「すり応力」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

従って、検出素子４の釉薬層１３を形成した部位には予め圧縮応力が加えられているため、検出素子４に引張応力が加わり難くすることができ、空燃比センサ（検出素子４）の耐衝撃性を向上させることができる。例文帳に追加

Therefore, compressive stress is previously applied to a part having the glaze layer 13 in the detecting element 4, so that the tensile stress can be difficult to be applied to the detecting element 4, and the impact resistance of the air-fuel ratio sensor (detecting element 4) can be improved. - 特許庁

車体側からの影響を受けてシート荷重計測装置１０に組立応力が発生するおそれがある場合にも、この組立応力がシートレール８における上下レール１１，１５の摺動接続間に生じるクリアランスで吸収される。例文帳に追加

Even in the case that assembly stress might occur in the seat load measuring apparatus 10 due to the reception of effects from the side of the vehicle body, the assembly stress is absorbed by a clearance in the sliding splicing of upper and lower rails 11 and 15 in the seat rail 8. - 特許庁

このように構成されたプリント配線基板１によれば、ネジによってプリント配線基板１の四隅を締結した場合に、その四隅に応力が加えられたとしても、その応力がスリット１ｄによって遮られ、電気回路部１ｂに伝えられることを防止することができる。例文帳に追加

In accordance with the printed wiring board 1 constructed as above, even if stress is applied to four corners when the printed wiring board 1 is clamped at four corners with screws, it is possible to prevent the stress from being transmitted to the electric circuit 1b because the stress is blocked by the slit 1d. - 特許庁

軟磁性下地層１３のヤング率を非磁性中間層１５及び垂直記録層１６と同等以上にし、降伏応力を垂直記録層１６の降伏応力より小さくすることにより、ヘッドの摺動や接触に対して垂直記録層１６が変形するのを防ぐことができる。例文帳に追加

Deformation of the perpendicular recording layer 16 due to slide and contact of a head can be prevented by making the Young's modulus of the soft magnetic underlayer 13 equal to or more than the Young' moduli of the non-magnetic intermediate layer 15 and the perpendicular recording layer 16 and making the yield stress of the soft magnetic underlayer smaller than the yield stress of the perpendicular recording layer 16. - 特許庁

本発明は、縦型熱処理炉に用いる熱処理治具に関し、熱処理時に特定場所への応力集中を低減し、応力不均等に由来するスリップの発生を抑制した熱処理治具を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a thermal-treatment holder by which a stress concentration at a specified place is reduced in the case of a thermal treatment and the generation of a slip resulting from a stress unevenness or the like is inhibited regarding the thermal-treatment holder used for a vertical type heat treating furnace. - 特許庁

一方、カウルルーバ１６の縦壁部１６Ａに対して所定値以上の下向きの衝撃力が入力されると、この衝撃力の入力部付近において、複数の破断用スリット２４の車幅方向両側の孔縁部に応力が集中し、当該応力集中部に亀裂が生じる。例文帳に追加

When a downward impact force of a prescribed value or more is input into the vertical wall 16A of the cowl louver 16, stress is concentrated on hole edges on both sides of the vehicle width direction of the plurality of slits 24 in the vicinity of the input part of the impact force, and cracks are generated in the stress concentration part. - 特許庁

シリコン基板保持のために薄膜による弾性変形可能な保持部を熱処理治具上に設置することで、該基板を精度良く保持でき、かつ保持領域での自重応力を降伏応力以下にさせるために線接触あるいは面接触させることにより、スリップがさらに低減可能である。例文帳に追加

Mounting elastically deformable holders formed by thin films for supporting a silicon wafer on a heat-treating holder enables the wafer to be precisely held, and line contacts or face contacts for making an empty weight not more than yield stress in a holding region ensures further reduction of slippage. - 特許庁

機械的応力がかかっても、こすり状態で擦り落としに耐える、手入れ容易で汚れが付かない仕上げ面を有する、手入れが容易な装置、特に台所器具、及び／又は手入れが容易な製品を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus which can be easily kept up withstanding rub-off in a rubbing condition even when a mechanical stress is added, having a finished face without being stained, particularly kitchenware, and/or an easy-to-keep up product. - 特許庁

これにより、切断後の断面円形のパイプ８をプレスして断面楕円形の手摺材７としても、その応力が手摺材７の切断端部に集中しないので、手摺材７を正確な寸法に形成することが可能となる。例文帳に追加

Then, even if the cut pipe 8 of the circular cross-section is pressed into the handrail material 7 of the elliptic cross-section, stresses are not concentrated at the cut end section of the handrail material 7 so that the handrail material 7 can be formed in an accurate dimension. - 特許庁

半導体装置は、半導体基板(1)におけるＮＭＩＳ領域(3)上に形成されたＮＭＩＳトランジスタと、半導体基板(1)におけるＮＭＩＳ領域(3)と間隔をおいて形成されたＰＭＩＳ領域(4)上に形成されたＰＭＩＳトランジスタと、半導体基板(1)上に、ＮＭＩＳトランジスタとＰＭＩＳトランジスタとを覆うように形成され、内部応力を有する連続した応力絶縁膜(22、22a)とを備える。例文帳に追加

The semiconductor device includes the NMIS transistor formed on the NMIS region (3) on a semiconductor substrate (1), a PMIS transistor formed on the PMIS region (4) formed so as to have a space between the NMIS region (3) on the semiconductor substrate (1), and continuous stressed insulating films (22, 22a) having the internal stress. - 特許庁

本発明の装置は、形状記憶合金で作られた中空スリーブを有し、該スリーブは全体として湾曲したオーステナイト状態を有し、かつ応力誘起マルテンサイト挙動を呈する。例文帳に追加

This device has a hollow sleeve made of a shape memory alloy, and the sleeve has a curved austenite state as a whole, and presents stress inducing martensite behavior. - 特許庁

パーキングロックポール２とパーキングロックスリーブ８とが当接した場合に、パーキングロックスリーブ８に応力集中が生じることを低減させること。例文帳に追加

To reduce stress concentration on a parking lock sleeve 8 when a parking lock pole 2 abuts on the parking lock sleeve 8. - 特許庁

そして同一円上において、弧状スリット５の両端間に非スリット部として橋部６を配置し、それによって応力緩和プレート４をプレス加工で容易に一体的に製作することができる。例文帳に追加

On the same concentric circle, a bridge part 6 is disposed between opposite ends of the arc-shaped slit 5 as a non-slit part to easily integrally manufacture the stress relaxation plate 4 with press processing. - 特許庁

この構成により、導電膜１００上の直線の長さがスリット部分で遮断され、導電膜１００上で発生する熱応力もスリット部分で遮断される。例文帳に追加

Due to the constitution, a straight length is blocked on the slit portions and heat stress generated on the conductive film 100 is also interrupted on the slit portions. - 特許庁

セラミックフィルターの排ガス流入面と排ガス流出面とに、両面を結ぶ方向の圧縮応力を負荷させながら使用することを特徴とする排ガス浄化用のセラミックフィルターの使用方法。例文帳に追加

The ceramic filter for cleaning an exhaust gas is used while loading the exhaust gas inflow surface and exhaust gas outflow surface of the ceramic filter with compression stress in the joining direction of both surfaces. - 特許庁

次に、ＰＭＯＳ領域４では圧縮窒化膜１３上に、ＮＭＯＳ領域５ではＳｉ基板１上に、ＮＭＯＳトランジスタ３のチャネルに対し引張り応力を導入する引張り窒化膜１５を形成する。例文帳に追加

Then, a tensile nitride film 15 for inducing tensile stress to a channel of an NMOS transistor 3 is formed on the compressive nitride film 13 in the PMOS region 4 and on the Si substrate 1 in the NMOS region 5. - 特許庁

スリットダム本体に対して中小礫の捕捉を容易とする部材を取り付けた場合においても温度応力の影響を受けにくく、係る部材が損傷した場合において補修作業が容易な鋼製スリットダムを提供する。例文帳に追加

To provide a steel slit dam hardly influenced by temperature stress even in the case of mounting a slit dam body with members for easily catching medium and small gravel, and facilitating repair work of the members when damaged. - 特許庁

本発明は、摺動性と表面圧縮残留応力を同時に付与するショットピーニング用粉末およびその粉末をショットピーニングしてなる摺動性部材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide shot peening powder for simultaneously providing slidableness and surface compression residual stress, and a manufacturing method of a sliding member made by shot-peening using the powder. - 特許庁

既設の建築物に容易に設置でき、手摺の支柱材に掛かる応力を分散させて破損の虞れがなく、安価で安全な手摺用支柱構造を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive and safe support structure for a handrail, which can be easily installed in an existing building, and which eliminates the risk of breakage by dispersing stress imposed on a support material for the handrail. - 特許庁

さらに、アンカー部１２４ａの接合部と段差部１２９の間にはスリット溝１３０が形成されており、スリット溝１３０の位置でアンカー部１２４ａが変形して応力を緩和する。例文帳に追加

Furthermore, a slit groove 130 is formed between the bond part of the anchor part 124a and the step part 129, and the anchor part 124a is deformed in a position of the slit groove 130 to relax stress. - 特許庁

ローラ１６Ａをリボン状ゴム１７の凸部１７Ａに押し当てて磨り潰しを行うときに、ブレーキ１６Ｄを動作させて負荷を与えることにより、凸部１７Ａ対する剪断応力を発生させ、磨り潰し効果を増大させる。例文帳に追加

When the roller 16A is pressed to the protruded part 17A of the ribbon-shaped rubber 17 to grind the protruded part 17A, the shearing stress to the protruded part 17A is produced by operating the brake 16D to apply load to the protruded part 17A to increase the grinding effect. - 特許庁

また、カバー３３には、各ねじ穴３４の近傍に略Ω状のスリット３５を設け、カバー３３と取付ねじ３６等に加わる取付時の応力集中をスリット３５により逃がす。例文帳に追加

The cover 33 is provided with an approximately omega-shaped slit 35 near each screw hole 34, and stresses applied to the cover 33 and the mounting screws 36 or the like during mounting are allowed to escape by means of the slits 35 to avoid concentration of the stresses. - 特許庁

永久磁石３２及び一対のエンドリング３２に嵌合したアウタースリーブ３３に作用する周方向応力が軸方向に均一化するように、アウタースリーブ３３の厚さが軸方向の位置によって異なっている。例文帳に追加

The thickness of the outer sleeve 33 is varied depending on a position in the axial direction so that circumferential stress acting on the outer sleeve 33 fit to the permanent magnets 31 and the pair of end rings 32 is uniformized. - 特許庁

スラスト玉軸受の接触応力の低減を図り、ボールと保持器の接触部での油膜切れや摩耗を抑制し、ボールにすり疵が発生するのを防止することができるようにすることである。例文帳に追加

To prevent the occurrence of scratch on a ball by reducing the contact stress of a thrust ball bearing and inhibiting the run out of an oil membrane and the wear on a contact part of the ball to the retainer. - 特許庁

スリーブ１４には、嵌合部１０の軸線方向区間Ｋに対応する軸線方向位置に、スリーブ１４とハブ１３との嵌合によって発生する応力を吸収するための凹溝２３が形成されている。例文帳に追加

The sleeve 14 is provided with a recess 23 for absorbing a stress being generated when the hub 13 is fitted to the sleeve 14 at an axial position corresponding to the axial section K of the fitting part 10. - 特許庁

このように、各スリット１４の底部が丸みを帯びて刳り貫かれているため、振動に伴う応力が特定部分に集中することなどが回避され、各スリット１４の底部の破断強度が向上する。例文帳に追加

The bottom of each slit 14 is penetratingly bored into a roundish shape so as to avoid the concentration of a stress caused by the vibration into a specific part and improve the fracture strength of the bottom of each slit 14. - 特許庁

ラック軸の摺動抵抗を軽減し、ラック受けシート摺動部の端部で発生するエッジ応力による偏摩耗を防ぐことにより、ラック軸の移動案内を長期に亘って安定して行わせることができるようにする。例文帳に追加

To stably guide the movement of a rack shaft for a long time by reducing the sliding resistance of the rack shaft to prevent the eccentric abrasion due to the edge stress to be generated in an end of a sliding part of a rack receiver seat. - 特許庁

その結果、ウェーハ面内の温度差が小さくなり、スリップの進展に寄与する応力を低下させ、スリップの成長を抑制し、熱処理によるシリコンウェーハの歩留まりの低下が抑えられる。例文帳に追加

Then a temperature difference in the wafer surface becomes small to lower stress contributing to development of the slip and then the growth of the slip is suppressed to suppress a decrease in the yield of the silicon wafer due to the heat treatment. - 特許庁

表層部に炭化物や炭窒化物を含む転がり摺動部材（例えば転がり軸受の内外輪や転動体）における応力集中を低減して、長寿命な転がり摺動部材を提供する。例文帳に追加

To provide a rolling slide member with a long service life by reducing a concentration of stress in the rolling slide member (for example, inner and outer rings and a rolling element of the rolling bearing) containing carbide and carbide-nitride on a skin layer part. - 特許庁

スリーブの開脚部に複数箇所の応力集中部を形成して厚みの異なる被結合部材の締結を可能とし、スリーブの折曲げ変形を行う締付けボルトが頭部付きボルトを使用し得るようにしたこと。例文帳に追加

To fasten members to be connected having a different thickness by forming a plurality of stress concentration parts in an open leg part of a sleeve, and to use a headed bolt as a fastening bolt for bending the sleeve for deformation. - 特許庁

また、ネジ止め穴５の両側もしくは囲む縦横の４辺にスリット１２を設け、さらにこのスリット１２に囲まれた範囲を表面へ押し出す加工を施すことにより、応力緩衝部１３を形成する。例文帳に追加

In addition, a slit 12 is provided at both the sides of a screw hole 5 or four vertical and horizontal sides for surrounding the screw hole 5, and machining for pushing out a range surrounded by the slit 12 to a surface is made, thus forming a stress buffer section 13. - 特許庁

加工物１００に孔１１１を加工し、更にこの孔１１１に交差するすり割り１１２を加工するすり割り付き孔１１０の加工方法において、すり割り１１２を加工する前の孔１１１の内径部に圧縮残留応力ｃを発生させる加工が施されるもの。例文帳に追加

In this processing method of the slotted hole 110 for processing a hole 111 in a processed subject 100 and further processing a slot 112 intersecting this hole 111, a process for generating compressive residual stress (c) is applied to an inner diameter portion of the hole 111 before the slot 112 is processed. - 特許庁

凹凸を有する基板上に形成された半導体層の結晶化に伴って応力が集中する箇所は、基板上に設けた凹凸のエッジ近傍、すなわち凹部と凸部との境界近傍となるので、スリット状の下地層の形状によって、応力集中が生ずる箇所を特定、制御することが出来る。例文帳に追加

Spots on which stress concentrates attendant on crystallization of a semiconductor layer formed on a rugged board are located near the ridges of irregularities provided on the board or near a boundary between recess and projections, so that the spots on which stress concentrates can be specified and controlled by the configuration of a slit-shaped base layer. - 特許庁

よって、エアバッグ本体としてのカーテンエアバッグ２の膨張展開時に被覆部材３に作用する周方向の引張応力によって、凹設部３５ａの奥側に、これを拡開する方向の応力を集中させることができ、ミシン目状スリット３４からの破断の確実性をより一層高めることができる。例文帳に追加

Consequently, it is possible to concentrate stress in a direction to expand the recessed part 35a on the deep side of the recessed part 35a by tensile stress in the circumferential direction working on the covered member 3 in inflating and deploying a curtain airbag 2 as an airbag body and to further improve the certainty of rupture from the perforated slit 34. - 特許庁

構造上均質な触媒層を得ることにより、電解質膜接着面の局所的な応力集中を防止し、膜の破損に起因するクロスリークによる電池性能の低下を抑制する。例文帳に追加

To inhibit falling of a battery performance by a cross leak resulting from a membrane breakage by preventing a local stress concentration of an electrolyte film adhesion side by obtaining a homogeneous catalyst layer on a structure. - 特許庁

プレス時の応力により被覆燃料粒子が破損するのを防止しつつ、簡易にかつ低コストで、燃料コンパクトや燃料スリーブ、黒鉛ブロックの破損を防止する。例文帳に追加

To prevent breakage of coated fuel particles caused by a stress at a pressing time, and simultaneously to prevent breakage of a fuel compact, a fuel sleeve or a graphite block simply at low cost. - 特許庁

さらに、変形可能なボディ部材１６は、トレッドを型から取り出す際に鍵穴サイプのスリットがボディ部材１６に引っ張られるときにトレッドに生じる応力を小さくする。例文帳に追加

Also, the deformable body 16 member provides low stress on the tread when a slit of the keyhole sipe is pulled by the body member 16 during removal of the tread from a mold. - 特許庁

ソルダーレジスト組成物７０γを硬化させる際に、ワークシート３０に応力が発生するが、スリット１５９Ｓを備える枠状導体パターン１４９を構成する銅によりワークシート３０の周囲の強度が高められる。例文帳に追加

While stress is generated on a worksheet 30 when hardening a solder resist constituent 70γ, strength around the worksheet 30 is increased by copper that constitutes a frame state conductor pattern 149 comprising slits 159S. - 特許庁

セラミック積層体は、その側面から内方に凹むスリット状の領域に、圧電セラミック層１１よりも形状を容易に変化し得る応力緩和部１２を有する。例文帳に追加

The ceramic laminated body has a stress relaxing section 12 which can more easily change the shape than the piezoelectric ceramic layer 11 in a slit-like region recessed inward from the side surface. - 特許庁

導光シート３には、キートップ２が押下された時、その応力が押下したキーの部分のみに集中するようにするためのスリット７を形成する。例文帳に追加

The light conductive sheet 3 is formed with a slit 7 for concentrating its stress only in a part of the pushed-down key when pushing down the key top 2. - 特許庁

従来の材料よりも衝撃力や熱応力に対して強靭性を有する材料をシールリングに使用しながら、摺動抵抗トルクの増加を抑える。例文帳に追加

To inhibit an increase of sliding resistance torque while using a material having higher rigidity against an impact force and thermal stress than that in a conventional material for a sealing ring. - 特許庁

円形の成形品に及ぶ圧縮応力分布を略均一なものとできる構成をとる型開閉系メカニズムにおいて、可動ダイプレートから摺動用のブッシュを排除することを可能とすること。例文帳に追加

To exclude a sliding bush from a movable die plate in a mold on-off type mechanism constituted so as to almost uniformize the compression stress distribution exerted on a circular molded product. - 特許庁

さらに，スリット４６１，４６２は，応力緩和層４５の厚さ方向から見て半導体素子間に位置し，半導体素子の投影領域内に位置しない。例文帳に追加

Furthermore, the slits 461 and 462 are positioned between the semiconductor elements, as viewed from the thickness direction of the stress relaxing layer 45 and is not located in a projection region of the semiconductor element. - 特許庁

ＭＯＳトランジスタを備える半導体装置において、チャネル領域に応力を印加する厚いライナー膜を設けると共に、ソース領域・ドレイン領域に対するコンタクトを確実に形成する。例文帳に追加

To provide a thick liner film where stress is applied to a channel region, and to securely form a contact with respect to a source region and a drain region in a semiconductor device having a MOS transistor. - 特許庁

スリーブが静的な垂直力を支持する必要があるときに、エラストマ体のアームがせん断応力を受け、エラストマ体の寿命に有害となる欠点を軽減する。例文帳に追加

To reduce defects harmful for the service life of an elastomer body by sustaining the shear stress by an arm of the elastomer body when a sleeve must support the static vertical force. - 特許庁