「像の倒れ」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ベルト状の像担持体の内面に当接する毛を有し像担持体の位置を規定するバックアップ部材を備える構成において、バックアップ部材に毛倒れが発生すること及び像担持体にカール癖が発生することを防止する。例文帳に追加

To prevent a backup member from having a nap laid down and to prevent a belt-like image carrier from naturally curling in constitution including a backup member which has the nap abutting against the internal surface of the belt-like image carrier and prescribes the position of the image carrier. - 特許庁

その後、パターン露光されたレジスト膜２０２に対して現像液２０５で現像を行ない、現像されたレジスト膜２０２をシクロデキストリンを含むリンス液２０６でリンスすることにより、レジスト膜２０２から、微細化され且つパターン倒れがないレジストパターン２０２ａを得る。例文帳に追加

The exposed resist film 202 is developed with a developing liquid 205, and the developed resist film 202 is rinsed with a rinsing liquid 206 containing cyclodextrin to obtain a miniaturized resist pattern 202a having no pattern collapse from the resist film 202. - 特許庁

レンズ光学系のうち偏心感度の高いレンズについて、その倒れ角を鏡筒の周囲から調節できるアオリ機構を設け、レンズ組み込み後にレンズ像質を観察しながら前記アオリ機構により解像度の調整を可能にする。例文帳に追加

To provide a swing and tilt mechanism capable of adjusting the tilt angle of a lens whose eccentric sensitivity is high out of a lens optical system from the periphery of a lens barrel and to adjust resolution by the swing and tilt mechanism while observing the image quality of the lens after incorporating the lens. - 特許庁

画像形成装置本体と、前記画像形成装置本体の下側に組み合わされるオプション装置の一方に締結部材によって固定され、他方への規制部を有し、前記規制部が上下方向を規制する第１の規制部と、倒れ方向を規制する第２の規制部とでレバー部材を構成する。例文帳に追加

The lever member is constituted from a first restricting part fixed to one of an image forming apparatus main body or the optional apparatus assembled below the image forming apparatus and provided with a restricting part for the other and the restricting part performs restriction in the vertical direction and a second restricting part restricting a falling direction. - 特許庁

本発明の目的は、ドライエッチング耐性を低下させることがなく、高解像度のネガ型パタンが超臨界の二酸化炭素で得られるパタン形成材料を提供し、微細なパタンをパタン倒れなしに形成できるパタン形成材料及び現像方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a pattern forming material from which a high resolution negative pattern is obtained using supercritical carbon dioxide without deteriorating dry etching resistance, and also to provide a pattern forming material and a developing method which enable a fine pattern to be formed without pattern falling. - 特許庁

軸受保持部がローラ軸線方向へ倒れることを防止して、ローラ位置の精度低下、筐体や軸受の破損、ローラの軸や軸受への負荷増大等が発生することを防止できる軸受、現像装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a bearing, which prevents the generation of the accuracy drop of a roller position, the breakage of a housing and the bearing, the increase of the load on the bearings and shafts of rollers by preventing the inclination of bearing holding portions toward the axis of the roller, and further to provide a developing apparatus, a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

該投射レンズは、負レンズユニットＩを含み、被投射面における像面湾曲の方向とは反対方向に像面が倒れるように負レンズユニットを投射レンズの光軸ＡＸＬに対して傾ける機構ＣＢを有する。例文帳に追加

The projection lens includes a negative lens unit I and a mechanism CB that tilts the negative lens unit with respect to the optical axis AXL of the projection lens such that field tilt is generated in a direction opposite to that of curvature of field generated at the projection surface. - 特許庁

斜入射により発生するジッターを許容値以内とし、光偏向器の偏向面の倒れにより発生するジッターを小さく抑え、良好なる画像を得ることができる光走査装置及びマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。例文帳に追加

To provide an optical scanner and a multibeam optical scanner which can obtain an excellent image by decreasing jitters generated owing to an oblique incidence below a permissible value and suppressing jitters generated owing to the tilting of the deflecting surface of an optical deflector small, and an image forming device which uses them. - 特許庁

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition. - 特許庁

また、第４群Ｇ_４を構成する拡大側の２枚のレンズの間に、両凸の空気レンズを形成し、この空気レンズの焦点距離（パワー）を、所定範囲内に規定しているので、特に像面の倒れを良好に補正することが可能である。例文帳に追加

An air lens having both convex surfaces is formed between two lenses on the enlargement side constituting the fourth group G4; and since the focal length (power) of the air lens is defined within a predetermined range, especially inclination of image plane can be corrected properly. - 特許庁

液晶分子の倒れる方向や捩れる方向を簡便に制御し、残像やしみ状のむら等の表示不良を抑え、広視野角の表示を可能にするとともに、応答速度の改善が図れる垂直配向モードの液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display of a vertical alignment mode wherein a falling direction and a twisted direction of liquid crystal molecules are easily controlled, display defects of an afterimage, stain-like unevenness, etc. are suppressed, display of a wide visual field angle is made possible and response speed can be improved. - 特許庁

フォトレジストの現像溶解時にパターン倒れを抑制することができるフォトレジストとの密着性とエッチング特性を改良された反射防止膜の形成に使用される反射防止膜形成用組成物、その為の重合体の提供。例文帳に追加

To provide an anti-reflection film forming composition used for formation of the anti-reflection film improved in a close adhesion property with a photoresist and etching characteristic and capable of suppressing falling of a pattern at development/dissolution of the photoresist, and a polymer used for it. - 特許庁

金属ベースのプリント基板の素材のそり、あるいは打ち抜き加工後の残留変形に起因する軸受固定部の傾きを無くすことで、軸倒れの小さい光偏向器を提供することができ、また、高精度な光走査装置、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light deflector the shaft collapse of which is made small by removing the inclination of a bearing-fixed part due to a warp of a base stock of a metal-based printed board or the residual deformation of the metal-based printed board after punched; and to provide a high-precision optical scanning device and an image forming apparatus. - 特許庁

物体側から順に、絞りＳｔ１と、第１レンズＧ１ないし第４レンズＧ４とを備え、第３レンズＧ３の両面を、少なくとも一つの変曲点を持ち、有効径内での周辺終端部分での面形状の傾きが像側に倒れるような非球面形状とする。例文帳に追加

An imaging lens includes in order from its object side, a stop St1 and first to fourth lenses G1 to G4. - 特許庁

各画素の液晶分子を、書込み電圧の印加により規則的に倒れ配向させてむらの無い良好な画像を表示することができ、しかも表示の焼付き現象を生じることが無い垂直配向型の液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a vertical alignment liquid crystal display element with which an excellent image without unevenness is displayed by regularly fall-aligning liquid crystal molecules in each pixel with application of a writing voltage, and further in which display image persistence phenomenon is not produced. - 特許庁

簡単な構成で回転多面鏡の反射面の倒れ誤差による光束検出器上の光束位置の変動を小さくし、走査位置同期精度を向上させた光走査装置及びそれを用いた画像形成装置の提供。例文帳に追加

To provide an optical scanner with which the variation in the position of luminous flux on a luminous flux detector due to an inclination error of a reflection face of a rotating polygon mirror is reduced by a simple structure and the scanning position synchronization accuracy is increased, and to provide an image forming apparatus using the optical scanner. - 特許庁

表層の起毛層の毛倒れ方向が一方に向いた端部シールを持つ画像形成装置において、端部シールと充填剤の間にできる極微小な隙間を無くし、トナーが外部に漏れ出すことのない安定したトナーのシール構成を提供すること。例文帳に追加

To provide a seal configuration of stable toner without leaking the toner outside by eliminating a very small gap between an end seal and a filler in an image forming apparatus having the end seal in which the bristle falling direction of a raising layer of a cortex is in one direction. - 特許庁

非球面投射ミラー２は、非球面投射ミラー回転軸２ａを軸に開閉するようにしており映像投射時は、実線のように開状態となり、電源ＯＦＦ時は矢印の方向に倒れ、破線で示すように投射表示装置の筐体１の内部に格納される。例文帳に追加

The mirror 2 is opened/closed with its rotary shaft 2a as an axis, assumes an open state as shown by a solid line during video projection, and is tilted in a direction shown by an arrow and housed inside the housing 1 of the projection display device as shown by a broken line when a power source is turned off. - 特許庁

従って、後端から延出するワイヤ３６は、同図（Ｂ）のように著しく屈曲することがないため、像・湾曲倒れの調整の為軟性管３７を本体部材４３に対して回転させても、繰り返しの使用によりワイヤ３５が摩耗・破損するおそれがない。例文帳に追加

Thus, the wire 36 extending from the rear end is not remarkably bent as in Figure B, so that even if the soft tube is rotated relative to the body member for adjustments of the curving and collapsing of the image, the wire 35 is in no danger of being worn nor damaged by repeated used. - 特許庁

支持体との密着性に優れ、パターン倒れの耐性が良好で、解像性の高いレジストパターンを形成できる表面改質材料及びレジストパターン形成方法と、エッチング処理を行った際に支持体からレジストパターンが剥がれにくいパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a surface modifying material and a resist pattern forming method which can form a resist pattern with excellent adhesion to a support, good pattern collapse resistance and high resolution, and a pattern forming method in which such a resist pattern hardly comes unstuck from the support in etching treatment. - 特許庁

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step. - 特許庁

主鏡筒とは別部材からなる前部鏡筒及び後部鏡筒をレンズ保持枠のガイド軸を利用して光軸へのセンター出しをすることによって、主鏡筒の変形による前玉レンズや撮像素子の倒れを解消するようにしたレンズ鏡筒を得る。例文帳に追加

To prevent a front lens or an image pickup element from being prostrated because of deformation of a main lens-barrel, by centering a front lens- barrel and a rear lens-barrel comprising different members different from the main lens-barrel out to an optical axis utilizing a guide shaft of a lens holding frame. - 特許庁

表示パネル装置２１を適宜の起立角度で開いた状態で表示パネル装置２１の表面側を押しても後傾方向に容易に倒れず、また、表示パネル装置２１を最大限の起立角度で開いた状態でも、画像読取作業の邪魔にならない装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device which can support the display panel 21 not to fall down easily in the inclining rear direction even if the surface thereof is pushed when it is opened and standing at a desired angle and also does not bother the image reading even if opened maximum. - 特許庁

装置の大型化無しに、転写ローラユニットの転写ローラが机上面などに接地する方向に倒れるのを防止し、オペレータが転写ローラの寿命等で交換を行う際に、品質安全性が確保出来る画像形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an image forming device by which safety in terms of a quality is secured when an operator performs exchange due to the end of the life of a transfer roller or the like by preventing the transfer roller of a transfer roller unit from falling down in a direction in which it is grounded on a desk upper surface or the like without making a device large-sized. - 特許庁

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。例文帳に追加

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate. - 特許庁

また、計算機３０は、視点変換により立体物が倒れ込む方向に沿って、差分画像データ上において所定の差分を示す画素数をカウントして度数分布化することで差分波形を生成し、当該差分波形の時間変化から立体物の移動距離を算出する。例文帳に追加

The computer 30 also counts the number of pixels showing prescribed difference on the differential image data and distributes frequencies along the direction in which the three-dimensional object falls forward to generate differential waveforms and calculate a moving distance of the three-dimensional object according to a temporal change of the differential waveforms. - 特許庁

特に遠紫外線光を光源とした、レジスト組成物の液浸露光によるパターン形成において、レジストパターンの倒れ、プロフィル、解像力、焦点深度、露光余裕度の劣化が無く、液浸露光に好適なレジストパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist pattern forming method appropriate for immersion exposure by eliminating a resist pattern fall and the deterioration of profile, resolution, focal depth and exposure tolerance in the case of pattern formation using the immersion exposure of a resist composition particularly with far-ultraviolet ray light as a light source. - 特許庁

取付部の省スペース化に対応することができるとともに、スラスト方向にガタが発生したり、モータの回転軸に倒れが発生することがなく、モータを確実に固定することが可能なモータ取付構造及びこれを用いた画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a motor mounting structure that responds to space saving of a mounting part and prevents the occurrence of backlash in the thrust direction and the occurrence of the falling-down of a rotary shaft of a motor so as to surely fix the motor, and an image forming device using the same. - 特許庁

パターン強度に優れ、パターン倒れが起こりにくく、かつ、高解像度で低ラインエッジラフネスのパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition, from which a pattern having superior pattern strength, hardly causing pattern collapse and having high resolution and low line edge roughness can be formed, and to provide a method for producing a relief pattern and electronic components using the positive resist composition. - 特許庁

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition. - 特許庁

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it. - 特許庁

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same. - 特許庁

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition. - 特許庁

半導体製造における微細なパターン形成に有用な、パターン倒れ、現像欠陥、液浸欠陥（水残り欠陥、バブル欠陥）、スカムを著しく低減できる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition useful to form a fine pattern in semiconductor manufacturing and remarkably reducing pattern collapse, development defects, liquid immersion defects (residual water defects, bubble defects) and scum, and a pattern forming method using the same. - 特許庁

パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition allowing formation of a pattern in which pattern collapse is suppressed, which hardly induces development failure and exhibits excellent stability with lapse of time, and also to provide a method for forming a pattern, using the composition. - 特許庁

常に回転方向に倣った毛倒れ状態での使用を防止することができ、安定したフリッカー部材でのトナー除去性能、像担持体からのクリーニング性能を得るファーブラシ、或いはファーブラシとクリーニングブレードとを用いるクリーニング手段を備える画像形成装置および画像形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an image forming apparatus having a cleaning means using a fur brush in which use of bristles twisted in the direction of rotation can always be prevented and toner removal performance by stable flicker member and cleaning performance for an image carrier are ensured or using the fur brush and a cleaning blade, and to provide an image forming method. - 特許庁

結像レンズを大幅に小型化し、通常の小型ＰＳＤを用いた簡単な構成とすることによりコストを低減し、また測定光を再度走査ミラーに通すことにより面倒れなどの誤差をキャンセルできる高精度な測定系を実現し、さらに結像倍率を自由に変更できる柔軟性の高い基板検査装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a highly flexible substrate inspection device capable of reducing a cost by remarkable size reduction of an image focusing lens and by simple constitution using a usual compact PSD, capable of realizing a precise measuring system able to cancel an error such as face failure by passing measuring light again through a scan mirror, and capable of changing freely an image formation magnification. - 特許庁

光路中に折り返しミラーによる折り返し点がある場合に、この折り返しミラーの面倒れによって偏向される方向に沿う軸方向の偏向器での光源毎の位置ずれ量の相対差を軽減し、特に、例えば、ＲＧＢのそれぞれの色に発色する３個の光源を用いてフルカラー画像を形成する場合における、副走査方向の色ずれを軽減する。例文帳に追加

To reduce relative differences of positional deviation for every light source by a deflector in the axial direction along the direction deflected by the plane tilt of a turnup mirror when a turnup point by the turnup mirror is in the optical path, and to reduce color slippage in the subscanning direction in the case of forming a full color image by using three light sources developing colors in each color of RGB in particular. - 特許庁

通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition. - 特許庁

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc. - 特許庁

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。例文帳に追加

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film. - 特許庁

画素電極を細長形状に形成して高精細化をはかるとともに、各画素の液晶分子を電圧の印加により安定に倒れ配向させ、ざらつき感の無い良好な品質の画像を表示し、しかも充分な開口率を得ることができる垂直配向型のアクティブマトリックス液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a vertical aligned active matrix liquid crystal display element, where respective pixel electrodes are formed in an oblong shape to attain high definition, liquid crystal molecules in respective pixels are stably aligned in the falling orientation by application of voltage to display an image, having satisfactory quality and free from feeling of roughness and ample numerical aperture can be obtained. - 特許庁

ローラ状ブラシ帯電体におけるブラシの起毛や倒れ等の癖を付きにくくすると共に、特に斜毛タイプのブラシの深奥部に蓄積される汚れを効果的に除去することができ、ローラ状ブラシ帯電体による感光体への帯電状態を常に良好に維持できる画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image forming device making a brush hardly set to rise or fall on a roller brush charging body, and removing the dirt accumulated particularly deep part of the inclined brush piles, and moreover making a charging state on a photoreceptor by the roller brush charging body possible to be always excellently maintained. - 特許庁

ａ）紫外線スペクトル領域において強力かつ均一に吸収でき、ｂ）レジスト材料を、「倒れ込み」および意図したレジストラインの外側への広がりまたは内側への接触から守ることができ、およびｃ）フォトレジスト現像剤に対して不浸透性であることのできる反射防止コーティングならびにスピンオンガラス反射防止コーティングの製造方法を提供。例文帳に追加

To provide a method for producing an antireflective coating and a spin-on glass antireflective coating capable of (a) absorbing strongly and uniformly in an ultraviolet spectrum region, (b) protecting a resist material from 'fall down' and spread to the outside of an intended resist line or contact with the inside, and (c) keeping impermeability to a photoresist developer. - 特許庁

ここでは、カセット挿入方向前側に位置するサイド規制板１０３Ａが画像形成装置本体（図示せず）への装着時にシート束の荷重で倒れてシートのセット状態に乱れが生じないようにするため、カセット本体１０１の側壁１０１ａとサイド規制板１０３Ａの間に介在するサポート部材３００Ａを設けた。例文帳に追加

A support member 300A is disposed between the side regulation plate 103A and a sidewall 101a of a cassette body 101 to prevent the side regulation plate 103A, which is situated on the forward side of cassette insertion, from being loaded down by the sheet stack at cassette loading into an image forming device body and then causing disorderly sheet set states. - 特許庁