「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide zinc oxide nanoparticles for an ultraviolet light emitting body which have high crystallinity and are applicable to an ultraviolet light source or an ultraviolet laser with green luminescence being vanished, with a very simple process, a solution in which such nanoparticles are dispersed, and a method for producing the zinc oxide nanoparticles for the ultraviolet light emitting body.例文帳に追加

非常に単純な工程で結晶性の高い、緑色の発光を消失させた紫外線光源や紫外線レーザーなどに応用できる紫外線発光体用酸化亜鉛ナノ微粒子及び該ナノ微粒子が分散した溶液並びに紫外線発光体用酸化亜鉛ナノ微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To aim at a stabilization of properties of an electron emitting element, improvement of dimensional and positional accuracy, when forming an element film, stabilization of manufacture, and simplification of process, for an electron source formed by connecting a plurality of electron emitting elements, having conductive film which includes an electron emitting part between element electrodes.例文帳に追加

素子電極間に電子放出部を含む導電性膜を有する複数の電子放出素子を配線接続してなる電子源において、帯電防止による電子放出素子の特性安定化を図ると共に、素子膜形成時の寸法精度と位置精度の向上、製造の安定化とプロセスの簡略化を図る。 - 特許庁

To obtain an evaporation source which has superior heat responsibility on heating and cooling, gives no molecular damage to vaporizing materials 2, and hence is most suitable for a manufacturing process of an organic electroluminescent element by means of laminating films of organic polymer materials, through sequentially evaporating the several vaporizing materials 2 and depositing them on a substrate 17.例文帳に追加

加熱、冷却時の熱応答性に優れ、しかも蒸発材料２に分子的なダメージを与えることなく、それ故に複数の蒸発材料２を順次蒸発させて基板１７上に堆積させる必要がある有機高分子材料の多層膜を使用した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に最適な蒸着源を得る。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of reducing film stripping or film floating of a source signal line afterward occurring caused by cutting of a CF glass substrate located on the upper part of a data signal input terminal, and capable of reducing the deterioration of yield of quality in the manufacturing process due to the film stripping or the film floating.例文帳に追加

データ信号入力端子の上部に位置するＣＦガラス基板の切断に起因して後発生する、ソース信号線の膜剥がれ、膜浮きの低減、および膜剥がれ、膜浮きによる製造工程における品質歩留まりの低下の低減を可能にする液晶表示装置を得ることを目的とする。 - 特許庁

A timing extraction is not carried out by a clock data recovery circuit independently in each parallel data channel, and a plurality of parallel data signals produced from the same clock source are subjected to a re-timing process by use of a frame synchronizing system on the basis of a single clock signal extracted by using the clock data recovery circuit from a data signal.例文帳に追加

並列データチャネル毎に独立にクロックデータリカバリー回路によるタイミング抽出を行わず、同一クロック源から生成される複数の並列データ信号を、データ信号からクロックデータリカバリー回路を用いて抽出した単一のクロック信号を基準に、フレーム同期方式を用いてリタイミング処理する。 - 特許庁

According to the present invention high-speed operation is done at a low voltage, a stable signal-to-noise characteristic and the amplitude of differential output signal are provided in response to change in the source of electric power supply, the operating temperature, and manufacturing process, and the circuit and method are easily applicable to a low-voltage operating environment.例文帳に追加

本発明によれば、低い供給電源で高速動作が可能であり、供給電源と動作温度及び製造工程などの変化に対して安定した信号雑音特性と差動出力信号の大きさを提供することができ、低電圧の動作環境への適用が容易である。 - 特許庁

In the process of irradiating a semiconductor substrate 2 with light from a light source 11 through a photomask 13, the substrate is irradiated with light through a photomask 13 having a photomask substrate 21 comprising quantum dots 31 and a light shielding film 22 formed on the photomask substrate 21 according to a desired pattern to be transferred.例文帳に追加

光源１１からの光をフォトマスク１３を介して半導体基板２に照射する際において、量子ドット３１が含められてなるフォトマスク基板２１を有し、転写すべき所望のパターンに応じて遮光膜２２がフォトマスク基板２１上に成膜されたフォトマスク１３を介して光を照射する。 - 特許庁

Usually in the case the resistance values of the resistance components r1 and r2 are high, the current supplied from the constant voltage source 152 to the resistance components r1 and r2 are a few, and the transfer process is not affected, but under an environment where the temperature and humidity are high, the shortage of the transfer current to the resistance component r1 becomes conspicuous.例文帳に追加

通常、抵抗成分ｒ１及びｒ２の抵抗値が大きい場合は、定電圧源１５２から抵抗成分ｒ１及びｒ２に供給する電流は僅かで、転写には影響しないが、高温高湿環境下では、転写のための抵抗成分ｒ１への電流不足が顕著となる。 - 特許庁

To provide a characteristics adjusting method of an image forming device that is capable of adjusting the characteristics of a multiple electron source by a simple process and making uniform the surface emission characteristics of the image display, by utilizing the unique nature of the electron emitting element, and a manufacturing method of the image forming device, and the image forming device and the characteristics adjusting device.例文帳に追加

電子放出素子に特有の性質を利用して、簡易な工程でマルチ電子源の特性を調整し、画像表示の面内発光特性を均一にすることが可能な画像形成装置の特性調整方法、画像形成装置の製造方法、画像形成装置及び特性調整装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method thereof, in which an impurity injection process where SD(source/drain) layers and an LDD(lightly-doped drain) layer formed can be simplified, when impurities are activated through laser annealing after impurities are injected, and a gate electrode can be prevented from being eliminated by irradiation with a laser beam.例文帳に追加

不純物注入後レーザーアニールによって不純物の活性化を行うに際し、ＳＤ層及びＬＤＤ層形成のための不純物注入工程を簡略化でき、レーザの照射によるゲート電極の消失を防止することができる半導体装置及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can realize a charge share with a simple circuit which does not depend on temperature, process dispersion, and power source voltage, without requiring a signal such as an equalize-signal CEQ taking a serious view of timing, in the semiconductor device having a step-up circuit using a charge pump mutually driven by timing signal of reverse phase .例文帳に追加

互いに逆相のクロック信号により駆動されるチャージポンプを用いた昇圧回路を有する半導体装置において、イコライズ信号ＣＥＱのようなタイミングを重視する信号は必要とせず、温度、プロセスバラツキ、電源電圧に依存しない簡易な回路でチャージシェアが実現できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for improving operating characteristics and process yield by preventing generation of an etching residue or a damage of a semiconductor substrate and preventing an oxidation of a tungsten layer by a high temperature step such as an ion implantion for forming an LDD region and a source/drain regions.例文帳に追加

食刻残留物が発生するか又は半導体基板が損傷されることを防止し、LDD領域及びソース／ドレイン領域を形成するためのイオン注入工程等の高温工程により前記タングステン層が酸化する現象を防止し、素子の動作特性及び工程収率を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the radiation image conversion panel which includes the process for forming a phosphor layer by heating an evaporation source containing a phosphor material and evaporating a resulting substance onto a substrate is characterized in that the repose angle of the phosphor material is between 20°and 90° inclusive.例文帳に追加

蛍光体原料を含む蒸着源を加熱し、発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、該蛍光体原料の安息角が２０°以上９０°以下であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

This active substrate is provided with a semiconductor layer projection part 12A, projected from an extension part 12 by extending a semiconductor layer constituting the drain region of a TFT 4 and a gate metal projection part 7 formed by the same metal layer and in the same process as that of a gate busline 1 so that it is connected to a source busline 2 via a contact hole part 2A.例文帳に追加

ＴＦＴ４のドレイン領域を構成する半導体層を延在させた延在部１２から突出した半導体層突出部１２Ａを設け、ソースバスライン２にコンタクトホール部２Ａを介して接続されるようにゲートバスライン１と同じ金属層で同一工程で形成されたゲートメタル突出部７を設ける。 - 特許庁

To simplify an element manufacturing process and improve electron emission characteristics when an imaging device is manufactured by using an electron source substrate composed by disposing multiple electron emission elements each comprising a pair of electrodes formed on a substrate and a polymer film connected to the electrodes and having a narrow space.例文帳に追加

基体上に形成された一対の電極、およびその電極に接続された狭い間隙を有する高分子膜からなる電子放出素子を多数配置してなる電子源基板を用いて画像形成装置を製造するに際し、素子製造工程を簡略化し、かつ、電子放出特性の改善を図る。 - 特許庁

To provide a method for industrially stably producing aluminum-containing nickel hydroxide particles having an average particle size suitable as a source material of a positive electrode material of a lithium ion cell without mixing a complexing agent or halogens in the production process of high-density spheric aluminum-containing nickel hydroxide particles.例文帳に追加

高密度で球状のアルミニウム含有水酸化ニッケル粒子を製造する際、錯形成剤やハロゲンなどの混入がなく、リチウムイオン電池正極材料の原料として好適な平均粒径を有するアルミニウム含有水酸化ニッケル粒子を、工業生産上、安定的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

For symbolic names of options which are traditionally not included inarpa/telnet.h, see the module source itself. The symbolic constants for the telnet commands are: IAC, DONT, DO,WONT, WILL, SE (Subnegotiation End), NOP (No Operation), DM (DataMark), BRK (Break), IP (Interrupt process), AO (Abort output), AYT(Are You There), EC (Erase Character), EL (Erase Line), GA (Go Ahead),SB (Subnegotiation Begin).例文帳に追加

伝統的に arpa/telnet.h に含められていない telnet オプションのシンボル名については、このモジュールのソースコード自体を参照してください。 telnet コマンドのシンボル定数は、IAC、DONT、DO、WONT、WILL、SE(サブネゴシエーション終了)、NOP (何もしない)、DM (データマーク)、BRK (ブレーク)、IP (プロセス割り込み)、AO (出力中断)、AYT (応答確認)、EC (文字削除)、EL (行削除)、GA (進め)、SB (サブネゴシエーション開始) です。 - Python

The liquid crystal display can be manufactured by combining formation of a gettering sink outside a p-channel type TFT region and a process of self-alignedly removing a part of a region, where the elements of a catalyst are gettered that is located outside the TFT region, by a source interconnection or drain interconnection.例文帳に追加

Ｐチャネル型ＴＦＴ領域の外側にゲッタリングシンクを設けることと、触媒元素をゲッタリングさせた領域の内、ＴＦＴ領域の外側に設けられている領域をソース配線あるいはドレイン配線により自己整合的に除去する工程とを組み合わせることにより、上記課題を解決できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing overlap of a doped region by cell channel ion implantation with a junction region by source/drain ion implantation and damage of a substrate in isotropic etching for formation of a valve pattern of a valve-shaped recess, improving refreshing characteristics of the element, and stabilizing a process.例文帳に追加

セルチャネルイオン注入によるドーピング領域とソース／ドレインイオン注入による接合領域とのオーバーラップ、及び、バルブ型リセスのバルブパターン形成のための等方性エチング時の基板の損傷を防止し、素子のリフレッシュ特性の改善及び工程の安定化が可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This ion beam processing apparatus comprises an ion source 1 having a pulling-out electrode 20 for generating a plasma 50 and pulling out an ion beam from the plasma 50, and a processing room 7 for applying an ion beam process to the substrate 40 by irradiating the ion beam pulled out by the pulling-out electrode 20 to the substrate 40 sustaining the substrate 40.例文帳に追加

イオンビーム処理装置は、プラズマ５０を生成して、プラズマ５０からイオンビームを引出す引出し電極２０を有するイオン源１と、基板４０を保持し、引出し電極２０によって引出されたイオンビームを基板４０に照射して、基板４０に対してイオンビーム処理を行う処理室７とを備えている。 - 特許庁

In a method of expressing the illumination light from a light source 3 disposed in a virtual three-dimensional space with an image process using a computer, a plurality of textures 1 and 2 having illumination light expressed in mutually different manners are prepared and overlapped at a position allowing the illumination light to be observed.例文帳に追加

仮想３次元空間に置かれた光源３からの照明光をコンピュータを用いた画像処理によって表現するための方法において、照明光を互いに異なる態様で表現した複数のテクスチャ１，２を用意し、それらのテクスチャ１，２を照明光が観察されるべき位置にて互いに重ね合わせる。 - 特許庁

To provide an information-carrying nucleic acid-containing leather material which provides unremovable individual authentication information and enables identification of its source, history and the like by decoding the information, a manufacturing process of the information-carrying nucleic acid-containing leather material and a leather product using the leather material.例文帳に追加

取り除くことができない個別認証情報を備え、この情報を解読することによって、その出所・経歴などを特定することができる情報化核酸含有皮革材料と、このような情報化核酸を含有する皮革材料の製造方法、さらには上記皮革材料を用いた皮革製品を提供する。 - 特許庁

To provide a discharge plasma treatment method and a device which can control a discharge starting timing of an even glow discharge plasma under a pressure near atmospheric pressure in a plurality of discharge spaces sharing one power source, generate the plasma continuously and stably, and handle a complex treatment in a manufacturing process of a semiconductor device or the like.例文帳に追加

一つの電源を共用して複数の放電空間において、大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマの放電開始タイミングを調整し、継続して安定して発生させ、半導体素子の製造工程等における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理方法及び装置の提供。 - 特許庁

To provide a color image forming method excellent in density stability when running processing is carried out as a color image forming method for proof reading in a color photoengraving-printing process in which a silver halide color photosensitive material is processed after exposure through digitized image information using a light source such as a laser or a light emitting diode.例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー感光材料にデジタル化された画像情報をレーザーや発光ダイオード等の光源を用いて露光し、処理するカラー製版・印刷工程の校正用のカラー画像形成方法において、ランニング処理した際の濃度安定性の優れたカラー画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material, of a chemically amplified type in particular, for use in lithography with a high-energy light source in particular, having a practically sufficient level of etching resistance, excellent in adhesion to a substrate and in affinity with the developing solution, much higher than conventional materials in sensitivity and in resolution performance, and swelling less during the developing process.例文帳に追加

特に高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、実用レベルのエッチング耐性を有し、基板密着性及び現像液親和性に優れ、従来品を大きく上回る感度と解像性を有し、加えて現像時の膨潤の小さいレジスト材料、特に化学増幅型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A routing part 11 makes a packet pass through when groups coincide with each other between the transmission source and the transmission destination, and transfers to a control part 2 an intermediate packet to which the group identification information of the ports P0 to P4 receiving the packet is added so as to make the control part 2 process the packet when the groups do not coincide with each other.例文帳に追加

ルーティング部１１は、送信元と送信先とのグループが一致するとパケットを通過させ、グループが不一致であると、パケットを受信したポートＰ０〜Ｐ４のグループ識別情報をパケットに付加した中間パケットを制御部２に転送し、制御部２において当該パケットの処理を行わせる。 - 特許庁

To reduce electrostatic charge noise made in an electrostatic charging process which has, within a photoreceptor drum having an acoustic emissive surface, the function of damping vibration and reducing noise caused by resonance, by avoiding resonance, thereby reducing vibration of an electrostatic charging roller which is a vibration source in an image forming apparatus.例文帳に追加

画像形成装置において、感光体ドラムに帯電ローラで帯電させる場合、帯電むらを防ぐため、直流成分に交流成分を重畳させて印加するが、その交流成分の周波数、及びその整数倍の周波数において、感光体ドラムと帯電ローラの間で、振動が発生する。 - 特許庁

Specifically, the purposes of the projects are to: decide target countries and fields; support integrated measures by the private sector, the process of which is "forming a team across industries > market research > pioneering of new markets > verification of results > actual business development;" create new industries utilizing Cool Japan as a source of competitiveness; and create employment.例文帳に追加

具体的には、ターゲット国と分野を決め、「業種を越えたチームづくり→市場調査→市場開拓→成果の検証→実際の事業展開」という民間の一貫した取組を支援し、クール・ジャパンを競争力の源泉とする新たな成長産業群を創出し、雇用を創出することを目的としている。 - 経済産業省

In the organic transistor element 1 comprising a gate electrode 2, an electrical insulating layer 3, an organic semiconductor layer 4, a source electrode 5 and a drain electrode 6, the organic semiconductor layer 4 is formed by a general wet process by using an organic solvent solution comprising an organic semiconductor material which is soluble in an organic solvent by highly condensing thiophene in anthracene.例文帳に追加

ゲート電極２と、電気絶縁層３と、有機半導体層４と、ソース電極５と、ドレイン電極６とを含む有機トランジスタ素子１において、アントラセンにチオフェンを高度に縮合させて有機溶媒に可溶化した有機半導体材料を含む有機溶媒溶液を用い、一般的なウェットプロセスにより有機半導体層４を形成する。 - 特許庁

Therefore, it is necessary for a programmer to include and/or remove only a certain kind of preliminarily defined header file, and to change variable declaration in the floating point code for simulating the source code across each stage of the conversion process.例文帳に追加

本発明の望ましい実施例において実現された本発明の原理に従って、プログラマは、前述された変換プロセスのそれぞれの段階に亘ってソースコードをシミュレートする目的で、ある種の予め定義されたヘッダファイルを含ませること及び／あるいは取り除くこと、及び、浮動小数点コード内の変数宣言を変更することのみを行なえばよい。 - 特許庁

To prevent an image forming apparatus from being made large-sized due to the addition of a high voltage power source and a connecting means in applying bias voltage to a discharging sheet for discharging residual toner in a process cartridge using one-component development and also to prevent the deterioration of an image such as banding due to the fluctuation of developing bias caused by leakage from a developing roller to the discharging sheet.例文帳に追加

一成分現像を用いたプロセスカートリッジにおいて、残留トナーを除電する除電シートにバイアス電圧を印加する場合、高圧電源や接続手段の追加による画像形成装置の大型化を防止し、かつ現像ローラから除電シートにリークして現像バイアスが変動し、バンディング等の画像劣化を防止する。 - 特許庁

The main control unit 80 fluctuates an amount of supply of the atmosphere gas from an atmosphere gas supply source 106 in a direction where the pressure fluctuation within the vacuum chamber 10 due to the evaporation of the vapor deposition material or the introduction of a process gas is mitigated during the course of the changeover of the heating state between the film-forming state and the non film-forming state.例文帳に追加

そして、主制御装置８０は、成膜状態と非成膜状態との間における加熱状態の切り替え途上において、蒸着材料の蒸発やプロセスガスの導入による真空チャンバ１０内の圧力変動を緩和する方向に、雰囲気ガス供給源１０６からの雰囲気ガスの供給量を変動させる。 - 特許庁

A gate insulating film 4 is formed so as to extend from the interior of the trench 8 to the surface of the p-base 2 of the semiconductor substrate by a thermal process, and also impurity ions of high concentration implanted to the front layer of the p-base 2 and the bottom part of the trench 8 are activated to form a source region 3 and a well region 10 at the same time.例文帳に追加

そして、熱処理によってトレンチ８内部から半導体基板のｐベース２表面にまで延在するようにゲート絶縁膜４を形成するとともに、ｐベース２の表層およびトレンチ８底部に注入された高濃度の不純物イオンを活性化させてソース領域３およびウェル領域１０を同時に形成するものである。 - 特許庁

Since the light guide 31a and the light guide 31 are joined at a joining jig 38 into a light guide 35, each light from two light source units 40a and 40b being guided after all through the light guide 35 to a lens system 29 and cast to an edge part of a substrate (W) held by a spin chuck 13 to carry out an edge exposing process.例文帳に追加

ライトガイド３１ａとライトガイド３１ｂとは合流用治具３８においてライトガイド３５に合流されるため、２つの光源ユニット４０ａ，４０ｂから出射されたそれぞれの光は結局ライトガイド３５によってレンズ系２９まで導かれ、スピンチャック１３に保持された基板Ｗの端縁部に向けて出射されてエッジ露光処理が進行する。 - 特許庁

To provide an electron emitting element capable of obtaining the even electron emitting characteristic over a large area and being easily manufactured at a low cost and coping with unevenness of the element pitch per each board due to the dimensional change of the board in a heating process, and to provide an electron source having excellent evenness and productivity, to provide an image forming device, and to provide methods of manufacturing them.例文帳に追加

大面積にわたって均一な電子放出特性が得られ、低コストで容易に製造でき、かつ熱プロセスにおける基板の寸法変化に起因する基板ごとの素子ピッチのばらつきにも対応可能な電子放出素子、均一性および生産性に優れた電子源、画像形成装置、およびこれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

When transfer using cash and a cash card in combination is selected as a transfer transaction, a control part 7 of the consumer transaction facility 1 takes in the cash card and cash of the customer as a transfer source first and proceeds to the transfer transaction using the cash card without issuing an itemized sheet nor returning the cash card after completing a money receiving process.例文帳に追加

自動取引装置１の制御部７は、振込取引として現金とキャッシュカードの併用による振込が選択されると、まず、振込元の顧客のキャッシュカードと現金を取り込み、入金処理を行った後、入金処理に伴う明細票の発行およびキャッシュカードの返却を行うことなく、キャッシュカードを用いた振込取引に処理を移行する。 - 特許庁

When a indication for revision is inputted (S12), environmental information on the voltage of a battery as the power source and peripheral temperature is obtained (S14) and when the environment meet certain conditions (S16), the clock frequency, communication speed, etc., are switched to values higher than usual (S18), so that the revision process is performed fast (S20).例文帳に追加

そこで、バージョンアップの指示が入力された場合（Ｓ１２）、電源であるバッテリの電圧や周辺温度などの環境情報を取得し（Ｓ１４）、環境が一定の条件を満足していれば（Ｓ１６）、クロック周波数や通信速度などを通常時よりも高い値に切り替えることにより（Ｓ１８）、バージョンアップ処理を高速に実行する（Ｓ２０）。 - 特許庁

To facilitate control of a power source by imparting a suitable voltage dependency or current dependency to each value of resistance concerning the thickness direction and the longitudinal direction of an electrically conductive material constituting a transfer belt and by reducing influence due to change with lapse of time and change in the external environment in each section of the device relative to the transfer efficiency at the transfer process.例文帳に追加

転写ベルトを構成する導電性材料の厚さ方向及び長さ方向のそれぞれに関する抵抗値に適当な電圧依存性又は電流依存性を与え、転写工程時の転写効率に対する装置各部の経時変化や外部環境の変化の影響を小さくして、電源の制御を容易化する。 - 特許庁

To achieve early first print time by accelerating temperature up of a heating roller even in an image forming apparatus in which an image carrier in a printer engine, a member to be interlocked with the image carrier, a resist member and a heat fixing member are driven by driving force of a single driving source, as well as to perform process control with proper timing.例文帳に追加

適正なタイミングでプロセス制御を行なうとともに、プリンタエンジンにおける像坦持体およびこの像坦持体の動作に連動すべき部材とレジスト部材と加熱定着部材とを単一の駆動源の駆動力によって駆動する画像形成装置であっても加熱ローラの昇温を早めてファーストプリント時間を早くする。 - 特許庁

The batch heat treatment device includes: a shield 52 for confining an electromagnetic wave to the outside of a process tube 36 concentrically arranged; an electromagnetic wave introduction port 53 drilled at central height of the shield 52; a waveguide 54 with its one end connected to the electromagnetic wave introduction port 53; and a microwave source 55 for supplying the microwave connected to the other end of the waveguide 54.例文帳に追加

バッチ式熱処理装置において、プロセスチューブ３６外に電磁波を閉じ込めるシールド５２を同心円状に設置し、シールド５２の中央高さに電磁波導入ポート５３を穿設し、電磁波導入ポート５３に導波管５４の一端を接続し、導波管５４の他端にマイクロ波を供給するマイクロ波源５５を接続する。 - 特許庁

The method includes a step of inputting a target amount of the material to be delivered from a source position to a target position, a step of updating the target amount during delivery of the material by using algorithm of a prediction model base, and a step of updating the algorithm of the prediction model base based on process performance data by using a recursive minimum square procedure.例文帳に追加

本願発明の方法は、ソース位置から目標位置に送達すべき材料に関する目標量を入力するステップと、予測モデルベースのアルゴリズムを使用して、材料の送達中に目標量を更新するステップと、再帰的最小二乗手順を使用して、工程性能データに基づいて予測モデルベースのアルゴリズムを更新するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a positive type resist processing liquid composition which prevents a contamination source such as polish waste from attaching to a positive type resist surface, by imparting hydrophilicity to the positive type resist surface in a manufacturing process, including applying resist as a surface protective film of a semiconductor wafer or the like and polishing the peripheral part of the substrate (such as, a beveled part, an edge part and a notch part).例文帳に追加

半導体ウェハ等の表面保護膜としてレジストを塗布し、基板の周縁部（ベベル部、エッジ部、ノッチ部等）の研磨を行う製造工程において、ポジ型レジスト表面に親水性を付与することにより研磨屑等の汚染源がポジ型レジスト表面に付着するのを防止するレジスト処理液組成物を提供する。 - 特許庁

To make bias setting easily executable without being influenced by a variation in the manufacturing process of a MOSFET nor the fluctuation of a p-n junction temperature at the time of changing p-n junction between a body and a source of the MOSFET to a shallow forward bias, by applying a certain voltage to the back gate of the MOSFET for reducing 1/f noise generated in the MOSFET.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴで発生する１／ｆノイズを低減するために、そのバックゲートにある電圧を与え、該ＭＯＳＦＥＴのＢｏｄｙーｓｏｕｒｃｅのＰＮ接合を浅い順バイアスにする際、ＭＯＳＦＥＴの製造プロセスにおけるバラツキやＰＮ接合温度の変動に影響されず、容易にバイアス設定を行うため。 - 特許庁

Thus, even when radiation of a radio wave from the helical section 1 is suppressed by a head of a human body, especially by an earlobe, since the conductor element 5 acts like a radiation source, spacing is easy and a process for continuity is not required, the suppression of radiation by the head of the human body as the entire antenna system is reduced and the antenna gain can be enhanced.例文帳に追加

これにより、たとえヘリカル部(1)の放射が人体頭部、特に耳朶（みみたぶ）の影響により抑制されたとしても、導体素子(5)が放射源となるので、スペース取りが易しくかつ導通するための工程が不必要であって、アンテナ装置全体として人体頭部による放射の抑制が軽減され、アンテナ利得を改善することができる。 - 特許庁

To provide a steelmaking method with which in the case of producing molten steel from molten iron by continuously performing a dephosphorizing treatment and a decarburizing treatment while interposing a slag-off process in the middle by using the same converter-type vessel, even though fluorine source is not blended in a refining agent for dephosphorization, the dephosphorizing treatment can be performed and the intermediate slag-off can sufficiently be performed.例文帳に追加

同一の転炉型容器を用いて脱燐処理と脱炭処理とを中間に排滓工程を挟んで連続して実施して溶銑から溶鋼を製造する際に、脱燐用精錬剤にフッ素源を配合しなくても脱燐処理することができ且つ中間排滓を充分に行うことができる製鋼方法を提供する。 - 特許庁