「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

After a rubbing process in which the upper surface of a substrate 1 is rubbed from a source electrode 3 toward a drain electrode 4 has been performed the upper surface, is coated with the solution obtained by dissolving the organic semiconductor material composed of a polymer liquid crystal in the solvent composed of a low molecular liquid crystal to remove the solvent.例文帳に追加

基板１の上面をソース電極３からドレイン電極４に向けて擦るラビング処理を行った後、低分子液晶からなる溶媒に高分子液晶からなる有機半導体材料を溶解させた溶液を塗布して溶媒を除去する。 - 特許庁

Concretely, in the conveyance process of the molten resin 90 extrusion-molded by the first casting roll 28 and the touch roll 24, a heat source 92 having directivity is installed at a position slightly separated from the gripping part between the first casting roll 28 and the touch roll 24.例文帳に追加

具体的には、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４とによって押出し成形された溶融樹脂９０の搬送過程のうち、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４との挟持部分からわずかに離間した位置に、指向性のある熱源９２を設置する。 - 特許庁

In this process, the washing liquid 2 passed through the cell 6 is irradiated with light from a light source 8 and a spectroscope 11, and a light quantity sensor 9 detects presence of a metal-reagent composite (complex) of specific metal and a coloring reagent in the washing liquid 2.例文帳に追加

この過程で、セル６内を通過する洗浄液２には、光源８から光が照射され、分光器１１および光量センサー９によって洗浄液２中の特定金属と発色試薬との金属−試薬複合体（錯体など）の存在が検知される。 - 特許庁

To provide a carbon porous body that has excellent properties using a resin foam as a template to realize a three dimensional network structure and utilizing a polyimide resin as a carbon source, and to provide a process for manufacturing the same.例文帳に追加

３次元網目構造を実現する型材として樹脂フォームを用いるとともに炭素源としてポリイミド樹脂を使用した優れた特性の炭素多孔体を提供するとともに、該炭素多孔体を作製することのできる炭素多孔体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a polymer includes a process for performing free radical polymerization of a composition comprising (A) a disulfide compound having a skeleton structure shown by a general formula (1), (B) a polymerizable component including at least one kind of unsaturated ethylene monomer, and (C) a free radical source.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される骨格構造を有するジスルフィド化合物と、（Ｂ）少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーを含む重合成分と、（Ｃ）フリーラジカル源と、を含有する組成物をフリーラジカル重合する工程を含む、ポリマーの製造方法。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method capable of removing nitrogen dioxide by spraying a reducing agent or an oxidizing agent to a moving path for an exhaust gas which contains nitrogen dioxide generated from a burning process of a fixed discharge source and converting the nitrogen dioxide into nitric monoxide or nitrogen to be removed.例文帳に追加

固定排出源の燃焼工程から発生する二酸化窒素を含む排ガスの移動経路に還元剤、または酸化剤を噴射して、前記二酸化窒素を一酸化窒素、または窒素に転換させて除去する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus to be made further compact and thin by using a relatively economical substrate material and accomplishing good joint state by simple production process and a portable type power source system using the chemical reaction apparatus.例文帳に追加

比較的安価な基板材料を用いて、簡易な製造プロセスでより良好な接合状態を実現することができるとともに、一層の小型薄型化が可能な化学反応装置、及び、該化学反応装置を用いたポータブル型の電源システムを提供する。 - 特許庁

When the user inputs a power source again through manual operation, the CPU, after an initial setting (S21), the counted value reads out from the nonvolatile memory part (S22), and a predetermined value is deducted from the counted value (S23); and an overcurrent monitoring process is restarted by using the deducted counted value.例文帳に追加

ユーザーが手動操作により電源を再投入すると、ＣＰＵは、初期設定後に（Ｓ２１）、不揮発性記憶部よりカウント値を読み出し（Ｓ２２）、カウント値から所定値を減算し（Ｓ２３）、減算後のカウント値を用いて過電流監視処理を再開する。 - 特許庁

A hologram production method includes a process in which a laser beam L40 emitted from a laser source 40 is split into two or more reference beams Lr1 to Lr3 and two or more object beams Lo1 to Lo3, and those beams are exposed at a hologram recording medium at the same time.例文帳に追加

ホログラム製造方法は、一つのレーザ光源４０から発生されたレーザ光Ｌ４０を、二以上の数の参照光Ｌｒ１〜Ｌｒ３および二以上の数の物体光Ｌｏ１〜Ｌｏ３として、ホログラム記録材料に同時に照射する工程を含む。 - 特許庁

To achieve a thin and long surface light-source member that achieves a semi-transmissive liquid-crystal display device which has excellent display characteristics without: a decrease in yield in a backlight assembly process; the occurrence of assembly errors; and deterioration in light-utilization efficiency of the backlight.例文帳に追加

バックライトの組み立て工程での歩留り低下がなく、組み立て間違いも起こらず、バックライトの光利用効率の低下もなく、表示特性に優れた半透過型液晶表示装置を可能とする、薄型で長尺な面光源部材が得ることができる。 - 特許庁

To provide an automatic supplying device of a grommet nut capable of conveying the grommet nuts with a specific posture from a supply source to a supply destination by distinguishing the grommet nuts having the possibility to be conveyed with a wrong posture by the vertical or longitudinal inversion, in a conveying process.例文帳に追加

上下或は前後反転により異なった姿勢で搬送される可能性のあるグロメットナットを搬送過程で弁別することにより、特定の姿勢のものだけを供給元から供給先へ搬送するグロメットナットの自動供給装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the solid electrolyte containing lithium, titanium, phosphorus, and oxygen and having the lithium ion conductivity heats precursor solution including nonhydrolyzable organic titanium compounds as a titanium supply source and incinerates it without any gelation process.例文帳に追加

リチウムと、チタンと、リンと、酸素とを含んでリチウムイオン伝導性を有する固体電解質の製造方法において、チタン供給源として非加水分解性の有機チタン化合物を含む前駆体溶液を加熱して、ゲル化工程を経ずに焼成することとする。 - 特許庁

Since the source material is calcined at ≥1000°C where the glass fuses by this method, the resin component in the glass/resin powder material burns in the calcining process to produce pores and then the glass component present in the pores fuses to coat the surfaces of the pores.例文帳に追加

この方法では、ガラスが溶融する１０００℃以上の温度で焼成しているため、焼成過程においてガラス樹脂粉粒体中の樹脂分が燃焼して空隙が生成された後、空隙内に存在するガラス分が溶融して空隙の表面を覆う。 - 特許庁

To improve a delivery performance by reducing an operation volume of individual coding process and reducing a processing load for an access from a plurality of receiving terminals when a compression coded source image is performed format conversion and delivered to the plurality of the receiving terminals.例文帳に追加

圧縮符号化されたソース画像を、複数の受信端末に対しフォーマット変換して配信するに際し、個々の符号化処理の演算量を低減し、複数の受信端末からのアクセスに対する処理負荷を小さくし、配信性能を向上させること。 - 特許庁

To provide an optical communications system that utilizes a surface light-emitting type semiconductor laser device chip capable of reducing an operating voltage and an oscillation threshold current as a light-emitting source and can improve the productivity of a laser chip module and the overall yield of a manufacturing process.例文帳に追加

動作電圧、発振閾値電流等を低くできる面発光型半導体レーザ素子チップを発光光源として利用するシステムで、レーザチップモジュールの生産性の向上、しいては製造プロセス全体の歩留まり率向上が可能な光通信システムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device containing a MOSFET wherein influence of thermal process is little, control of a threshold value is easy when micronization is advanced, and a source/drain region and a gate are constituted of mutually inverse conductivity type semiconductor, and a method of manufacturing the device.例文帳に追加

熱工程の影響を受け難く、微細化が進んでもしきい値の制御が容易に行なえる、ソース，ドレイン領域とゲートが互いに逆導電型の半導体で構成されるＭＯＳＦＥＴを含んだ半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

For example, an integrated circuit chip may be fabricated at an untrusted foundry, and by later it is checked that authenticity of the integrated circuit chip to be based on a valid usage of an original source code file associated with a semiconductor manufacturing process of the integrated circuit chip can be verified or not.例文帳に追加

たとえば、集積回路チップは信頼のできないファウンドリにおいて製造され、後に、集積回路チップが、その集積回路チップの半導体製造プロセスに関する元となるソースコードファイルの正当な利用にもとづく真性品であることを検証する。 - 特許庁

To provide a method for melting large-sizes cold iron source in a molten iron carrier by which even in the case of the large-sized and heavy billet scrap and slab scrap, the operation in a steelmaking process is adversely affected, and these scraps can be melted thermally more advantageously as compared with a converter.例文帳に追加

本発明は、大型で重いビレット屑及びスラブ屑であっても、製鋼工程の操業へ支障を与えず、且つ転炉よりも熱的に有利に溶解可能な溶銑搬送容器での大型冷鉄源の溶解方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultramicro-fabrication and a positive type chemical amplification type resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the microorganism culture process 102, the spawn of the microorganisms and the nutrient source for accelerating the propagation of the microorganisms are supplied to a second aeration tank together with the waste water, and the microorganisms are propagated to 10^7 to 10^10 pieces per milliliter of the waste water inside the second aeration tank.例文帳に追加

微生物培養工程１０２では、微生物の種菌と微生物の増殖を促進させる栄養源とが廃水とともに第２曝気槽に投入され、微生物が第２曝気槽内の廃水１ミリリットル当たり１０^７〜１０^１０個に増殖する。 - 特許庁

In discharging process, the base substrate 7a is applied with a minus potential from a power source part 11, so that plus charges 15 induced near the surface of the base substrate 7a is canceled, and in which condition, the surface of the insulating film 7b is exposed to the gas 5 from the ion generating part 3 (refer to (B)).例文帳に追加

除電処理時には電源部１１によりベース基板７ａにマイナス電位を与え、ベース基板７ａ表面近傍に誘起されているプラス電荷１５を打ち消した状態でイオン発生部３からのガス５に絶縁膜７ｂ表面を暴露する（（Ｂ）参照）。 - 特許庁

To drive a plurality of motors by controlling a plurality of inverter circuits by a control means, to freely control the number of rotation regardless of the frequency of an electric power source and to realize downsizing and low price in a washing and drying machine in which each process of washing, rinsing, dehydrating and drying is controlled.例文帳に追加

洗い、すすぎ、脱水、乾燥の各行程を制御する洗濯乾燥機において、１つの制御手段で複数のインバータ回路を制御して複数のモータを駆動し、電源の周波数に関係なく回転数を自在に制御し、小型、低価格を実現する。 - 特許庁

Once beat noise data are stored, a correction memory 409 subtracts correction data stored in a correction data storage part 412 from video data read by a normal method while the light source is turned on to perform a correcting process for removing the beat noise.例文帳に追加

ビートノイズデータが記憶されると、補正メモリ４０９において、光源を点灯させて通常の手法により読取られたビデオデータから補正データ記憶部４１２に記憶された補正データを減算することによって、ビートノイズを除去するための補正処理が行われる。 - 特許庁

To provide an electronic equipment, a time information acquisition method and a time information acquisition process program etc., which effectively acquire the time information even in the case where the time information is lost, because of no longer supplied electric source from a backup power supply.例文帳に追加

バックアップ電源からの電源供給がなされなくなることにより時刻情報が失われた場合であっても、より効率的に時刻情報を取得可能な電子機器、時刻情報取得方法、及び時刻情報取得処理プログラム等を提供する。 - 特許庁

The characteristic evaluated at the first process is at least either one of the focal position direction of the lens in a prescribed chart direction, a change in the focal position of the lens due to a light source color and the change in the focal position of the lens due to its spatial frequency characteristic.例文帳に追加

第一工程で評価する特性は、当該レンズの所定チャート方向によるピント位置方向、当該レンズの光源色によるピント位置変化または、当該レンズの空間周波数特性によるピント位置変化のうち少なくとも一つである。 - 特許庁

When a source voltage V falls below a 1st reference voltage V1 (step S302) and is higher than a second reference voltage V2 (step S303), a function limiting process is performed (step S305) and the reception cycles of the different-frequency signal is made (n) time as long as the cycles T.例文帳に追加

電源電圧Ｖが第１の基準電圧Ｖ１より低くなり（ステップＳ３０２）、第２の基準電圧Ｖ２よりも高い（ステップＳ３０３）場合は、機能制限処理を行い（ステップＳ３０５）、他周波信号の受信周期を、周期Ｔのｎ倍にする。 - 特許庁

To solve the problem that the life becomes short for a chip that is most heavily stressed by the electric field in a nonvolatile memory cell and the memory reliability deteriorates because the electric field stress changes on the capacitor insulation film or the tunneling insulation film due to the variations in the process even if the power source voltage is kept constant.例文帳に追加

不揮発性メモリセルにおける電源電圧が一定であっても、プロセスばらつきのために、容量絶縁膜あるいはトンネル絶縁膜にかかる電界ストレスがばらつき、最大の電界ストレスがかかるチップは寿命が短く、信頼性低下を招く。 - 特許庁

When the product reaches a specified temperature after the cooling process is started, a driving source 14 is first operated to push a lower die member 2 and a lower die peripheral member 3 from the lower side to apply pressure on the molded product 6 so as to prevent deformation of the face shape of the molded product 6.例文帳に追加

冷却開始後、所定の温度になったとき、成形品６の面形状が崩れないように、まず、駆動源１４を押し出し動作させ、下型部材２および下型外周部材３を、下方から押圧し、成形品６に圧力を印加する。 - 特許庁

A molding mold is used in a molding process, and the first molding member 11 of the transmissible resin material which transmits laser beams as a heating source the second molding member of the non-transmissible resin material which does not transmit the laser beams are molded respectively.例文帳に追加

成形工程で、成形型を用い、加熱源としてのレーザ光に対して透過性のある透過性樹脂材よりなる第１成形部材１１と、該レーザ光に対して透過性のない非透過性樹脂材よりなる第２成形部材とをそれぞれ成形する。 - 特許庁

This software generation device generates the source code suitable to the platform on which the software is executed based on the software program composed of the three kinds of components and profile information (processing time or the number of process cycles in each operation module, the access information on a memory, etc.).例文帳に追加

ソフトウェア生成装置は、この三種の構成要素から構成されるソフトウェアプログラムと、プロファイル情報（各演算モジュールでの処理時間あるいは処理サイクル数やメモリのアクセス情報など）を元に、ソフトウェアを実行するプラットフォームに適したソースコードを生成する。 - 特許庁

To provide a diamond electron source and its manufacturing method wherein one sharp-pointed section as an electron emission point for use in an electron beam device such as an electron microscope is formed at one end of a columnar diamond single crystal having a size where resist coating is difficult in a microfabrication process.例文帳に追加

電子顕微鏡などの電子線機器に用いられる電子放射点として、微細加工プロセスにおいてレジスト塗布が困難なサイズの柱状ダイヤモンド単結晶の片端に、一ヶ所の先鋭部を形成したダイヤモンド電子源及びその方法を提供する。 - 特許庁

The induction coupling type plasma source comprises a plasma generation chamber 2 having a wall formed of a material transmitting an electromagnetic wave, a gas inlet part for introducing a process gas into the plasma generating chamber 2, and an antenna 20 arranged along the wall of the plasma generating chamber 2.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ源は、電磁波を透過する材質で形成された壁を有するプラズマ生成室２と、プラズマ生成室２の内部にプロセスガスを導入するガス導入ポート３と、プラズマ生成室２の壁に沿って配置されたアンテナ２０とを備えている。 - 特許庁

In a process of forming the source electrode and the drain electrode, first correction data is created by correcting exposure data based on warp of the substrate and a ratio of expansion and contraction of the substrate in a condition where a channel length of the thin film transistor is fixed by using scaling processing.例文帳に追加

ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第１の補正データを作成する。 - 特許庁

Information regarding the debugging which is generated by the compiling and linking processes and information program rearrangement by an object process are connected by using the recognition numbers as media and then debugging information for the source code debugging in the test operation of the object processor is generated.例文帳に追加

コンパイル・リンク処理で生成するデバッグに係る情報と、対象プロセッサでのプログラム再配置情報とを、上記の認識番号を媒介として結び付け、それによって、対象プロセッサでのテスト動作におけるソースコードデバッグのためのデバッグ情報を作成する。 - 特許庁

In each process for acquiring the voltage value, the voltage value_1,1,1 and the voltage value_1,1,n are acquired after keeping the current flowing in the superconductive wire material from a constant current source 6 for a fixed time in the state of a fixed frequency and a fixed current value set beforehand.例文帳に追加

上記の電圧値を得る工程の各々において、定電流源６から超電導線材１に流す電流を一定の周波数および一定の電流値に設定した状態で一定時間保持した後で、電圧値Ｖ_1,1,1および電圧値Ｖ_1,1,nを得る。 - 特許庁

In the pixel circuit fabricated by using an MOS process, a transistor T2 is used as a constant current source to apply a constant current Io on an organic EL thin film 4 connected to a transistor T3 to allow the organic EL thin film to emit light while the transistor T3 is energized.例文帳に追加

ＭＯＳプロセスを用いて形成される画素回路において、トランジスタＴ２を定電流源とし、トランジスタＴ３に接続された有機ＥＬ薄膜４に対して、トランジスタＴ３の導通期間に、定電流Ｉｏを印加して有機ＥＬ薄膜を発光させる。 - 特許庁

In the flat surface optical circuit having a plurality of optical path changing mirrors within a substrate, a mirror surface direction (β) is so set that the prescribed mirror angle (δ) can be obtained based on the positional relations (D and θ) on the vapor deposition source and the substrate surface in a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

基板内に複数の光路変換ミラーを有する平面光回路において、斜め蒸着工程における蒸着源と基板面上との位置関係（Ｄ，θ）をもとに、所定のミラー角度（δ）を得られるようにミラー面方向（β）を設定する。 - 特許庁

The threshold voltage of the element is prevented from varying since an impurity activating process for the source/drain area can be omitted, and no determination defect of the substrate is generated since the impurities are diffused in a solid state, so that a leak current flowing through a joint can be reduced.例文帳に追加

ソース／ドレーン領域の不純物活性化工程が省略できるので素子のスレショルド電圧変動を防止でき、固体状態で不純物を拡散させるために基板の決定欠陥が発生せず、よって接合を通じた漏れ電流を減らせる。 - 特許庁

To efficiently remove copper without needing a large-scaled facility, when removing copper in molten pig iron which is produced by a process of using a copper-containing iron scrap as an iron source and melting the iron scrap, by using a sulfur-containing flux such as an FeS-Na_2S-based flux.例文帳に追加

鉄源として銅含有鋼屑を使用し、該鋼屑を溶解して製造される溶銑中の銅を、ＦｅＳ−Ｎａ_2Ｓ系フラックスなどの硫黄含有フラックスにより除去するに際し、大がかりな設備を必要とせずに効率良く銅を除去する。 - 特許庁

A control means 9 compares the temporal variation of the frequency of the abnormal electric discharge at each point in time of the sputter process shown by the amount of cumulative electric energy applied to a target 4, and the power source exhibiting a smaller frequency of abnormal discharge per unit time is operated each time.例文帳に追加

制御手段９は、ターゲット４への積算電力量にて示される、スパッタ工程の各時点において、前記した異常放電発生回数の経時変化を比較して、単位時間当りの発生回数が少ない方の電源をその都度作動させる。 - 特許庁

The soft X-ray 14 emitted from a light source part 7 is focused to high energy density using an ellipsoidal mirror 15, and a workpiece 19 is irradiated with the focused light in a prescribed pattern in order to process only the area of the workpiece 19 that has been irradiated with soft X-ray 14 in the prescribed pattern.例文帳に追加

光源部７から放射される軟Ｘ線１４を、楕円ミラー１５で高エネルギー密度に集光して所定のパターンで被加工物１９に照射し、被加工物１９を所定のパターンで軟Ｘ線１４を照射した部分のみを加工する。 - 特許庁

This process control system is provided with a terminal state control table for managing the information of each terminal, and is configured to prevent double operation instructions by performing picture exclusive control and message display, and allows a computer main body to turn on/off the power source and picture task of each terminal.例文帳に追加

各端末機の情報を管理する端末状態制御テーブルを有し、画面排他制御ならびにメッセージ表示を行い２重の操作指示を防止し、計算機本体から各端末機の電源ならびに画面タスクのオンオフを行えるようにする。 - 特許庁

To enable an iron source material containing Cr to be used for direct- reduced iron manufacture, reduce necessary energy in a downstream process (electric furnace, converter or the like), shorten time for direct reduction, and at the same time, to miniaturize a facility for manufacturing direct-reduced iron and reduce heat dissipation quantity.例文帳に追加

還元鉄製造にCｒを含有している鉄源材料の利用を可能ならしめ、下工程（電気炉，転炉等）の必要エネルギーの低減と、還元時間の短縮を図り、併せて、還元鉄製造設備の小型化と放散熱量低減を図る。 - 特許庁

This semiconductor device comprises a semiconductor substrate, a plurality of gate electrodes 12 formed in a stripe shape in this semiconductor substrate, and a plurality of source regions 14 formed in the semiconductor substrate in a self-alignment process with respect to this gate electrode 12.例文帳に追加

この半導体装置は、半導体基板と、この半導体基板にストライプ状に形成された複数本のゲート電極１２と、このゲート電極１２に対して自己整合的に半導体基板に形成された複数本のソース領域１４とを備えている。 - 特許庁

Such a solid block detergent can be manufactured by a process in which a source of alkalinity, a functional material including a condensed phosphate sequestering agent, an organic compound having two vicinal hydroxyl groups, are combined in a pourable composition or liquid.例文帳に追加

このような固体ブロック洗浄剤は、アルカリ性の源、縮合ホスフェート金属イオン封鎖剤を含む機能性材料、および２個のビシナルヒドロキシル基を有する有機化合物が注入可能な組成物または液体に組合せられる方法により製造することができる。 - 特許庁