「局所表面」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

塗布対象物の局所的な箇所への塗布膜形成であっても、塗布対象物表面の濡れ性を均一化し、その近傍に高い溶媒濃度のインク溶媒雰囲気を形成することで、均一な膜性状を有する塗布膜を形成することを実現する。例文帳に追加

To form a coating film having uniform film properties even when the coating film is formed on a local part of an object to be coated by uniformizing the wettability of the surface of the object to be coated and forming an ink solvent atmosphere having a high solvent concentration in the vicinity of the surface of the object to be coated. - 特許庁

局所的な低抵抗部の数が少ない化成皮膜を形成する化成処理剤が用いられる場合であっても、低電圧印加領域における被塗装物部分の電着塗装性を向上させることができる金属部材の表面処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a surface treatment method of a metal member, by which electrodeposition coatability in a portion of a coating object in a low voltage-applied area can be improved, even when a chemical conversion agent which forms a chemical conversion film having a small number of local low-resistance portions is used. - 特許庁

ケーブル１０は、細長いケーブルコアを規定しているケーブルジャケット１６と、コアに沿って配設された４つの導体ツイストペア１２を有する導体アセンブリと、ケーブルジャケットの内部表面の複数の平行な細長い局所化された類似した膨張部とを有する。例文帳に追加

The cable 10 is composed of a cable jacket 16 regulating an elongated cable core, a conductor assembly with four of conductor twist pairs arranged alongwith the core and a plurality of parallel, elongated, local and similar expanded parts in an internal surface of the cable jacket. - 特許庁

そして、残留圧縮応力によりアークチューブ本体２０にクラックが生じても、このクラックを接合面近傍領域に限定された局所的なものとし、アークチューブ本体２０の表面に達するような大きなものにならないようにする。例文帳に追加

Even if cracking is generated in the body 20 of arc tube by the residual compressive stress, the crack remains locally restricted to the region around the joining surfaces and will not propagate as large as reaching the surface of the arc tube body 20. - 特許庁

基板処理装置の環境を局所的クリーン化によって清浄に保ち、汚染物付着基板を洗浄にて清浄化し、その清浄性を保持し、再汚染防止のために基板表面の保護を行うことで、デバイス構成の界面の清浄性を得るものである。例文帳に追加

The environment of a wafer treatment device is kept clean by local cleaning, the wafer stuck with contaminants is cleaned by washing, cleanness thereof is kept and the surface of the wafer is protected for preventing recontamination so that cleanness on the interface of a device configuration can be provided. - 特許庁

局所領域でも均一であって、目的成分とする金属種以外の不純物成分が少なく、異種金属界面を含む表面から底面まで連続して欠陥の少ない複合材、特にドライプロセス蒸着のターゲット材として好適な複合材及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a composite material uniform even in a local region, reduced in the content of an impurity component other than a metal seed being a target component, continuously reduced in flaw from its surface including a different kind of a metal interface to its bottom surface and particularly suitable as a target material of dry process vapor deposition, and a method for manufacturing the same. - 特許庁

本発明において適用する基板は、熱源からの輻射の吸収率が低く加熱されにくい素材が適用され、当該基板の主表面上に熱源からの輻射を吸収する被膜を局所的に設けて熱処理を行うものである。例文帳に追加

In the substrate to be applied, a material that has the low absorption factor of the radiation from the heat source and cannot be heated easily is applied; and the film for absorbing the radiation from the heat source is provided locally on the main surface of the substrate for heat-treatment. - 特許庁

また、熱遮蔽用伝熱管群１４、１５の管表面温度が十分低くなるように、管内流体温度、管内流体流量を調整することで、該伝熱管群１４、１５の温度上昇を抑えつつ、既設伝熱管群４、５の局所的な温度上昇も抑えられる。例文帳に追加

It is also possible to restrain local temperature rise of the existing heat transfer tube groups 4, 5 while restraining temperature rise of the heat transfer tube groups 14, 15 by adjusting temperature and a flow rate of the tube fluid so that tube surface temperature of the heat transfer tube groups 14, 15 becomes sufficiently low. - 特許庁

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。例文帳に追加

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect. - 特許庁

内部電極３２，３３と圧電体３１を交互に積層した圧電振動子を複数備えた圧電振動子ユニット４において、圧電振動子の最外層の自由端部における表面に、トリミングにより局所凹を形成して当該圧電振動子の固有振動周期を調整した。例文帳に追加

The piezoelectric oscillator unit 4 comprises a plurality of piezoelectric oscillators formed by laying inner electrodes 32, 33 and piezoelectrics 31 alternately in layers wherein the period of characteristic oscillation of the piezoelectric oscillator is adjusted by making a local recess, by trimming, in the surface of the outermost layer of the piezoelectric oscillator at the free end part thereof. - 特許庁

また、非接触ＩＣカード１０が放出するカード表面上の局所的な位置における電波を受信手段２で受信し、この信号からＩＣチップ１１の偏りを判別し、非接触ＩＣカード１０の表裏を判別するようにした。例文帳に追加

Besides, the radio wave at a local position on the card surface discharged by the non- contact IC card is received by a receiving means 2, the eccentricity of the IC chip is discriminated from this signal and the front/rear side of the non- contact IC card is discriminated. - 特許庁

高負荷作業を連続的或いは断続的に繰り返して行なう場合に、接点板が加熱される状況となっても、グリップ部等の外郭ハウジングの表面部分が局所的に加熱されるのを防いで使用者に不安を感じさせないこと。例文帳に追加

To prevent a user from feeling fear by preventing the surface part of an outer ward housing such as a grip part from locally be heated even if a contact plate becomes a state to be heated when continuously or intermittently repeating a heavy load work. - 特許庁

また処理ガスがウエハの側方から供給されるので、ウエハ表面に対して局所的に強い圧力で処理ガスが供給されることが抑えられ、面内均一性の高い処理を行うことができる上、ウエハへのパーティクルの付着が抑えられる。例文帳に追加

Also, since a treatment gas is supplied from the side part of the wafer, the supply of the treatment gas by a strong pressure locally to the wafer surface is suppressed, the treatment of the high in-plane uniformity is performed, and the sticking of particles to the wafer is suppressed. - 特許庁

光学ＬＰＦ１２の表面に存する異物に起因して固体撮像素子１３の撮像面（受光面）に生じる局所的な光量低下（信号低下）を補正し、補正された画像信号をアナログ信号処理回路へ出力するように、補正手段１４を構成する。例文帳に追加

A correcting means 14 is constituted so as to correct the local optical quantity of light reduction (signal reduction) appearing on the imaging surface (light receiving surface) of a solid state imaging element 13 due to foreign materials existing on the surface of an optical LPF 12, thus outputting corrected image signals to an analog signal processor circuit. - 特許庁

部品をはんだ付けするために基板を加熱する際、部品の熱容量の差などによって発生する基板表面上の温度ばらつきが不明であり、温度の過上昇によって一部の部品が熱的損傷を受けたり、あるいは局所的に温度上昇が不十分ではんだ付け不良が発生する。例文帳に追加

To avoid a problem that, when a board is heated to solder a part to the board, temperature variations on the board caused by a difference in thermal capacity or the like between parts is unknown, so that an excessive temperature increase causes one or ones of the parts are thermally damaged or an insufficient local temperature increase causes improper soldering. - 特許庁

本発明の目的とするところは、接着施工後に接着剤の水分や溶剤の揮発成分、または下地からの湿気による蒸気圧の影響で、床仕上材が局所的にフクレることを防止でき、床仕上材表面意匠への影響がなく、施工性に優れた床仕上材を提供することである。例文帳に追加

To provide finish flooring capable of preventing the finish flooring from being locally expanded under the influence of steam pressure by moisture from water content of an adhesive, a volatile component of a solvent or a setting bed and having the excellence in workability without being influenced on an architectural design of the surface of the finish flooring. - 特許庁

表面に一定の向きに傾斜している起毛または植毛をもつ電気暖房毛布において、これと接触する物体の間に発生する相対移動による団塊化、皺の発生を低減し、発熱体同志の接近を回避して局所的な高温化の発生を防止する。例文帳に追加

To reduce an electric heating blanket with raised or flocked naps inclined in a fixed direction on its surface, from turning into a solid mass and from being creased by a relative movement that occurs with an object in contact with the blanket, to avoid heating objects from getting closer mutually and to prevent a temperature from being elevated locally. - 特許庁

ＮＯ_xなどの有害ガスを発生することなく、表面のうねりや局所的な深い凹凸の発生を抑え、反りの少ないウエハを容易に得ることのできるランガサイト型酸化物単結晶ウエハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a langasite-type oxide single crystal wafer, by which the formation of undulation of the surface of the wafer or of a local deep unevenness on the surface of the wafer can be suppressed and the langasite-type oxide single crystal wafer almost free from warps can be easily obtained without generating harmful gas such as NOx. - 特許庁

次に、シリンダ壁形状の金属板１の表面１ａにおいて、軸心方向の中性面３よりも下方となる長手方向所要間隔個所に幅方向にほぼ平行に配置した加熱線２ｃを加熱源４にて上方より局所加熱する。例文帳に追加

Next, on the surface 1a of the cylinder wall shaped-metallic plate 1, the heating line 2c arranged substantially in parallel in the width direction in a longitudinal direction clearance required place which is located down below the neutral surface 3 of the axial direction is heated partially from above by the heating source 4. - 特許庁

これにより、表層が１３５０℃以上融点未満で加熱されるので、ＳＴＩ領域の転位発生を防ぎ、研磨ダメージやウェーハ表面の研磨起因の局所的な凹凸欠陥あるいは微小結晶欠陥を低減または消滅できる。例文帳に追加

Consequently, the surface layer is heated at a temperature equal to or higher than 1,350°C and lower than the fusion point, so that the dislocation in the STI region is prevented to reduce or eliminate the polishing damage, the local unevenness defect of the wafer surface caused by polishing or a microcrystal defect. - 特許庁

こうした半導体基板１１の表面に、上記ＮＰＮ型バイポーラトランジスタ３０を形成し、そのベース領域（Ｐウェル１４ｂ）のうち、コレクタ領域と接合する接合部に同領域の不純物濃度を局所的に高く設定するかたちでＰ型拡散層１６ｂを形成する。例文帳に追加

The npn bipolar transistor 30 is formed on the surface of the semiconductor substrate 11, and among its base area (P-wel 14b), the p-type diffusion layer 16b is formed on a joint to join with a collector area in such manner that the impurity concentration of the above area is locally elevated. - 特許庁

磁気ブラシの局所的汚染を防止して帯電むらに起因する画像不良の発生をなくすとともに、磁気ブラシを帯電スリーブ表面に安定して良好に形成して、むらのない良好な画像を長期にわたって形成することができるようにする。例文帳に追加

To prevent an image defect caused by uneven electrification by preventing the local soiling of a magnetic brush, and to stably and excellently form the magnetic brush on the surface of an electrifying sleeve so that an excellent image having no irregularity is formed over a long term. - 特許庁

鋼塊又は連続鋳造によるブルームを分塊圧延するためにスキッドレール式の加熱炉において、鋼塊又はブルームを分塊圧延温度に加熱する際に、局所的加熱不足を解消することで分塊圧延時の表面疵の発生を防止する。例文帳に追加

To prevent the occurrence of surface flaw at blooming by eliminating a local heating shortage when a steel ingot or a bloom is heated to the blooming temperature, in a skid-rail type heating furnace for blooming the steel ingot or the bloom by continuous casting. - 特許庁

集積回路を製造する方法であり、特にウェハを高温に加熱するとき、異なる加工温度を達成するために、各種物質の薄膜を塗布して、表面の一部の、放射率、吸収率、および反射率等の物質特性を変更することで、局所的に熱流を変更する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an integrated circuit for changing the rate of heat flow locally, by applying thin film made of each material for the sake of achieving different processing temperatures, particularly, when a wafer is heated at high temperatures, and changing material characteristics, such as emissivity, absorptivity, reflectivity, and so on. - 特許庁

従来の放熱構造に特別な放熱機構を付加するなどの大幅なコストアップを招くことなく、筐体表面温度が局所的に高くなることによる操作時の不快感を簡単に解消できる携帯通信機の放熱構造を提供する。例文帳に追加

To provide the heat dissipation structure of a portable communication apparatus that easily removes an unpleasant feeling during an operation due to a local rise in case surface temperature without greatly increasing a cost of, for example, adding a special heat dissipation structure to the conventional heat dissipation structure. - 特許庁

これにより、ブレーカー２８の外周表面が周方向に渡って凹凸していないため、負荷転動時、局所的に周方向剪断歪みが集中せず、長距離、長期間の走行条件であっても、トレッド３２とカーカス２６間の剥離故障の発生が抑えられる。例文帳に追加

By this constitution, since the outer peripheral surface of the breaker 28 does not become uneven in the peripheral direction of the tire, a shearing strain in the peripheral direction of the tire is not concentrated locally at the time of load tumbling and the occurrence of the peel trouble between the tread 32 and the carcass 26 is suppressed under a long range and long-term running condition. - 特許庁

形成時に割れ及び部分的な剥離が発生しにくく、材料費が低くなるとともに、耐摩耗性が良好であり、破砕面表面の剥離及び局所的な摩耗を抑制してその寿命を長くすることができる破砕面部材及びその製造方法、粉砕機を提供する。例文帳に追加

To provide a crushing face member which is hard to crack and hardly partially separated at the time of manufacturing, and is manufactured at a low material cost, and has excellent wear resistance and a life prolonged by suppressing separation and partial wear of the surface of the crushing face, to provide a method for manufacturing the member, and to provide a crusher. - 特許庁

厚さの異なる２種類のゲート絶縁膜の形成方法において、第２絶縁膜の形成前にケミカル酸化膜や自然酸化膜を十分に除去する洗浄を行うと、第１絶縁膜の局所的な薄膜化や表面荒れが起こり、第１絶縁膜の膜質劣化が生じる。例文帳に追加

To provide a method for forming two types of gate insulating film having different thicknesses, wherein if a chemical oxide film or a natural oxide film is sufficiently cleaned for removal prior to forming a second insulating film, this cleaning is caused to a decrease in a first insulating film or a surface roughness thereof locally, thereby causing a film quality degradation of the first insulating film. - 特許庁

薬物を０．０１〜１０％（Ｗ／Ｖ）含有し、ワセリン／流動パラフィン配合比が２／１〜１０／１である軟膏様組成物を眼表面へ投与することにより、眼局所組織を介した後眼部組織への薬物移行性が優れたドラッグデリバリーシステムを構築できる。例文帳に追加

The drug delivery system having excellent drug migration properties to the posterior part tissue of the eye through the local part tissue of the eye is constructed by administering an ointment-like composition containing 0.01-10% (W/V) medicine and having (2/1)-(10/1) ratio of formulated vaseline/liquid paraffin to the surface of the eye. - 特許庁

電磁干渉抑制シートを被着体に貼り付けるときに、被着体と電磁干渉抑制シートとの間において局所的な空気の閉じこめを防止することによって、電磁干渉抑制層を被着体表面から一定の距離に配置して、貼り付け面全体で均一な電磁干渉抑制効果を得る。例文帳に追加

To obtain a uniform electromagnetic interference suppressing effect on the overall attachment face, by disposing an electromagnetic interference suppressing layer at a constant distance from an adherend surface by preventing air from being locally closed between the adherend and the electromagnetic interference suppressing sheet when the electromagnetic interference suppressing sheet is attached to the adherend. - 特許庁

ポリサイド構造の電極又は配線において表面を酸化した場合でも、高融点金属と多結晶シリコンとの間の反応を防ぐことができ、局所的な高融点金属珪化物の食い込みをなくして信頼性の向上をはかる。例文帳に追加

To improve the reliability of an electrode or wiring of a polyside structure by making preventable the reaction generated between a high-melting- point metal and polycrystal silicon even when oxidizing the surface of the electrode or wiring, and by eliminating the local intrusion of the high-melting- point metal into the polycrystal silicon. - 特許庁

半導体試料の拡散領域の局所的な空乏層の状態をSCM により観察する際、試料構造の影響を受けることなく、実際に観察している試料表面部の拡散領域に所望の電圧を印加した状態で間接的に観察することを可能にする。例文帳に追加

To allow indirect observation under the condition where a desired voltage is impressed to a diffusion area of a sample surface part observed actually, without affected by sample structure, when a state of a local depletion layer in the diffusion area of a semiconductor sample is observed by an SCM. - 特許庁

測定対象物表面に放射線を照射する放射線源が，単純な平面的なものであったので，微小な測定対象や，局所的な元素分析が必要なときにも，広い範囲に放射線を照射してしまうという欠点を解消すること。例文帳に追加

To eliminate defects where since radiation is irradiated over a wide range, even when a fine measuring target or local element is required, because a radiation source for irradiating the surface of the measuring target with radiation has a simple planar shape. - 特許庁

例えば、唇に使用した場合、唇の皮剥けや切れなどの唇の荒れやくすみを防ぎ、且つ、唇に透明感を与え、また、爪に使用した場合は、爪表面のざらつきやツヤの消失などの爪の損傷を防ぐ局所使用用化粧料を提供する。例文帳に追加

To obtain a cosmetic for local use capable of preventing rough lip skin such as skin peeling off or cut and lip drabness and affording the lip with clear feeling when applied to the lip, and preventing nail damages such as nail surface roughness and nail luster loss when applied to the nails. - 特許庁

支持体の少なくとも一方の面の全面に亘って親水性グラフトポリマー鎖が存在する表面親水性部材に、導電性素材を局所的に適用して吸着させてなる導電性素材層を有することを特徴とする導電性パターン材料である。例文帳に追加

A conductive pattern material has a conductive material layer, formed by locally applying and making a conductive material adsorb to a surface phydrophilic member where a phydrophilic graft polymer chain exists extending over the entire surface of at least one surface of a support body. - 特許庁

ガラス状カーボンをドライエッチング法にて加工した場合、ガラス状カーボン表面に存在する応力や不純物によって、局所的なエッチング速度の増加が生じ、エッチング斑や面粗度悪化が発生してしまう。例文帳に追加

To solve problems such as the occurrence of etching spots or the deterioration of surface roughness due to the local increase of the etching speed caused by the stress or the impurity that is existed on the surface of a glassy carbon when processing the glassy carbon by a dry etching method. - 特許庁

導体膜表面の局所的な腐食の発生を抑制し、かつ、迅速な導体膜の研磨速度が得られ、さらにディッシングが少なく、被研磨面の平坦性を向上させることが可能な金属用研磨液、及びそれを用いた研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing solution for metal and a polishing method using the same, capable of controlling the generation of a localized corrosion on the surface of a conductive film and rapidly polishing the conductive film, and further improving the flatness of the polished plane with low dishing. - 特許庁

基板Ｗの表面に形成された所定厚さの感光性材料の層の所定箇所にビーム強度と走査速度を制御しながらレーザビームを照射することにより感光性材料の反応時定数を局所的に制御しながら露光を行う。例文帳に追加

A predetermined part of a photosensitive material layer having a predetermined thickness formed on the surface of a substrate W is irradiated with a laser beam while controlling the beam intensity and the scanning speed so as to expose while locally controlling the reaction time constant of the photosensitive material. - 特許庁

このため、段差側面領域１３と第２表面領域１２との間のコーナー部分近傍に強い電界が形成されるとともに、浮遊ゲート４と制御ゲート６との間の電位差によってチャネル領域中に局所的に強い電界が形成される。例文帳に追加

Therefore, a powerful electric field is formed near the corner section between the side face region 13 and second surface region 12 and, the same time, a local powerful electric field is formed in a channel region due to the potential difference between the floating gate 4 and control gate 6. - 特許庁

Ｗａｖｅｌｅｔ変換を用いることで得られる撮像結果の局所的な周波数分布から記録媒体の表面の特徴を抽出し、様々な種類の記録媒体を精度良く自動判別するとともに、適切な条件において画像形成を行うこと。例文帳に追加

To extract a surface characteristic of a recording medium from a local frequency distribution of an imaging result acquired by using Wavelet transformation; to discriminate automatically and accurately various kinds of recording mediums; and to form an image in a proper condition. - 特許庁

酸素の外方拡散によるウェーハ表層の酸素濃度の低下を防ぎ、ＳＴＩ領域での転位発生を防止でき、研磨ダメージや研磨起因のウェーハ表面の局所的な凹凸欠陥を低減もしくは消滅可能なシリコンウェーハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a silicon wafer that can prevent a wafer surface layer from being lowered in oxygen concentration due to the outward diffusion of oxygen, and also can prevent dislocation in an STI region to reduce or eliminate polishing damage and a local unevenness defect on a wafer surface caused by polishing. - 特許庁

カラーフィルター用塗布膜表面における局所斑状異常、滴下跡の発生が著しく軽減されたブラックマトリックス用光硬化性組成物、及びその光硬化性組成物を用いて形成された、優れた性能のブラックマトリックスを有するカラーフィルターを提供する。例文帳に追加

To provide a photocurable composition for a black matrix that suppresses the occurrence of local porphyritic abnormalities and marks of dropping on the surface of a coating film for a color filter and to provide a color filter having a high performance black matrix formed using the photocurable composition. - 特許庁

さらに本発明は、皮膚表面の欠点を隠すための、特に、皮膚の光沢を減らし、および/または毛穴、目の下のくま、しみ、しわおよび/または小じわを隠すための化粧法に関し、この際、この方法は、前記の組成物を皮膚に局所塗布することを含む。例文帳に追加

A cosmetic method comprises topically applying the composition to the skin, so that the method is useful for veiling defects on surfaces of the skin, especially decreasing glossiness of the skin and/or veiling pores, shadows under the eyes, freckles, wrinkles and/or fine lines. - 特許庁

本翼形部１０のスパン方向局所部分における正圧及び負圧表面１２、１１の半径方向に対応する表面特性は、２以上の符号反転ポイントをもつ曲率半径を有するような該翼形部１０のキャンバ線Ｃ_R及び厚さ分布プロットＴ_Rの１以上を協働して定めるように形成される。例文帳に追加

The positive pressure and the negative pressure surfaces 12, 11 have radially corresponding surface characteristics at spanwise local portions of the airfoil 10 that cooperatively define one or more of a camber line C_R and a thickness distribution plot T_R of the airfoil 10 as having a radius of curvature with two or more sign inversion points. - 特許庁

探針で電界効果トランジスタのチャンネル表面を走査しながら、各点において探針直下のチャンネルの表面電位およびトラップ電荷による電位を、原子間力顕微鏡を用いた電位測定により測定し求めた電位から局所的な移動度を算出し、さらに各点で算出された移動度に基づいて移動度分布を求める。例文帳に追加

While the surface of channels of a field effect transistor is being scanned by a probe, the surface potential of the channels and potentials by trap charge just beneath the probe at each point are measured through potential measurement using an atomic force microscope, and the local mobility is calculated from the measured potentials, and further the distribution of mobility is obtained based on the mobilities calculated at each point. - 特許庁