「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The plasma source assembly 160 includes: coils 109, 111 configured to inductively couple RF energy into the process chamber 110 to form and maintain plasma in the process chamber 110; a phase controller for controlling the relative phase of an RF current applied to each of the coils 109, 111; and an RF generator 118 coupled to the phase controller 104 and the coils 109, 111.例文帳に追加

プラズマソースアセンブリ１６０は、ＲＦエネルギーを処理チャンバ１１０に誘導結合することによっての処理チャンバ１１０内でプラズマを形成し及び維持するように構成されたコイル１０９，１１１と、コイル１０９，１１１のそれぞれに印加されるＲＦ電流の相対位相を制御するための位相コントローラと、位相コントローラ１０４及びコイル１０９，１１１に連結されたＲＦ発生器１１８を含む。 - 特許庁

A stapler driving method includes the first process in which first power is supplied toward a motor which is the driving source of the stapling operation, before a point of time of a specified operation spot included in a stapling operation, and after the point of time of the operation spot, second power lower than the first power is supplied toward the motor, and a second process for braking the motor after the time of the operation spot.例文帳に追加

ステープル動作に含まれた特定の動作箇所の時点より前の時点では、ステープル動作の駆動源であるモータに向けて、第１の電力を供給させ、その動作箇所の時点より後の時点では、そのモータに向けて、その第１の電力よりも低い第２の電力を供給させる第１過程と、上記動作箇所の時点の後に上記モータに対し制動を掛ける第２過程とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor element comprises: a first process for forming a first conductive type source region 4 in a second conductive type body region 3 formed on a first conductive type substrate 1 through ion pouring employing a pouring mask; and a second process for forming a doped region 13 doped by pouring acceptor impurities into the second conductive type body region 3 employing the pouring mask.例文帳に追加

第１導電型の基板１上に形成された第２導電型のボディ領域３内に注入マスクを用いたイオン注入により第１導電型のソース領域４を形成する第１の工程と、前記注入マスクを用いて第２導電型のボディ領域３内にアクセプタ不純物を注入することによりドーピングされた領域１３を形成する第２の工程とを含む。 - 特許庁

The method has (a) a process for amplifying the sequence containing the site 38th of the sequence number 3 or 4 using a DNA extracted from tobacco as a template and (2) a process for cleaving the selected amplification product with BfaI and when the amplification product is cleft with BfaI, and individual supply source of the DNA is selected as the tobacco having bactericidal wilt resistance.例文帳に追加

また、立枯病抵抗性のタバコを選抜する方法であって、（1）タバコから抽出したDNAをテンプレートとして、配列番号3または4の部位38を含む配列を増幅する工程と、（2）選られた増幅産物をBfaＩで切断する工程とを含み、前記増幅産物がBfaＩで切断された場合に、前記DNAの供給源である個体を立枯病抵抗性のタバコとして選抜することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁

The database stores various kinds of information such as history data on the previous change of the process control system, which is related to the decision of a step for changing event data, warning data, the notice of scheduled maintenance and an operation parameter and a step for analyzing or correcting the source of the problem detected in the process control system and the detected problem.例文帳に追加

データベースは、事象データおよび警報データ、スケジュールされた保守の通知および動作パラメータに対する変更、プロセス制御システムで検出された問題の源と検出された問題をさらに解析するかまたは補正するのに必要なステップの両方を決定するのに関連する、プロセス制御システムに対する前の変更に関する履歴的データのような様々な種類の情報を記憶する。 - 特許庁

The thin film transistor according to the manufacturing method comprises the insulating board, the gate electrode formed on the board, the gate insulating film formed on the gate electrode, the polycrystalline silicon layer which is formed on the gate insulating film through a crystallization process employing the SGS crystallization method, and the source/drain areas and the source/drain electrodes which are formed in given areas on the board.例文帳に追加

本発明の薄膜トランジスタ及びその製造方法は絶縁基板と；基板上に形成されたゲート電極と；ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と；ゲート絶縁膜上に形成されて、ＳＧＳ結晶化法で結晶化された多結晶シリコーン層；及び基板上の所定領域に形成されたソース／ドレイン領域及びソース／ドレイン電極を含んで構成された薄膜トランジスタ及びその製造方法に技術的特徴がある。 - 特許庁

To provide a digital display signal processing circuit dissolving such weak points as increasing the current consumption due to use of a signal source clock from a PLL circuit, increasing the cost because of requiring the adjustment process of the PLL circuit, and not being able to correctly sample an inputted digital display signal.例文帳に追加

ＰＬＬ回路からの信号源クロックを用いるため消費電流が増大し、またＰＬＬ回路の調整工程が必要となるためコストがかかり、更に入力されるデジタル表示信号を正しくサンプリングすることができないという欠点を解消したデジタル表示信号回路を提供する。 - 特許庁

A cathode electrode CL is formed using a transparent electrode at only a required portion and using an electrode material with a low resistance value such as a printed-metal electrode in the portion other than that, thereby a manufacturing process of the nano material electron source by a back face exposure method can be introduced while securing low resistance of the cathode electrode.例文帳に追加

必要な部分にのみ透明電極を用い、それ以外は印刷金属電極等の抵抗値の低い電極材料を用いてカソード電極ＣＬを形成することにより、カソード電極ＣＬの低抵抗化を確保した上で、背面露光法によるナノ材料電子源の作製プロセスを導入することができる。 - 特許庁

The light guide plate can increase a uniformity of incident lights without increasing the size and number of the light source, and can reduce a mixing area by distributing the incident lights at a wider angle, and can reduce a manufacturing cost due to simplicity of the manufacturing process.例文帳に追加

本発明における導光板は、光源の大きさや個数を増大させること無く入射される光の均一度を向上させることができ、入射される光をより広い角に分布させることによりミキシング区域を減少させることができ、製造工程が簡単で生産原価を低減させることが出来るという長所がある。 - 特許庁

An electrostatic discharging control means 17 decides whether electric charges accumulated in the transfer conveying belt 216 to which the transfer voltage is applied by a transfer roller 225 is to be removed and energizes an electrostatic discharging roller 12a with a high-voltage power source 16 when deciding that the electrostatic discharging process is necessary.例文帳に追加

除電制御手段１７は、転写ローラ２２５により転写電圧を印加された転写搬送ベルト２１６に蓄積される電荷が除電処理を施すべき程度であるか否かを判断して、除電処理が必要であると判断した場合にのみ高圧電源１６から除電ローラ１２ａに通電を行わせる。 - 特許庁

The fund management system 10 records payment request data including payment source information in accordance with a payment request from a member companies a1, a2 and the like, creates alternative payment data in which a plurality of payment plans are assembled based on the payment request data and transmit the alternative payment data to banks A, B, C to make them process each payment plan.例文帳に追加

資金管理システム１０は、子会社ａ１，ａ２…からの支払依頼に応じて支払元情報を含む支払依頼データを記録し、該支払依頼データに基づいて複数の支払案件をまとめた支払代行データを作成し、該支払代行データを銀行Ａ，Ｂ，Ｃに伝送して各支払案件を処理させる。 - 特許庁

The position estimation process is composed of the steps: (i) the ultrasonic transmission source 20 is transmitting the ultrasound in a certain interval; (ii) the self-propelled body 1 is obtaining a phase after receiving ultrasound; (iii) extracting the optimum phase information from among the phase data; (vi) estimating the correct position from the phase differences of two pairs of receivers.例文帳に追加

（i）超音波発信源２０は、超音波を一定間隔で送信し、（ii）自走体１は、超音波を受信後位相を求め、（iii）位相データの中から最適な位相情報を抽出し、（iiii）２組の受信器間の位相差より正確な位置を推定する、というステップを含む位置推定処理が行われる。 - 特許庁

A BIFS source pre-process module 501 acquires URL information 508 and size information 509 of the entity of the object on the basis of a scene description 505 used for encoding the scene and an object transcoder module 502 revises a size of a reference object 510 on the basis of the acquired URL information and size information 508 to output a modified reference object 511.例文帳に追加

シーンを符号化するためのシーン記述５０５からオブジェクトの実体のＵＲＬ情報５０８およびサイズ情報５０９を取得し、取得されたＵＲＬ情報５０８およびサイズ情報５０９に基づき参照オブジェクト５１０の大きさを変更して改変参照オブジェクト５１１にする。 - 特許庁

To provide a synchronous signal superposition unit and a synchronous signal superposition method, where high-power source voltage is not needed, deterioration of the frequency characteristics of a terminal system due to the frequency characteristics of a coupling capacitor or a driver are not caused, and to provide a process such that the settings of a terminal circuit are changed by switching for camera is not needed.例文帳に追加

高い電源電圧が不要で、結合コンデンサやドライバの周波数特性による終端系の周波数特性の劣化を招くことがなく、終端回路を切換などによってカメラ側に合わせて設定変更するなどの措置が不要である同期信号重畳装置及び同期信号重畳方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, air for cooling from a suction fan 61 flows while being branched in four directions between the upside of the fixer 35 and the first auxiliary plate 57 (direction A), on the side of the lower surface of the first auxiliary plate 57 (direction B), on the side of the top end of the process cartridge 21 (direction C) and on the side of the power source part 73 (direction D).例文帳に追加

従って、吸気ファン６１からの冷却用空気は、定着器３５の上方と第１補助プレート５７との間（Ａ方向）と、第１補助プレート５７の下面側（Ｂ方向）と、プロセスカートリッジ２１の先端側（Ｃ方向）と、電源部７３側（Ｄ方向）の４方向に分かれて分流する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor improved in both of an increase of a residual potential and generation of image blur, free from problems even in exposure by a light source at a short wavelength, capable of forming an image of extremely high picture quality, and excellent in wear resistance characteristics; and to provide an image forming apparatus and a process cartridge using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

残留電位の上昇と画像ボケの発生を共に改善し、短波光源による露光においても問題を生ぜず、極めて高画質画像が得られる、耐摩耗特性に優れた電子写真感光体を提供し、該電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To make easier such a recovery process as the removal of jammed paper, the toner left on a developing roll, etc., performed on an image forming device after the device returns to a normal state, by operating prescribed parts in the device for a prescribed period of time when a normally used power source is emergently turned off due to an abnormal status during the image forming operation of the device.例文帳に追加

画像形成装置の画像形成動作時の異常事態発生による通常使用される電源（通常使用電源）の緊急オフ時に画像形成装置内の所定部品を所定時間作動させて、復帰後の紙詰まり処理や現像ロール上の残トナーを除去などのリカバリー処理を容易にすること。 - 特許庁

In addition, the system and the method transmit the request to the information from the intermediate data server to other intermediate data server if the information is not stored in the data source and access the data base in order to retrieve the information following the other process which receives the request of the information.例文帳に追加

また、このシステム及び方法は、もしその情報がそのデータソース内に格納されていなければ、中間データサーバからの情報に対する要求を他の中間データサーバに送り、そして、その情報の要求を受け取った他のプロセスに続いてその情報を検索するためにそのデータベースにアクセスする。 - 特許庁

A semiconductor wafer or semiconductor device having surface defects generated in a stage of manufacturing the semiconductor wafer or in a specified process of manufacturing the semiconductor device is annealed in a hydrogen gas atmosphere including a semiconductor material source gas at low temperatures of 950°C or lower in a high vacuum of 102 Torr or below.例文帳に追加

半導体ウェーハの製造段階または半導体素子の特定工程段階で発生した表面欠陥が存在する半導体ウェーハまたは半導体素子を１０^-2Ｔｏｒｒ以下の高真空、９５０℃以下の低温及び半導体物質ソースガスを含む水素ガス雰囲気下でアニーリングさせる。 - 特許庁

To improve an existing wastewater treatment process by performing sludge solubilizing treatment and forming a carbon source or a precursor substance for biological dephosphorization for the purpose of stabilizing the biological dephosphorization, achieving the recovery efficiency of phosphorus resources and reducing the discharge amount of excess sludge.例文帳に追加

汚泥の可溶化処理を行い、生物学的リン除去のための炭素源あるいはその前駆物質を生成することで、生物学的リン除去の安定化ならびにリン資源回収の効率化が図れるとともに、余剰汚泥の排出量も削減が可能となる既存廃水処理プロセスの改善を目的とする。 - 特許庁

In the treatment method of the sludge biologically treating organic waste water, generated surplus sludge is sterilized by being electrolyzed after addition of a chloride, and the chlorine gas generated during the electrolysis process is recovered to be introduced into an electrolytic cell as a gas for agitation and/or a chloride source used for the electrolysis.例文帳に追加

有機性廃水を生物学的に処理する汚泥の処理方法において、発生する余剰汚泥に塩化物を添加し電解処理をすることにより殺菌処理を行い、電解処理過程で発生する塩素ガスを回収し、攪拌用気体及び／又は電解処理に供する塩化物源として電解処理槽に導入する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrostatic charge image developing toner by which the fine powder produced as a byproduct in the process of manufacturing a toner is reused as a source material to improve the productivity and a toner having little changes in electrified charges with environmental changes, durable for a long term use and free from filming is obtained.例文帳に追加

トナーを製造する際に副生する微粉を再び原料として再使用することにより生産性を向上させ、環境が変化することによる帯電量変化の少ない、しかも長期間の使用に耐え、かつフィルミングを生じることのない静電荷像現像用トナーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a process for forming the thin-film element composed using the glass substrate for laminating a plurality of thin films, a film for absorbing radiation from a heat source is locally formed at the specific portion of the substrate, on which the thin film element is formed for heat-treating to prevent the substrate from being damaged thermally.例文帳に追加

ガラス基板を用いて複数の薄膜を積層して構成される薄膜素子を形成する工程において、該基板に熱的な損傷を与えることなく行うために、薄膜素子が形成される基板の特定部分に、熱源からの輻射を吸収する被膜を局所的に形成して熱処理を行うものである。 - 特許庁

Information obtained from an input packet is held in a table entry in the device and it is determined whether processing such as encryption, etc., is necessary from the transmission source or output destination of the input packet or the state in the device to process only packets which need to be encrypted and so on, thereby decreasing the computation quantity.例文帳に追加

入力パケットから得られた情報を装置内テーブルエントリに保持し、入力パケットの発信元あるいは出力先あるいは装置内部の状態に応じて暗号化等の処理の要否を判断することで暗号化等の必要なパケットだけに処理を施すことで計算量を削減する。 - 特許庁

To provide a drawing system, a drawing device and a drawing method where drawing process and other processes can be carried out in parallel, by using light from a single light source in a plurality of drawing devices or a plurality of drawing processing units, and the utilization rate of a laser and the manufacturing efficiency of substrates can be improved.例文帳に追加

複数台の描画装置または複数の描画処理部において、１つの光源からの光を使用して描画処理とその他の処理とを並行して進行させることができ、レーザの稼働率および基板の製造効率を向上させることができる描画システム、描画装置、および描画方法を提供する。 - 特許庁

A sliding member has, on its sliding surface, a thin coating film having a hydrogen content of less than 30 atomic %, the thin film being composed of a diamond-like carbon film or an amorphous carbon film, that are prepared by the plasma source ion injection process, wherein ions are injected by forming a plasma around a base material 3 and applying a negative pulse voltage to the base material.例文帳に追加

基材３の周囲にプラズマを形成し、基材に負のパルス電圧を印加することによってイオン注入を行うプラズマソースイオン注入法により作製したダイヤモンドライクカーボン膜あるいは非晶質カーボン膜であって、水素含有量が３０原子％未満である薄膜を摺動面に被覆した。 - 特許庁

To provide a carbon dioxide recovery system and a carbon dioxide recovery process which significantly reduce heat energy consumption by utilizing combustion gas exhausted from a synthesis gas production apparatus producing hydrogen or the heat of synthesis gas obtained from a synthesis gas production apparatus for the heat source for the steam supply unit.例文帳に追加

水素を製造する合成ガス製造装置から排出される燃焼排ガスや、合成ガス製造装置から導出される合成ガスの熱を水蒸気供給装置の熱源として利用し、熱エネルギの消費を大幅に削減できる二酸化炭素回収システムおよび二酸化炭素回収方法を提供すること目的とする。 - 特許庁

Consequently, even if an amount of sinking of an upper surface of the vertical gate electrode 19 or an upper surface of a buried insulating film 20 from a surface of the source region 21 varies in a manufacturing process, it is possible that the threshold voltage does not vary, and the impurity concentration can be reduced to easily obtain the low threshold voltage.例文帳に追加

これによって、縦型ゲート電極１９の上面または埋め込み絶縁膜２０の上面の、ソース領域２１表面からの落ち込み量が製造工程でばらついても閾値電圧が変動しないようにでき、また不純物濃度を低減させて容易に低閾値電圧を得ることができる。 - 特許庁

After forming the source and drain (n+ type semiconductor regions) of an MISFET, a p-type semiconductor region 10 is formed to suppress the short channel effect and the p-type semiconductor region 10 is formed at a minimum essential region by suppressing an impurity from diffusing due to the heat history of the process.例文帳に追加

ＭＩＳＦＥＴのソース、ドレイン（ｎ^+型半導体領域）を形成した後に、短チャネル効果を抑制するためのｐ型半導体領域１０を形成し、プロセスの熱履歴による不純物の拡散を抑えることによって、必要最小限の領域にｐ型半導体領域１０を形成する。 - 特許庁

Using a high frequency reaction sputtering process in which an Al_2O_3 target is used and discharge is performed in a gaseous mixture of Ar and N_2 by a high frequency power source, and by adjusting relationship between the bias voltage to be applied at the sputtering and the temperature of a metal base material, the hard protective film is formed so as to have a plastic deformation hardness of ≥30 GPa.例文帳に追加

Al_2O_3ターゲットを用いて高周波電源によってAr及びN_2の混合ガス中で放電させる高周波反応スパッタ法を用い、その際に印加するバイアス電圧と金属母材の温度との関係を調整することによって、硬質保護膜を30GPa以上の塑性変形硬さに形成する。 - 特許庁

In the process of manufacturing multilayer carbon nanotubes by a catalytic vapor phase growth method in which a carbon source gas is made to flow in a heated atmosphere held at a predetermined temperature in the presence of a catalyst and multilayer carbon nanotubes are grown from the surface of the catalyst, an iron-containing garnet powder is used for the catalyst.例文帳に追加

触媒が存在し且つ所定温度に保持された加熱雰囲気内に炭素源気体を流通し、前記触媒の表面から多層カーボンナノチューブを成長させる触媒気相成長法によって多層カーボンナノチューブを製造する際に、前記触媒として、鉄含有のガーネット粉末を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for treating sludge by heating/pressurizing floatation thickening using digestion gas which method uses a pressurizing method using the digestion gas, and a heating method jointly and is an economical thickening method keeping equipment ability un-lowered by taking notice to a bubble generation means by a temperature difference and a heat source obtained in a sewage treatment process.例文帳に追加

温度差による気泡発生手段と下水処理工程で得られる熱源に着目し、設備能力を落さずかつ経済的な濃縮方法として、消化ガスを用いた加圧手法と加温手法を併用した消化ガスを使用した加温加圧浮上濃縮による汚泥の処理方法を得る。 - 特許庁

Continuously, the HT terminal attempts detection of a data packet from an RTS packet transmission source just for a period adding only a predetermined time α to the NAV 1, judges that a transmission/reception preparation process fails when no packet is received within the period, cancels a NAV 2 based on MAC Duration, and starts transmitting operation.例文帳に追加

続いて、ＮＡＶ１に所定時間αだけ加えた期間だけ、ＲＴＳパケット送信元からのデータ・パケットの検出を試み、この期間内にデータ・パケットを受信しなかったときには、送受信準備手順が失敗したと判断して、ＭＡＣ Ｄｕｒａｔｉｏｎに基づくＮＡＶ２を解除して、送信動作を開始する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can easily realize an improvement in image quality, the increase of an image forming speed, and downsizing, even when a surface emitting laser array is mounted as the light source of an exposure device and can obtain images of good quality even when an image forming process is repeated for a long period of time.例文帳に追加

露光装置の光源として面発光レーザアレイを搭載した場合でも、画像の画質の向上、画像形成速度の高速化及び小型化が容易に実現可能であり、然も長期にわたり画像形成プロセスを繰り返しても良好な画質の画像を得れる画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a sense circuit for DRAM memory cells that deals with the problems that as the source-supply voltage is lowered more and more, the sense time becomes considerably longer, that the sense time for lower voltage is shorter at high temperature, that the sense time greatly varies with process variation, etc.例文帳に追加

本願発明の課題は、電源電圧が低電圧化されるに従いセンス時間が著しく遅くなる、低電圧でのセンス時間が高温で高速になり、さらにプロセスばらつきに対してセンス時間が大きく変化してしまうこと等に対応したＤＲＡＭメモリセル用のセンス回路を提供することにある。 - 特許庁

The method for producing the compound oxide nanoparticle black pigment comprises producing nanoparticles of the compound oxide through a supercritical hydrothermal process from an aqueous solution, as a source material, that contains each metal salt of Cu, Mn and Fe in a compounding ratio of Cu:Mn:Fe, by mole, of 1:1:0.6 or 1:1:0.3.例文帳に追加

この複合酸化物ナノ粒子黒色顔料を製造する方法は、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅの各金属塩をＣｕ：Ｍｎ：Ｆｅのモル比が１：１：０．６または１：１：０．３となる配合比で含む水溶液を原料として、超臨界水熱プロセスにより上記複合酸化物のナノ粒子を生成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiation image conversion panel that includes a process where a phosphor layer is formed by evaporating a substance generated through the application of heat to phosphors or an evaporation source containing a material of the phosphors onto a substrate, the evaporation is carried out in an atmosphere whose moisture partial pressure is 7.0×10^-3 Pa or lower.例文帳に追加

蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、蒸着を、水分圧が７．０×１０^-3Ｐａ以下の雰囲気中でを行う。 - 特許庁

In the biological treatment process 101, mixed liquid containing 10^7 to 10^10 pieces of microorganisms per milliliter and a nutrient source for accelerating the propagation of microorganisms are supplied to a first aeration tank together with waste water, and the microorganisms decompose an organic matter in the waste water while forming biological slime on the surface of activated carbon.例文帳に追加

生物処理工程１０１では、１ミリリットル当たり１０^７〜１０^１０個の微生物を含む混合液と微生物の増殖を促進させる栄養源とが廃水とともに第１曝気槽に投入され、微生物が活性炭の表面に生物膜を形成しつつ廃水中の有機物を分解する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁

Image formation is appropriately controlled by estimating change due to VL increase and change due to VL decrease, while taking into account the rotating time of a photoreceptor, stopping time of the photoreceptor, the temperature of atmosphere environment, the absolute humidity of atmosphere environment, and the effect of the fixing device on the heat source for each process station.例文帳に追加

感光体回転時間、感光体停止時間、雰囲気環境の温度、雰囲気環境の絶対湿度、定着装置からの熱源の影響をプロセスステーション毎に考慮して、ＶＬアップとＶＬダウンによる変動をそれぞれ予測することで、適切な画像形成制御を行うことを特徴とする。 - 特許庁

An application for the registration of a geographical indication shall be refused by the Directorate General, if the sign concerned: a. is against morality of religion, public order, likely to deceive or mislead people as to the characteristics, such as features, quality, source of origin, process of production or use; b. is not qualified to be registered as a geographical indication. 例文帳に追加

地理的表示の登録出願は，当該標識が次の場合，総局によって拒絶される。 (a) 宗教規範，道徳，公共の秩序に反するか，特質，品質，原産地，生産工程，使用法等の特徴について社会を誤認混同させる。 (b) 地理的表示として登録される要件を備えていない。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which eliminates the need for prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity, in particular, high sensitivity and good pattern forming properties to active energy rays having a maximum emission wavelength in the range of 400-410 nm from a semiconductor laser as an irradiation source.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The still picture Y signal from a terminal 501 and the image signal after an NR(noise reduction) process in a last frame from a memory 8 are processed by a subtracter 505 and an absolute value circuit 506 and multiplied by the coefficient (k), a sign bit is added, and a subtracter 511 subtracts the result from the source still picture Y signal.例文帳に追加

端子５０１から入力される静止画Ｙ信号とメモリ８からの前フレームでＮＲ処理された画像信号とが減算器５０５、絶対値回路５０６で処理された後、上記係数ｋが乗算され、ｓｉｇｎ ｂｉｔが付加されて減算器５１１で元の静止画Ｙ信号と減算される。 - 特許庁

In the process of a conversation type session between the user and a machine, this reliability-based authentication system periodically analyzes the input speech of the user who converses with the system so as to compute a 'reliability index' regarding the adequacy of a source discrimination request (i) that the user provides at the start of a dialog session.例文帳に追加

ユーザとマシンとの間の会話型セッションの過程の間に、本発明による信頼性ベースの認証システムは、ダイアログ・セッションの開始時にユーザによって提供される元の識別要求ｉの妥当性についての「信頼性指標」を計算するために、システムと対話するユーザの入力発話を周期的に解析することになる。 - 特許庁

As a result, the electrode 71a, the insulating film 75a and the power source line 93 are formed by using steps to form the storage capacitor 70, and consequently the MIM element 411 is formed without significantly changing a design for a liquid crystal device 1, and further without complicating a manufacturing process of the liquid crystal device 1.例文帳に追加

したがって、蓄積容量７０を形成する工程を利用して電極７１ａ、絶縁膜７５ａ及び電源線９３を形成できるため、液晶装置１の設計を大きく変更することなく、且つ液晶装置１の製造プロセスを煩雑化させることなくＭＩＭ素子４１１が形成される。 - 特許庁