an exposure processing of the estimation pattern.例文帳に追加

本発明のリソグラフィの解像力判定手法は、評価パターンの露光処理に引き続き、この評価パターンが解像する程度の露光量で全透過露光を行うことで、バックグラウンド光を付加して、露光状態を故意的に劣化させる。 - 特許庁

To provide a curable resin embossed decorative panel having an embossed pattern not flattened at the time of manufacturing and printing or use even if the embossed pattern is formed to a coating film of a thermosetting resin by emboss processing to show good shape durability and having good surface durability and a high design effect.例文帳に追加

熱硬化性樹脂の塗膜にエンボス加工で凹凸模様を賦形しても、製造時や使用時に凹凸模様が平坦化せずその形状の耐久性が良く、また表面の耐久性も良好で、高意匠も可能な化粧板を得る。 - 特許庁

In an optical system 4 of a laser device 1 including at least one diffraction element 7, dichroic mirrors 8 and 9, and reflection mirrors 10 and 11, a pattern 6' of a guide laser beam 3 is adjusted to a pattern 6 of a processing laser beam 2.例文帳に追加

レーザ装置１の光学系４は、少なくとも１つの回折素子７、二色性ミラー８、９及び反射鏡１０、１１を含んで構成され、案内用レーザ光線３のパターン６′が加工用レーザ光線２のパターン６に適合される。 - 特許庁

Thus, an increase in a communication load and a processing load between the main control device and the performance pattern control device is restrained, and a performance based on read-ahead determination for the drop drawing and jackpot drawing is performed by the performance pattern control device.例文帳に追加

これにより、主制御装置と演出図柄制御装置との間の通信負荷や処理負荷の増加を抑えつつ、演出図柄制御装置にて転落抽選と大当り抽選についての先読み判定に基づく演出を行う。 - 特許庁

A signal processing part 334 obtains a distance S between the receiver 31 and an ear of a user (the degree of closure of an ear hole) on the basis of the reflection signal D(n) and a sound source signal X(n), and a correction pattern determination part 335 outputs a correction pattern P(S) corresponding to the distance S.例文帳に追加

そして反射信号D(n)と音源信号X(n)に基づいて、信号処理部３３４が、レシーバ３１とユーザの耳との距離S（耳穴の密閉度）を求め、補正パターン決定部３３５が、この距離Sに応じた補正パターンP(S)を出力する。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by optimizing a multi-layer metal structure of a wiring pattern and by forming the wiring pattern of main metal and sub-metal by liquid processing such as ink-jet coating.例文帳に追加

配線パターンを有する基板及びそれを用いた液晶表示装置において、配線パターンの多層金属構造を最適化し、インクジェット塗布等の液体プロセスにより主金属と副金属の配線パターンを形成することで、生産工程を簡素化する。 - 特許庁

To provide a surface processing method of printed circuit board for forming a fine circuit pattern and enhancing adhesive force between a circuit pattern and printed circuit board resin, and provide printed circuit board resin processed by this method.例文帳に追加

微細な回路パターンを形成でき、かつ回路パターンと印刷回路基板樹脂との接着力を向上させることができる印刷回路基板樹脂の表面処理方法及びこの方法で処理した印刷回路基板樹脂を提供する。 - 特許庁

In reading processing, a feature portion is detected from an image imaged by a light-receiving sensor 23 (step S1), and it is tried to match a pattern of the detected feature portion with the feature pattern of which correspondence relationship is stored in the memory 35 (step S2).例文帳に追加

読み取り処理においては、受光センサ２３により撮像された画像から特徴部分を検出し（ステップＳ１）、検出した特徴部分のパターンとメモリ３５に対応関係が記憶されている特徴パターンとのマッチングを試みる（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a control method thereof capable of sufficiently coping with furthermore fining of a pattern by preventing alteration of the resist so as to suppress variations in the line width of the pattern, even when exposure such as electronic beam exposure takes much processing time per one substrate.例文帳に追加

電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。 - 特許庁

To provide a re-variation processing system for game machine for applying variety to a game by reducing the bore of a player caused by the re-variation of a great success picture pattern temporarily stopped and displayed on a picture pattern display device just for a predetermined fixed number of times.例文帳に追加

図柄表示装置に暫定的に停止表示された大当り図柄を、予め決められた固定回数だけ再変動することによる遊技者の飽きを軽減し、遊技に変化を与える遊技機用再変動処理方式を提供すること。 - 特許庁

Conventionally, since the identification information to be stopped is determined and the variation pattern is determined in accordance with the determined identification information, processing for determining the variation pattern in accordance with the number of arrayed identification information to be determined is complicated.例文帳に追加

従来は、停止させる識別情報を決定し、その決定された識別情報に応じて変動パターンを決定していたため、決定され得る識別情報の配列数に応じて、変動パターンを決定する処理が複雑化していた。 - 特許庁

This semiconductor board includes an underlayer wire 13 on a base film 11, and a position detecting channels 15 indicating a reference position of the processing pattern as well as a contact hole 14 is pattern-formed on an interlayer insulation film 12 formed on the upper surface.例文帳に追加

この半導体基板は、下地膜１１上に下層配線１３を有し、その上面に形成された層間絶縁膜１２には、コンタクトホール１４とともにその加工パターンの基準位置を示す位置検出溝１５がパターン形成されている。 - 特許庁

To provide an image processor that prevents the occurrence of moire stripes in a print output image by preventing interference between a periodical pattern included in input image data and a matrix pattern of a threshold matrix set during screen processing.例文帳に追加

入力画像データに含まれる周期パターンと、スクリーン処理時に設定される閾値マトリクスのマトリクスパターンとが干渉するのを防止して、プリント出力画像にモアレ縞が発生するのを防止することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

During muting when the display device is turned on, the test pattern generation block 10 generates a predetermined test pattern and the CRC determination processing block 12 determines whether the internal circuit has errors or not by the CRC result.例文帳に追加

ここでは、表示装置の電源ＯＮ時などミュートをかけている間に、テストパターン発生ブロック１０で所定のテストパターンを発生させ、ＣＲＣ判定処理ブロック１２は、そのＣＲＣ結果により内部回路に誤りがないかどうかを判断する。 - 特許庁

To provide a method for forming a reticle by which the gap between a chip end and a dummy pattern can be made uniform, the time for producing and processing the dummy pattern can be reduced, and the amount of reticle data can be reduced, and to provide a program for forming a reticle.例文帳に追加

チップ端辺−ダミーパターン間の間隔を均等にすることが可能であり、ダミーパターンの発生処理時間の短縮化およびレチクルデータ量の削減が可能なレチクルの作成方法、およびレチクルの作成プログラムを提供することである。 - 特許庁

A selector selects an image signal not passing through the filter for a latent mark of the copy-forgery-inhibited pattern whose image area flag is set as "Character", and selects an image signal subjected to the processing by the filter for a copy-forgery-inhibited pattern background part whose image area flag is set as "Photograph".例文帳に追加

セレクタは、像域フラグが「文字」に設定さている地紋の潜像については、フィルタを通らない画像信号を選択し、「写真」に設定されている地紋背景部についてはフィルタの処理がなされた画像信号を選択する。 - 特許庁

The CPU 120 corrects a pattern image for adjustment based on the calculated light valve white area Sq to rewrite the content of a pattern image memory 107 and designates an image processing part 108 and a liquid crystal light valve driving part 110 or the like to project the image.例文帳に追加

ＣＰＵ１２０は算出したライトバルブ白色面積Ｓｑに基づき、調整用パターン画像を修正して、パターン画像メモリ１０７の内容を書き換え、画像処理部１０８，液晶ライトバルブ駆動部１１０などに画像投射を指示する。 - 特許庁

When a test pattern is applied to a memory 101 after relieving processing from a test pattern generating section 105, a data input value is converted utilizing defective address information of a fail information storing section 108 in which fail information of a memory at a wafer test.例文帳に追加

テストパターン生成部１０５からテストパターンを救済処理後のメモリ１０１に印加する際に、ウエハテスト時のメモリのフェイル情報を格納したフェイル情報格納部１０８の不良アドレス情報を利用し、データ入力値を変換する。 - 特許庁

To provide a method for forming a line pattern from an original mask by a proximity exposure method in which the width of a line pattern in a black matrix or black stripes can be decreased to around a 6 μm line width by a PB (post baking) processing.例文帳に追加

近接露光方法による原版マスクからのラインパターン形成方法において、ブラックマトリクスあるいはブラックストライプのラインパターンの幅をＰＢ処理において６μｍレベル線幅と微細化して形成することができるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To easily remove the limit on the shifter width, prevent the narrowing of a gate wiring pattern, wire breaking and retraction, and distortion of a gate electrode pattern, and facilitate the shrinking processing of the device area, and improve the uniformity of the size of an extremely fine gate.例文帳に追加

シフタ幅の制限解消が容易になると共に、ゲート配線パターンの細り、断線及び後退の発生や、ゲート電極パターンの歪みを防止し、デバイス面積のシュリンク処理も容易となり、極微細ゲートの寸法均一性を向上させる。 - 特許庁