「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

This method of measuring wavefront aberration for measuring wavefront aberration by inputting light emitted from a light source into an inspected lens to detect light having passed through the inspected lens, includes a process for measuring wavefront aberration with the aperture of the inspected lens opened, a process for measuring the pupil center position of the inspected lens with the aperture of the inspected lens reduced, and a process for polynomially expanding the wavefront aberration with the pupil center position used as an origin.例文帳に追加

光源から放射された光を被検レンズに入射させ、当該被検レンズを透過した光を検出して波面収差を測定する波面収差測定方法であって、被検レンズの絞りを開放した状態で波面収差を測定する工程と、被検レンズの絞りを絞った状態で、当該被検レンズの瞳中心位置を測定する工程と、瞳中心位置を原点として波面収差を多項式展開する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a method for refining metallic salt with which molten salt maybe becoming contaminated source in a producing process is simply and efficiently refined, to provide method for deoxidizing a titanium material and a method for producing the titanium material by using the refined metallic salt with this refining method.例文帳に追加

製造工程で汚染源となりうる溶融塩を簡便かつ効率的に精製する金属塩の精製方法、この精製方法によって精製した金属塩を用いたチタン材の脱酸方法およびチタン材の製造方法の提供。 - 特許庁

Furthermore, a pressure information in the arc-chamber 12a during a conduction heating is measured by an ion gage provided in a chamber which is arranged in a subsequent process of the ion source and connected with the arc-chamber 12a, and a conduction heating and degassing status is monitored.例文帳に追加

又、通電加熱中のアークチャンバ１２ａ内の圧力の情報を、イオン源の後工程に配置される、アークチャンバ１２ａと連通するチャンバに設けられるイオンゲージを用いて計測することにより、通電加熱、デガス状態を監視する。 - 特許庁

The bidirectional optical transceiver module includes a photodetecting element which is installed on a printed board through a chip-on-board process and receives a 1st optical signal and a light source which is installed by To-can packaging and transmits a 2nd optical signal.例文帳に追加

本発明の双方向光トランシーバ・モジュールは、チップオンボード工程によりプリント基板上に設置され、第一の光信号を受信する受光素子と、Ｔｏ−ｃａｎパッケージにより設置され、第二の光信号を送信する光源とを含む。 - 特許庁

Substitution is conducted with a supplied electric power-source voltage Vdd in the calculated interpolation function g (Vdd) in a lag time interpolation process F32 to calculate the lag time of the transition time S of the input signal waveform and the lag time of the load capacity C.例文帳に追加

遅延時間補間工程Ｆ３２では、前記算出された補間関数ｇ（Ｖｄｄ）に、供給される電源電圧Ｖｄｄを代入して、入力信号波形の遷移時間Ｓ及び負荷容量Ｃの遅延時間を算出する。 - 特許庁

In the signal output process, a probe 1 moves along the surface of the screen 25, an AC power source 2 supplies AC current to a coil to generate magnetic fluxes, and an eddy current flaw detector 3 outputs voltage variation to be induced by the coil as a flaw detection signal.例文帳に追加

信号出力工程では、プローブ１がスクリーン２５の表面に沿って移動し、交流電源２がコイルに交流を流して磁束を発生させ、渦流探傷器３がコイルに誘起される電圧変化を探傷信号として出力する。 - 特許庁

To store a proper game state by properly setting the motion state of an electric part at the time of unexpected power source interruption or the like, and at the same time, efficiently perform an initialization process or the like of an output port to output a control signal to the electric part.例文帳に追加

不測の電源断時等に、電気部品の動作状態を適切に設定して、適切な遊技状態を保存できるとともに、電気部品への制御信号を出力するための出力ポートの初期化処理等を効率的に実行する。 - 特許庁

The playing events include events corresponding to the keyboard playing of a player and invalidated events corresponding to automatic playing events and the CPU10 instructs a sound source circuit 7 on process electronic musical sound forming for the playing events other than the invalidated events.例文帳に追加

この演奏イベントには、演奏者の鍵盤演奏に対応したものの他、自動演奏イベントに対応した無効イベントが含まれるが、ＣＰＵ１０は無効イベント以外の演奏イベントについての楽音形成処理を電子的な音源回路７に指示する。 - 特許庁

To provide a method of working a glass tube by which the glass tube having uniform thickness, diameter and characteristics is obtained in a working process of the glass tube including a stage for heating the glass tube by a heating source relatively moving to the glass tube.例文帳に追加

ガラス管に対して相対的に移動する加熱源により前記ガラス管を加熱する工程を含むガラス管の加工プロセスにおいて、厚み、径及び特性の均一なガラス管を得ることができるガラス管の加工方法を提供すること。 - 特許庁

To make characteristics of a multi-electron source uniform, equalize an electron emission volume from an element by aligning element characteristics having non-linear characteristics against voltage at any given voltage region, and make the multi-electron characteristics almost uniform in a simple process.例文帳に追加

マルチ電子源の特性の均一化を図り、電圧に対する非線形の特性を有する素子特性を、任意の電圧領域で揃え、素子からの電子放出量を等化し、簡易な工程によりマルチ電子源の特性をほぼ同一にする。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive electrode active material for a lithium secondary battery having a wide usable voltage range, a high charge/discharge cycle durability, high capacity, and high safety, by a simple and easy process using an easily obtainable lithium source.例文帳に追加

使用可能な電圧範囲が広く、充放電サイクル耐久性が高く、容量が高くかつ安全性の高いリチウム二次電池用正極活物質を入手容易なリチウム源を用い簡便なプロセスで製造する方法を提供する。 - 特許庁

In this electrode manufacturing process, the desired electrode pattern can be obtained by applying a first light exposure with the use of a lamp whose source is cost-effective diffusion light, and then applying a second light exposure with larger amount of light than the first light exposure.例文帳に追加

本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。 - 特許庁

The conditional event data represent process conditions for determining whether corresponding playing event data are processed (transferred to a sound source circuit 10) in automatic playing according to detected states of environment and operation.例文帳に追加

条件イベントデータは、対応する演奏イベントデータを自動演奏時に処理するかしないか（音源回路１０に転送するかしないか等）を、検出される環境状態／操作状態に応じて決定するための処理条件を表すデータとする。 - 特許庁

When a decided source attribute lies in a display attributes having the possibility of making a problem (the luminance level, frame rate or window size), process are made to reduce the window size of the uninterested window, to reduce the luminance or to drop a frame.例文帳に追加

その判断されたソース属性が問題の起きる可能性がある表示属性（輝度レベル、フレームレートあるいはウィンドウサイズ）にあるときは、非注目ウィンドウのウィンドウサイズを小さくする、輝度を下げる、あるいはコマ落としにするなどの処理を行う。 - 特許庁

To provide an optical pickup device which uses only one one-dimensional diffraction grating having a constant grating pitch in an optical path from a light source to an optical recording medium, thereby reducing the number of steps in an assemble adjustment process and adjustment time.例文帳に追加

光源から光記録媒体までの光路中に、格子ピッチが一定の一次元回折格子を１つだけ使用することにより、組立て調整工程の工数の削減と調整時間の短縮とを図り得る光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

A model base development support part 100 generates general purpose peripheral IO model information 160 and device-independent source code 150 having a substitute instruction rewritable to a process dependent on device-specific input/output, from a controller model simulating a target controller.例文帳に追加

モデルベース開発支援部１００は、ターゲットコントローラを模擬するコントローラモデルから、汎用周辺ＩＯモデル情報１６０と、デバイス固有の入出力に応じた処理に書き換え可能な置換命令を有するデバイス非依存ソースコード１５０を生成する。 - 特許庁

To provide a grain-drying method and a device for effectively utilizing rice hulls, straw rubbish, their fragments, organic impurities, and harvest waste such as the organic dust/dirt being generated in the harvest-manufacturing process of other cereals as a heat source.例文帳に追加

籾殻、藁屑、それらの破片、有機性夾雑物、その他穀物の収穫調製過程で発生する有機性塵埃などの収穫廃棄物を穀物乾燥の熱源として有効利用する穀物乾燥方法および装置を提供する。 - 特許庁

In an etching process for forming a diaphragm and the like, the film thickness D of the diaphragm 2 is detected by performing irradiation with a laser beam from a laser beam source 3 while varying its wavelength and performing frequency analysis of the intensity of its reflected light for measuring an etching quantity.例文帳に追加

ダイヤフラムなどを形成するためのエッチング処理で、そのエッチング量を測定する方法として、レーザ光源３から波長を変化させて照射してその反射光の強度を周波数解析してダイヤフラム２の膜厚Ｄを検出する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition less liable to cause the photodegradation and crosslinking reaction of a base resin in a lithographic process using radiation of an ultra-short wavelength of ≤160 nm as a light source and excellent in dry etching resistance.例文帳に追加

波長１６０ｎｍ以下の超短波長放射線を光源に用いるリソグラフィープロセスにおいて、基材樹脂の光分解や架橋反応が起こりにくく、しかも耐ドライエッチング性に優れる放射線感応性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The electrode sections of the drain region and source region of n-type or p-type double gate MOS transistor structure are provided with each gate electrode by self-alignment (simultaneously positioned at one time of a lithography process).例文帳に追加

島状半導体結晶層内に形成されたＮ形またはＰ形二重ゲートＭＯＳトランジスタ構造のドレイン領域およびソース領域の電極部は各ゲート電極と自己整合（一回のリソグラフィー工程で同時に位置決めされること）で設ける。 - 特許庁

The camera 10 is a digital camera, having a white balance process function which leaves the atmosphere of a photographing light source.例文帳に追加

本発明のシステムに用いるカメラ１０は、撮影光源の雰囲気を残すホワイトバランス処理機能を有するデジタルカメラであり、撮影時にはホワイトバランス補正の程度を示すＷＢ順応率の情報が撮影画像の付加情報として記録媒体３４に記録される。 - 特許庁

For measurement, the output of a sample photodetector 9 is normalized by a process for division by the output of the monitor photodetector 10 to remove the influence of variation of the incident light (due to variance of the oscillation fluence of, specially, the laser light source 1).例文帳に追加

測定に際しては、サンプル受光器９の出力を、モニター受光器１０の出力で割る等の処理により正規化し、入射光の変動（特にレーザー光源１の発振フルエンスの変動に起因するもの）の影響を除去する。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process of forming a gate recess 16A by applying a wet etching method in condition that at least either electrode of the source electrode 11a and the drain electrode 12 is connected conductively to a channel region 13.例文帳に追加

ソース電極１１及びドレイン電極１２の少なくとも何れか一方の電極をチャネル層１３と導電接続した状態でウエット・エッチング法を適用してゲート・リセス１６Ａを形成する工程が含まれていることが基本になっている。 - 特許庁

Since the reference voltage generating section 16 generates reference voltage VREF from the voltage between a base and an emitter in a bipolar type transistor in which dispersion caused by temperature and a manufacturing process is small, dispersion of a detection level in power source voltage VCC can be made small.例文帳に追加

基準電圧発生部１６は、温度、製造プロセスのばらつきが少ないバイポーラ形トランジスタにおけるベース−エミッタ間電圧から基準電圧Ｖ_REF を生成しており、電源電圧Ｖ_CCにおける検出レベルのばらつきを小さくすることができる。 - 特許庁

After catalyst metal particles of a nanometer size are formed as separated on a substrate by an etching process (step 30), high purity carbon nanotubes perpendicularly arranged on the substrate are grown by a thermochemical vapor phase vapor deposition method using a carbon source gas (step 40).例文帳に追加

蝕刻工程を用いて基板上に分離されたナノサイズの触媒金属粒子を形成した（３０段階）後、カーボンソースガスを用いた熱化学気相蒸着法で基板に垂直整列された高純度のカーボンナノチューブを成長させる（４０段階）。 - 特許庁

To provide a white polyester film for a liquid crystal reflector, the film superior in preventing production of burrs or deposition of dust in a punching process in handling properties, when the film is prepared as sheets, and in preventing precipitation of oligomers, and to provide a surface light source that uses the film.例文帳に追加

本発明は、打ち抜き加工時のバリ発生や埃の付着防止、枚葉にしたときの取り扱い性、オリゴマー析出防止性などに優れた液晶反射板用白色ポリエステルフィルムおよびそれを用いた面光源を提供するものである。 - 特許庁

An IC tag 23 having an IC chip 24 and an antenna 25 is attached to each of the transfer components (primary transfer rollers for four colors, and intermediate transfer belt) of the transfer process cartridge 22 comprising the primary transfer roller, the intermediate transfer belt and a high voltage power source part.例文帳に追加

１次転写ローラ、中間転写ベルト、高圧電源部よりなる転写プロセス用カートリッジ２２が有する転写部品（４色分の１次転写ローラ、中間転写ベルト）の各々にＩＣチップ２４とアンテナ２５を持つＩＣタグ２３を取付ける。 - 特許庁

To provide a power source system for a plasma process device which does not necessitate extra complicated work to match, is easy to handle, reduces matching time, uniforms plasma and improves uniformity and reproducibility of thickness of film generated.例文帳に追加

整合をとる煩雑な手間を要せず、取り扱いが容易で整合時間が短縮され、かつプラズマが均一になり、生成する膜厚の均一性及び再現性の向上を図ることができるプラズマ処理装置用電源システムを提供する。 - 特許庁

To increase the speed of an image forming process without increasing the size of the drive source of a revolver type developing unit in an apparatus in which a black developing unit is disposed separately from the revolver type developing unit in order to reduce maintenance for toner replenishment.例文帳に追加

トナー補給のためのメンテナンス性を軽減するためにリボルバ型現像ユニットとは別にブラック現像ユニットを配置した装置においてリボルバ型現像ユニットの駆動源を大型化することなく画像形成プロセスの高速化をはかる。 - 特許庁

After the flaking process, the substrate (W) is carried to the cleaning processing chamber 4 and pump 30 is driven to feed the surface of the substrate (W) with pure water dissolved with carbon dioxide and stored in a pure water feed source 29.例文帳に追加

剥離処理が終ると基板Ｗは洗浄処理室４へ搬送され、ポンプ３０が駆動されて純水供給源２９内に貯溜されている二酸化炭素を溶存させた純水がノズル２４から基板Ｗの表面に供給される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flash memory device which can improve charge retention characteristics of the flash memory device, and can prevent a smiling phenomenon of a tunnel oxide film and a dielectric film which are generated after a thermal treatment process of a source/drain region.例文帳に追加

フラッシュメモリ素子の電荷保持特性を向上させるとともに、ソース／ドレイン領域の熱処理工程後に発生するトンネル酸化膜および誘電体膜のスマイリング現象を防止することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供。 - 特許庁

To provide a method for producing Okowa (Japanese cooked glutinous rice) which is capable of producing tasteful Okowa even by an amateur by a simple cooking process in which a preprocessed source material of Okowa is put on rice in a rice cooker and resulted rice is mixed after finishing rice cooking.例文帳に追加

予め加工したおこわの素を炊飯器内の米の上面等に置いて炊き、炊き上がり後において混ぜるだけの簡単な調理工程により、素人でも美味なおこわをつくることができるおこわの製造方法を実現する。 - 特許庁

To prevent the generation of particles in a post-process in a method for marking by which a letter, a figure, or a symbol is formed by irradiating a color filter substrate with a laser beam under a certain irradiation condition while scanning the laser beam emitted from a laser beam source.例文帳に追加

レーザ光源から射出したレーザ光をスキャニングしながら、一定のレーザ照射条件でカラーフィルタ基板に照射し、文字、図形若しくは記号を形成するマーキング方法において、後工程でパーティクルを発生させないようにする。 - 特許庁

To provide an analytical inspection device capable of reducing the possibility of generating contamination between inspections of samples, and free from the requirement of securing a proper alignment of an illumination source and/or a detecting optics with the sample under inspection, during an inspection process.例文帳に追加

試料の検査と検査の間に汚染が生じる可能性が低く、照明源及び／又は検出用オプティクスの被検下にある試料との適正なアライメントを保証することが、検査プロセス中に要求されない分析検査デバイスを提供する。 - 特許庁

To automatically prevent a pressure drop of a hydraulic power source due to a hydraulic oil leak inevitably occurring at a switching process of a fluid switching valve by means of a switching action itself of the fluid switching valve without compensation such as driving of a hydraulic pump.例文帳に追加

流体切換弁の切換過程で必然的に生じる作動油漏れに起因した油圧源の圧力低下を油圧ポンプの駆動等によって補償することなく、当該流体切換弁の切換動作自体によって自動的に阻止する。 - 特許庁

Specification of a functional relationship between the tissue resistance R_a and the output voltage u_a of a supplying source enables the process in phase II to not fall below a minimum treatment time and thus avoids premature drying-out of tissue.例文帳に追加

組織抵抗Ｒ_aと供給電源の出力電圧ｕ_aとの間の関数関係を特定することによって、第２段階のプロセスが最小時間未満とならないようにすることで、組織の尚早な乾燥を確実に回避することができる。 - 特許庁

The irradiation with the exposure light in the exposure process is performed by arranging louvers between the exposure light source of the exposure light and the lenticular lens of the light transparent substrate in such a manner that the diffusion angle of the exposure light attains ≥±2 to ≤15°.例文帳に追加

本発明においては、露光工程における露光光線の照射を、露光光線の露光光源と光透過性基板のレンチキュラーレンズとの間に、露光光線の拡散角が±２°以上±１５°以下となるようにルーバーを配置して行う。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus which has such a structure that a better joined state can be realized by a simple manufacturing process and which can be made more compact and thinner, and to provide a portable power source system using the chemical reaction apparatus.例文帳に追加

簡易な製造プロセスでより良好な接合状態を実現することができる構造であるとともに、一層の小型薄型化が可能な化学反応装置、及び、該化学反応装置を用いたポータブル型の電源システムを提供する。 - 特許庁

The crosstalk canceling uses a transfer function from positions of speakers in front of the listener to both the ears of the listener to process the sound source so that the sound of right side channel only is given to the right ear and the sound of left side channel only is given to the left ear.例文帳に追加

このクロストークキャンセルは、前方のスピーカの位置から両耳までの伝達関数を用いて、左の耳には左側のｃｈのみの音源が、右の耳には右側のｃｈのみの音源が入力されるように音源を加工する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that shortens the time required to output, by having a function of performing start-up without carrying out the process control at the instant when the power source of the image forming device is turned on or the apparatus resumes the operation in a saving energy mode.例文帳に追加

画像形成装置の電源投入時時または省エネモードからの復帰時にプロセスコントロールを実施せずに立ち上げ動作を行う機能を備え、出力までの時間の短縮を図ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An island of a TFT section is formed on a gate insulation film in the second PR process shown in a step S202 and thereafter a source electrode, drain electrode and drain bus line are formed by utilizing a halftone exposure method or two times exposing method to be described later.例文帳に追加

ステップＳ２０２に示す第２ＰＲ工程で、ゲート絶縁膜上にＴＦＴ部のアイランドを形成した上で、後述するハーフトーン露光法又は二回露光法を利用して、ソース電極、ドレイン電極及びドレインバスラインを形成する。 - 特許庁

After detecting the attribute information, to which program the viewer has higher preference is decided by using counter values and data information with respect to the attribute information of an event relay source and the event relay destination stored in this detection process (S28).例文帳に追加

属性情報を検出した後、この検出により保存されたイベントリレー元、イベントリレー先の属性情報に関するカウンタ値および日付情報を用い、視聴者にとって、どちらの番組の嗜好性が高いか否かを判断する（Ｓ２８）。 - 特許庁

In this TFT (thin film transister) manufacturing process by using the thin film semiconductor, the high performance TFT is manufactured by carring out the high-pressure steam heat treatment after the formations of a gate insulating film, source and drain, and the transistor ((f), (h) and (j) of Fig. 2).例文帳に追加

この薄膜半導体を用いたトランジスタ作製工程において、ゲート絶縁膜成膜後やソース、ドレイン形成後やトランジスタの完成後に高圧水蒸気熱処理（図２（ｆ）、同（ｈ）、同（ｊ））を行うことにより高性能ＴＦＴを作製する。 - 特許庁

To provide an active matrix driven display device permitting to reduce static damage failures of switching elements by suppressing the potential difference across gate wiring and source wiring at any time in the manufacturing process of a TFT substrate.例文帳に追加

ＴＦＴ基板の製造工程において、ゲート配線とソース配線との間の電位差が常時小さく抑えられ、それによってスイッチング素子の静電気破壊不良の低減を図ることができるアクティブマトリクス駆動表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a SRAM in which a leak current of memory cells can be reduced with simple constitution without requiring a circuit for varying power source potential of a memory cell and well potential of a transistor of a memory cell, and a process for forming a variable resistor.例文帳に追加

メモリセルの電源電位やメモリセルのトランジスタのウエル電位を可変させるための回路や、可変抵抗を形成するためのプロセスを要せず、簡単な構成でメモリセルのリーク電流の低減化を図ることができるＳＲＡＭを提供する。 - 特許庁