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reverse a processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 305



例文

The adjustment process 12 sets the guide vane opening a to satisfy a relation a_r≤a<a_Hmax if relations H≥H1 and N<N1 are satisfied when guide vane opening making reverse flow limit head maxim is defined as a_r and appropriate guide vane opening at maximum head is defined as a_Hmax.例文帳に追加

調整工程12は、逆流限界揚程が最大となるガイドベーン開度をa_rとし、最高揚程時の適正ガイドベーン開度をa_Hmaxとしたとき、H≧H1かつN<N1の場合に、a_r≦a<a_Hmaxとなるようにガイドベーン開度aを調整する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has good-linearity gate voltage to gate current characteristics by preventing a reverse narrow-channel effect without changing a threshold voltage depending upon the wide or narrow channel width, and is provided with a trench isolation type MISFET with a constitution that can be manufactured without increasing the manufacturing process.例文帳に追加

逆狭チャネル効果を防止することにより、チャネル幅の広狭に依存してしきい値電圧が変動することがなく、また良好な直線性のゲート電圧−ドレイン電流特性を示し、かつ工程数を増やすことなく作製できる構成を有する溝分離型MISFETを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

Then, when a secondary transfer process is carried out, a bias of the same polarity as that of toner is applied to the intermediate transfer body 8 by the first power source section 61 so that a current is constant, and a bias of the reverse polarity as that of toner is applied to the secondary transfer member 19 by the secondary power source section 62 so that a voltage is constant.例文帳に追加

そして、2次転写工程がおこなわれるときに、第1電源部61によって電流が一定になるように中間転写体8にトナーと同極性のバイアスを印加するとともに、第2電源部62によって電圧が一定になるように2次転写部材19にトナーと逆極性のバイアスを印加する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that stably exhibits a high reverse recovery withstand independently of the existence and nonexistence of the defects caused during the wafer process for manufacturing the semiconductor device, even if the semiconductor device is a pn-junction diode having a structure, in which an anode electrode is formed on an outer circumferential portion surface of a p-type anode diffusion region with an insulating film interposed.例文帳に追加

p型アノード拡散領域の外周部表面に絶縁膜を介してアノード電極が設けられる構造を有するpn接合ダイオードであっても、該ダイオードを製造する際のウエハプロセスに起因する欠陥の有無に依らず、安定的に高い逆回復耐量を有する半導体装置を提供すること。 - 特許庁

例文

The method of manufacturing the electrochemical capacitor is constituted to form lithium films 8 on obverse and reverse faces of the negative electrode 3 in a predoping process, and to form a protection layer 9 comprising oil containing saturated hydrocarbon as a main component, or oil containing silicone with a side chain of an alkyl group as a main component on the lithium film 8.例文帳に追加

本発明では、電気化学キャパシタの製造方法において、プレドープ工程時に、負極3の表裏面へリチウム膜8を形成し、このリチウム膜8の上に飽和炭化水素を主成分としたオイル、または側鎖がアルキル基であるシリコーンを主成分としたオイルから成る保護層9を形成した。 - 特許庁


例文

To provide a silicon carbide semiconductor device excellent in crystallinity and having a low ON resistance and sufficient heat resistance while ensuring breakdown voltage performance in reverse bias and lowering Schottky barrier in forward bias, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

逆方向バイアスにおける耐圧性能を確保し、かつ順方向バイアスにおけるショットキー障壁を低くした上で、結晶性に優れてオン抵抗が低く、かつ耐熱性を十分に確保した炭化珪素半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing wastewater containing fluorides which can increase the recovery ratio of water by efficiently separating treatment of wastewater containing HF, HBF_4 and NH_4F without clogging the reverse osmosis membrane, and which can highly effectively process the wastewater with a small amount of chemicals.例文帳に追加

HF、HBF_4、NH_4Fを含有する排水を、逆浸透膜の目詰まりなしに効率良く分離処理して水回収率を高めることができ、且つ、少ない薬品量で高効率に処理可能なフッ化物含有排水の処理方法を提供する。 - 特許庁

In the ocean electrolysis plant, fresh water is manufactured from seawater by a reverse osmosis process using electric power obtained from a wind turbine and a hydraulic turbine installed in a channel formed by a multi-hull vessel moored in current of Japan Current, irrigation water simultaneously discharged is concentrated to about 30% concentration by an ion-exchange membrane dialysis process, and caustic soda is manufactured by solution electrolysis of the same.例文帳に追加

本願発明の海洋電気分解工場は、黒潮の流れの中に係留された複胴船によって形成された流路に設備された水車や風車より得られた電力を利用して、海水から逆浸透法により真水を製造し、同時に排出される灌水をイオン交換膜透析法により濃度約30%まで濃縮し、これを溶液電気分解を行い苛性ソーダを製造する。 - 特許庁

In the state of powering off the forward/reverse traveling hydraulic clutch and in the process of operating an engine starting starter motor, the angle of inclination of the pump swash plate is changed into a neutral angle of almost zero inclination by driving the main shift hydraulic cylinder.例文帳に追加

前進用及び後進用油圧クラッチが動力遮断状態にあり、且つ、エンジン始動用のスタータモータが作動中のときは、主変速油圧シリンダの駆動にて、ポンプ斜板の傾斜角度を傾斜略零の中立角度に変更する。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing a magnetic transfer master disk executes an electroforming process using an electroforming device to obtain a master substrate as a metal board having an uneven pattern corresponding to transfer information transferred to its surface from an inversion mold having the reverse uneven pattern, and forms a magnetic layer on the uneven pattern of the master substrate.例文帳に追加

反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳装置を使用した電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a stacked semiconductor integrated device that attains grinding resistance in reverse-surface grinding of a semiconductor wafer, heat resistance in an anisotropic dry etching process etc., chemical resistance during plating and etching, final smooth peeling from a support substrate for processing, and low adherend contamination at the same time.例文帳に追加

半導体ウエハの裏面研削時の耐研削抵抗、異方性ドライエッチング工程などにおける耐熱性、メッキやエッチング時の耐薬品性、最終的な加工用支持基板とのスムースな剥離と低被着体汚染性を同時に成立させる、積層型半導体集積装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin wafer manufacturing method of simultaneously establishing grinding resistance in reverse-surface grinding of a wafer, high temperature heat resistance for heat applied during the process that followed, chemical resistance during plating or etching, smooth peeling of the processed wafer from a support substrate, and excellent removability of adhesive layer residue on a wafer surface after the peeling.例文帳に追加

ウエハの裏面研削時の耐研削抵抗、その後のプロセス中にかかる熱に対する高温耐熱性、めっき又はエッチング時の耐薬品性、加工後のウエハの、支持基板からのスムースな剥離、剥離後のウエハ表面の接着層残渣の優れた除去性を同時に成立させる、薄化ウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The magnesium alloy plate 11 is a plate of magnesium alloy which is subjected to cut process, including a shear plane 11s formed from the main surface side to the middle in the thickness direction in a cut surface 11c, and a fracture surface 11b formed to be inclined from the middle in the thickness direction to the reverse surface side by tearing the plate 11.例文帳に追加

マグネシウム合金板材11は、切断加工されたマグネシウム合金の板材であり、切断面11cにおいて、表面側から厚さ方向の途中まで形成されたせん断面11sと、板材11がむしり取られ、厚さ方向の途中から裏面側に向かって傾斜するように形成された破断面11bとを有する。 - 特許庁

In such a sequential developing process, when there is any substrate in a processing part on the downstream side, in a waiting part just before the processing part, e.g. in a waiting part 3 in case when the processing part is the developer recovery part 4, a roller is repeatedly turned in normal and reverse directions, thereby reciprocating the substrate as shown in a diagram 2.例文帳に追加

この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部4の場合には、その直前の待機部3において、コロ10aに正逆回転を繰り返させ、基板Wを図2に示すように往復動せしめる。 - 特許庁

Additionally, an initial reverse tracking process is performed from the ES to the ED1 by using plural middle layer path candidates, and a path passing through the tracking point on the contours of inner and outer layers or middle layer rearranged at the ED1 is searched, thereby accurately creating and evaluating movement information of each of an endocardium and an epicardium of a cardiac wall.例文帳に追加

また、ESからED1への最初の逆行追跡処理を複数の中層経路候補にて実施して、ED1で再配置した内外膜輪郭や中層上の追跡点を通る経路を探索することで、内外分離した心壁の運動情報を正確に生成し評価可能とする。 - 特許庁

Detection of occurrence of reverse rotation in a process of engine stop is performed by using existing sensor so-called rotation sensors 18-20 provided on an electric motor 10 for drive control of the electric motor 10 connected to the intake cam shaft 7 to be used for drive of a valve timing variable mechanism 9.例文帳に追加

エンジン停止過程での逆回転発生の検出は、バルブタイミング可変機構9の駆動に用いるべく吸気カムシャフト7に連結された電動機10を駆動制御するために電動機10に設けられた回転センサ18〜20という、既存のセンサを利用して行われる。 - 特許庁

In a second process for laser spot welding, the welding points W of the welding materials (12, 14) are irradiated by converging a pulse laser beam LBb for laser beam welding from the reverse side (above) of the stainless steel plate 14, and the stainless steel plate 14 and the steel plate 12 are welded by the energy of the pulse laser beam LBb.例文帳に追加

第2工程のレーザスポット溶接工程では、被溶接材(12,14)の溶接ポイントWに対して、ステンレス板14の背後(上方)よりレーザ溶接用のパルスレーザ光LBbを集光照射し、ステンレス板14とスチール板12とをパルスレーザ光LBbのエネルギーによって溶接する。 - 特許庁

The manufacturing method of the printed wiring board includes a process for filling a through-hole, which is formed in the wiring board with the photosensitive resin, being exposed toward the through-hole from the reverse side face to the face of the filled wiring board, and allowing the photosensitive resin to remain only in the inside of the through-hole by development processing.例文帳に追加

配線基板に形成されたスルーホールに感光性樹脂を充填し、充填した配線基板の面と反対側の面からスルーホールに向けて露光を行い、現像処理によりスルーホール内にのみ前記感光性樹脂を残存させる工程を含むプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

To form an FET having good characteristics by raising the concentration of nitride in the vicinity of the surface of a gate insulating film on the side reverse to the interface of the gate insulating film and a silicon substrate, while suppressing diffusion of nitrogen to the vicinity of the interface, in a process for fabricating a semiconductor device by forming a gate insulating film containing nitrogen on the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板上に窒素含有ゲート絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法であって、ゲート絶縁膜のシリコン基板との界面付近への窒素の拡散を抑制しつつ、界面とは逆側のゲート絶縁膜の表面付近の窒素濃度を高めることにより、良好な特性を有するFETを形成する。 - 特許庁

An article 87 is pulled by the force from the main energizing paths 5a-5c and moved as the whole toward the auxiliary conveyor line 86, but since the belt 37 in the assistant energizing path 5d travels in reverse of other belts 37, the article 86 is rotated in a transfer process to change posture thereof.例文帳に追加

物品87は、主付勢路5a〜5c側からの力に引きずられ、全体として副コンベアライン86側に向かって移動するが、補助付勢路5dのベルト37は、他のベルト37とは逆方向に走行するから、移動過程で回転し、姿勢を変更する。 - 特許庁

In inspection process, a self- traveling type imaging device 3 is set on the upstream side, and the reverse side of the laser receiving plate 33 is imaged by the television camera head part 32 while advancing the self-traveling type imaging device 3 to read the position of the light image 61 on the mesh coordinate 35.例文帳に追加

調査工程においては、上流側に自走式撮像装置3を設置し、自走式撮像装置3を前進させながら、テレビカメラヘッド部32によりレーザ受光板33の裏面を撮像し、メッシュ座標35上の光像61位置を読み取る。 - 特許庁

The manufacturing process is carried out, by injecting a melt of a synthetic resin having a melting point of 250°C or lower on the fluffed surface of the artificial leather fluffed at least on one side and cooling the reverse side to the fluffed surface of the artificial leather while compression molding.例文帳に追加

また、かかる合成樹脂成形物の製造方法は、少なくとも片面が立毛化された人工皮革の該立毛面に、250℃以下の融点を有する合成樹脂の溶融液を射出して、圧縮成形する際に、該人工皮革の該立毛面の反対面が冷却されていることを特徴とするものである。 - 特許庁

On receiving a first reset signal, the reset circuits reset the first and second interrupt causes, and include a circuit that implements a process to reverse the interrupt mask value matching the interrupt cause of the higher priority between the first and second interrupt causes.例文帳に追加

前記リセット回路は、第1のリセット信号を受けると、前記第1の割り込み要因及び第2の割り込み要因のリセットを行い、第1の割り込み要因と第2の割り込み要因のうち優先順位の高い方の割り込み要因に対応した割り込みマスク値を反転させる処理を行う回路を含む。 - 特許庁

More in detail, the inertial force in the forward direction α of the photoreceptor drum 12 is grasped and a forward rotational quantity by the inertial force is taken into consideration to grasp the rotational state, thereby rotating the photoreceptor drum in the reverse direction β by a specified quantity after a specified time has elapsed after the image forming process.例文帳に追加

より詳しくは、感光体ドラム12の正転方向αに対する慣性力を把握し、この慣性力による正転量を加味して回転状態を把握し、画像形成プロセスの終了後、所定時間経過した後に所定量だけ感光体ドラム12を逆転方向βに回転させる。 - 特許庁

In the bumped electronic part mounting method by which an electronic part having gold bumps is mounted on a substrate 1 with use of conductive paste, a gold film 3 is formed on surfaces of electrodes 2 of the substrate 1 by flush plating, and then contaminated layers 3a on the surfaces of the gold film 3 are subjected to a plasma process to be removed by reverse sputtering.例文帳に追加

金のバンプが形成されたバンプ付き電子部品を導電性ペーストによって基板1に実装するバンプ付電子部品の実装方法において、基板1の電極2表面にフラッシュメッキにより金膜3を形成し、次いで金膜3表面の汚染物層3aをプラズマ処理して逆スパッタリングにより除去する。 - 特許庁

In this process, the turning lever 14 contacts with the locking claw 17 and turns while pushing down the locking claw 17, and as the housings are connected, the locking claw 17 returns to an original position and enters the locking hole 23 to make a locking condition where a further rotation of the turning lever 14 and a reverse turning are made impossible.例文帳に追加

この過程で、回動レバー14は係止爪17に当接し、係止爪17を沈み込ませながら回動し、ハウジング同士の結合と同時に、係止爪17は元の位置に復元して係止孔23内に嵌まり込み、回動レバー14のそれ以上の回動、逆方向の回動を不能とする錠止状態となる。 - 特許庁

To easily and effectively suppress failures, such as transfer dust, dot image reproduction failure, toner scattering, and reverse transfer of a previous process transfer toner to an image carrier, by preventing the transfer of the toner in slight gaps on upstream and downstream of a transfer nip at the time of transfer without depending on a surface potential distribution (toner sensible image pattern) of an image carrier in developing.例文帳に追加

転写時における転写ニップ上流、及び下流の微少空隙でのトナー転移を、現像時の像担持体の表面電位分布(トナー顕像パターン)によらず防止して、転写チリ、ドット画像再現不良、トナー飛散、前工程転写トナーの像担持体への逆転写等の不具合を容易、且つ効果的に抑制する。 - 特許庁

This method for producing the modifier for the thermoplastic resin comprises a coagulation process of mixing, in a solvent, polytetrafluoroethylene particles (A) and thermoplastic (co)polymer particles (B) having reverse surface electric charge to the surface electric charge of the polytetrafluoroethylene particles (A) as a dispersed state in the solvent and then coagulating the polytetrafluoroethylene particles (A) and the thermoplastic (co)polymer particles (B).例文帳に追加

本発明の熱可塑性樹脂用改質剤の製造方法は、溶媒中で、ポリテトラフルオロエチレン(A)粒子と、前記溶媒中に分散している際のポリテトラフルオロエチレン(A)粒子の表面電荷と反対の表面電荷を有する熱可塑性(共)重合体(B)粒子とを混合して、ポリテトラフルオロエチレン(A)粒子および熱可塑性(共)重合体(B)粒子を凝集させる凝集工程を有する。 - 特許庁

This vehicle interior trim skin material has the design for enabling weight reduction by improving the recyclability by eliminating an adhesive process of urethane by being directly adhered to the base material layer without interposing the urethane layer by applying raising 4 to the reverse side of the skin material as a vehicle interior trim material of an automobile.例文帳に追加

自動車等の車両内装材としての表皮材の裏側に起毛4を施し、ウレタン層を介さずに直接基材層と接着させ、ウレタンの接着工程を省き、リサイクル性を向上し、軽量化を実現する意匠性のある車両内装用表皮材。 - 特許庁

This device is provided with a rolling mill 21 having rolls 26 and 27 on which plural calibers are formed along the axial direction and moving means for working the caliber which is different from the one before the movement by moving the rolling mill 21 in the axial direction of rolls 26 and 27 within reverse time in the rolling process.例文帳に追加

軸心方向に沿って複数のカリバーが形成されたロール26、27を有する圧延機21と、圧延工程におけるリバース時間内に圧延機21をロール26、27の軸心方向に移動させて移動前とは異なるカリバーを作動させる移動手段とを備えた。 - 特許庁

In the gear stage selection method of a vehicular automatic transmission having at least one forward gear stage and one backward gear stage, the process of switching from the forward gear stage to the backward gear stage or its reverse is ignored under a predetermined running condition.例文帳に追加

本発明は、少なくとも一つの前進ギア段と後退ギア段とを有する車両用自動変速装置でのギア段の選択の際の方法にして、決められた運転条件の場合に前進ギア段から後退ギア段への切替過程あるいはその逆の切替過程が無視されるような方法に関する。 - 特許庁

It is preferably that the drain in treated with a reverse osmosis membrane unit and an ion exchange unit, and further the resulting treated water is treated with a filtration membrane unit which is provided with filtration membrane having ≤1 μm pore size and placed at or in the vicinity of the terminal of this treatment stage to obtain final treated water, and the recovered final treated water is reutilized in the developing process.例文帳に追加

該排水を逆浸透膜装置及びイオン交換装置で処理し、得られる処理水を更に処理工程の末端又はその近辺で孔径が1μm以下の濾過膜を備えた濾過膜装置で処理して得られる最終的な処理水を現像工程で再利用するのが好ましい。 - 特許庁

Aqueous solution containing the fluorine containing surfactants, which is produced in a process producing fluorine polymer by polymerization of fluorine containing monomer, is passed through a filtration unit using reverse osmotic membrane to obtain concentrated aqueous solution of the surfactants from the aqueous solution, thus the surfactants are recovered.例文帳に追加

含フッ素単量体を重合してフッ素ポリマーを製造するプロセスにおいて生じる、含フッ素界面活性剤を含む水溶液を逆浸透膜を用いる濾過処理工程に付して、前記水溶液から含フッ素界面活性剤が濃縮された水溶液を得ることによって含フッ素界面活性剤を回収する。 - 特許庁

To provide a method for treating boron-containing water by which carbonic acid is beforehand economically and efficiently removed, thus boron is efficiently concentrated and separated so as to obtain a concentrated liquid having a high boron concentration and a penetrated liquid having a low boron concentration in a treatment method by which boron-containing water comprising carbonic acid is separated into the boron-concentrated liquid and the penetrated liquid using a reverse osmosis membrane process.例文帳に追加

炭酸を含有するホウ素含有水から、逆浸透膜法を用い、ホウ素濃縮液と透過液とに分離する処理方法において、該ホウ素含有水から予め炭酸を経済的かつ効率的に除去し、これにより効率的にホウ素を濃縮分離し、ホウ素濃度の高い濃縮液とホウ素濃度の低い透過液を得ることができるホウ素含有水の処理方法を提供する。 - 特許庁

An image forming apparatus is equipped with a cleaning device 16 which removes contamination sticking on the surface of a photoreceptor drum 12 driven to rotate in a forward direction α with a cleaning blade 84 pressed against the surface of the photoreceptor drum 12 in an image forming process and a control circuit which controls the rotation of the photoreceptor drum 12 in the forward direction α or reverse direction β.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、画像形成プロセスにおいて正転方向αに回転駆動される感光体ドラム12の表面に付着した異物をこの感光体ドラム12の表面に圧接されたクリーニングブレード84により除去するクリーニング装置16と、この感光体ドラム12の正転方向αまたは逆転方向βの回転を制御する制御回路とを備える。 - 特許庁

In the heat treatment in the device process, metal impurities (c) in the SIMOX substrate are sufficiently gettered because of boron ion-injected into a high-density boron layer 14 formed in a bulk layer 13 to a density of ≥1×10^13/cm^2 and disorder of a silicon grating at the reverse-surface side part of a silicon single-crystal substrate due to the ion injection of boron.例文帳に追加

バルク層13に形成された高濃度ボロン層14に1×10^13/cm^2以上の密度でイオン注入されたボロンと、このボロンのイオン注入に起因するシリコン単結晶基板10の裏面側部のシリコン格子の乱れとにより、デバイス工程の熱処理時、SIMOX基板20の内部の金属不純物cが十分にゲッタリングされる。 - 特許庁

To reduce manufacturing cost by improving productivity and a yield of an electrooptical device by reducing the number of processes of manufacturing a pixel part having a reverse stagger type thin-film transistor, and a terminal part, and specifically reducing the number of photomasks used in a photolithography process, in an electrooptical device typified by an active matrix type liquid crystal display device.例文帳に追加

アクティブマトリクス型の液晶表示装置に代表される電気光学装置において、逆スタガ型の薄膜トランジスタを有する画素部及び端子部を作製する工程数を削減して、具体的にはフォトリソグラフィー工程で使用するフォトマスクの枚数を削減して、電気光学装置の生産性、歩留まりを向上させ、製造コストの低減を実現することを課題とする。 - 特許庁

To inhibit the generation of both efflorescence and dry-out in the process of curing without using a solvent based sealer causing the worsening of the working environment, when a cement based molding material consisting of a cement containing reverse emulsion composition containing cement, water, and an oily matter is molded, and cured to manufacture an inorganic molded body.例文帳に追加

セメント、水、及び油性物質を含むセメント含有逆エマルジョン組成物からなるセメント系成形材料を成形し、養生硬化することにより無機質成形体を製造するにあたり、作業環境の悪化の原因となる溶剤系のシーラーを用いることなく、養生硬化の過程におけるエフロレッセンスとドライアウトの発生を共に抑制する。 - 特許庁

A naked fiber part Fb is partially exposed while maintaining the connecting state between the naked fiber part Fb and the terminal part Fa' by moving a second clamping tool 31 in a direction relatively reverse to the terminal with respect to the first clamping tool 5 and shifting the terminal part Fa' in the coating part Fa in the direction of the terminal after finishing the cutting process.例文帳に追加

切込み工程が終了した後に、第2クランプ具31を第1クランプ具5に対して相対的に反端末方向へ移動させて、被覆部Faにおける端末部分Fa’を端末方向へずらすことにより、裸ファイバ部Fbと端末部分Fa’との連結状態を保ちつつ、裸ファイバ部Fbの一部分を露出させる。 - 特許庁

The apparatus is employed for treating garbage or the like and is enabled to carry out vacuum heating treatment of organic wastes by combining an electromagnetic wave induction heating apparatus and a microheater, simultaneously detoxify the discharged matter generated in the treatment process by using a reverse osmosis membrane and a photocatalyst, and dry and carbonize the treatment residues to recover reusable products.例文帳に追加

有機廃棄物を電磁誘導加熱装置及びマイクロヒーターの組み合わせにより真空加熱処理すると共にその処理工程にて生じる排出物を逆浸透膜、光触媒を利用し同時無害化して、処理後残さ物も乾燥炭化によって再利用可能製品として生ごみ等処理する装置を提供する。 - 特許庁

A printer controller 70 composing the image forming apparatus 1 starts application of developing reverse bias HVBP at the same time of stopping of application of developing bias HVBN while controlling a developing bias application circuit 51 after application of charging bias HVCN is stopped by controlling a charging bias application circuit 50, when an image forming process is stopped.例文帳に追加

画像形成装置1を構成するプリンタコントローラ70は、画像形成プロセスを停止する際に、帯電バイアス印加回路50を制御して帯電バイアスHVCNの印加を停止した後に、現像バイアス印加回路51を制御して現像バイアスHVBNの印加を停止すると同時に現像逆バイアスHVBPの印加を開始する。 - 特許庁

In a process for controlling a servo-motor-driven rotary cutter of the electronic cam type, in which the cutting of long materials and that of short materials are controlled by means of different speed patterns based on electronic cam curves, a speed pattern in which speed will not decline during the cutting of extremely long materials, is formed so as to prevent the reverse rotation of the cutter.例文帳に追加

サーボモータにより駆動され、長尺切断時と短尺切断時では電子カム曲線に基づく異なる速度パターンによって制御される電子カム方式ロータリーカッタ制御方法において、超長尺の切断を行う時に、速度がマイナスにならないように速度パターンを形成してカッタが逆転しない制御を行うものである。 - 特許庁

In the production process of a solar cell element comprising a step for forming micro protrusions/recesses on one major surface side of a semiconductor substrate having one conductivity type by dry etching and a step for providing a reverse conductivity type semiconductor region on one major surface side of a semiconductor substrate, the amount being dry etched is limited to 0.015 mg per 1 cm^2 of substrate area.例文帳に追加

一導電型を有する半導体基板の一主面側にドライエッチングで微細な凹凸を形成する凹凸形成工程と、前記半導体基板の一主面側に逆導電型半導体領域を設ける逆導電型半導体形成工程とを具備した太陽電池素子の製造方法において、前記ドライエッチングによりエッチングされる量が、基板面積1cm^2当たり0.015mgを超えないようにした。 - 特許庁

To provide an ink for use in a reverse printing process with less safety issue, which has appropriate wettability and releasability to a surface of a silicone blanket, wherein: an ink layer having uniform thickness and causing no vertical stripes, unevenness and pinhole can be formed on the surface of the silicone blanket; and an ink pattern having uniform thickness can be formed on an object to be printed such as a substrate.例文帳に追加

シリコーンブランケットの表面に対して適度の濡れ性と離型性とを兼ね備え、前記シリコーンブランケットの表面に縦スジやムラ、ピンホール等のない厚みが均一なインキ層を形成するとともに、基板等の被印刷体の表面に厚みが均一なインキパターンを形成でき、しかも安全性の問題等も生じにくい反転印刷法用のインキを提供する。 - 特許庁

To provide a method for treating salt water, by which concentrated salt water generated as waste in the desalination by a reverse osmosis method using low concentration salt water such as seawater can be effectively utilized and the amount of the waste can be drastically reduced, and at the same time, crystallized salt or high concentration salt water obtained from seawater is made possible to be used as a raw material for a salt electrolysis process.例文帳に追加

海水のような低濃度塩水を用いた逆浸透法による淡水化により、廃棄物として発生する濃縮塩水を有効利用して廃棄物の量を大幅に低減化し、合わせて海水から得られた結晶化塩または高濃度塩水を、食塩電解法の原料として用いることができるようにする塩水の処理方法を提供する。 - 特許庁

The device is characterized by arrangement of a solid-liquid separation device having a sieve-like matter having a separating/recovering means of solid, and by separating the precoat liquid having reverse flow washing process drain as a main component into solid and liquid.例文帳に追加

膜モジュールを備える水ろ過手段、逆流洗浄手段、およびプレコート層形成手段を少なくとも備える膜ろ過装置において、前記膜モジュールの近くの逆流洗浄水の排出配管に、固形物の分離、回収手段を有する篩状物を備えた固液分離装置を配置し、逆流洗浄工程排水を主成分とするプレコート液を固液分離することを特徴とする。 - 特許庁

Fibrous sheet materials Wa and Wb wound around rolls 7a and 7b in a preliminary process of a vulcanization process such as vulcanizing press or the like are let off and laminated on the surfaces and reverse surfaces of the unvulcanized rubbery sheet W by means of pressing rolls 8a and 8b and the fibrous sheet materials Wa and Wb embedded in the unvulcanized sheet are heated and pressed to be vulcanized into an integrated item.例文帳に追加

即ち、ロール5から巻出した未加硫ゴムシートWの表裏面に、加硫プレス等の加硫工程6の前工程でロール7a,7bに巻取られている繊維シート材料Wa,Waを巻出して圧着ロール8a,8bにより貼付け、これを加硫工程6の上下金型6a,6bにより加熱・加圧することにより未加硫ゴムシートWの表裏面に繊維シート材料Wa,Waを一体的に埋設して加硫成形する。 - 特許庁

The manufacturing method has a voltage application process for sequentially stacking the transparent electrode 3, an insulation layer 3, the organic layer 5 and the back electrode 6 on the glass substrate 2, and thereafter separating a part where at least the back electrode 6 is in contact with the transparent electrode 3 from the transparent electrode 3 by applying a reverse bias voltage between both electrodes 3 and 6 in a nitrogen environment having a predetermined oxygen concentration.例文帳に追加

ガラス基板2上に透明電極3,絶縁層3,有機層5及び背面電極6を順次積層した後、所定の酸素濃度を有する窒素雰囲気中にて、両電極3,6間に所定の逆バイアス電圧を印加することで、少なくとも背面電極6が透明電極3に接触している部分を透明電極3から剥離させる電圧印加工程を有している。 - 特許庁

In the two-step process, the reverse flow of gas, especially H_2, is prevented by positive sealing valve means, and strict temperature control is made possible by controlling the heating performance of reaction, and the active UO_2 powder having a uniform shape is obtained.例文帳に追加

2工程製法はそれぞれの工程を積極シール弁手段によって分離することによってガス、特にH_2の逆流を防止し、反応の発熱性を厳密に制御することによって厳密な温度制御を可能にし、これによって粒子の成長を制御することにより、均一な形態を呈する活性のUO_2粉体を得る。 - 特許庁

例文

Vitreous porous granular particles 3 comprising porous spherical particles synthesized using reverse micelle process and having uniform particle diameter are filled in an insulation layer 4 between 2 sheets of plate glass 2, the outer periphery of 2 sheets of plate glass 2 is sealed with a sealing member 5 and the inside of the heat insulation layer 4 is evacuated to reduce the pressure, for example, to about 10^-1 Pa.例文帳に追加

2枚の板ガラス2間の断熱層4に、逆ミセル法を用いて合成した粒径が略均一なガラス質の多孔質球状粒子からなる粉粒体3を充填し、2枚の板ガラス2の外周間を封止部材5で封止し、断熱層4内を真空排気して、例えば、10^−1Pa程度に減圧する。 - 特許庁




  
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