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過フッ化の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 357



例文

この排水処理装置は、別系統から得られる微生物処理水と、沈殿槽23から発生する汚泥とを混合槽35で混合した混合物を、第1リサイクル槽1に導入し、この混合物を、水素とフッ素とを含有する排水と接触反応させる。例文帳に追加

In this wastewater treatment apparatus, microbially treated water obtained from a separate system and sludge generated in a sedimentation tank 23 are mixed in a mixing tank 35 and the resulting mixture is introduced into a first recycling tank 1 to be brought into contact with wastewater containing hydrogen peroxide and fluorine to be reacted therewith. - 特許庁

槽内の使用中の燐酸を、循環濾経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。例文帳に追加

To provide a processing apparatus regenerating phosphoric acid in use in a tank by a circulation filtration path and an apparatus for regenerating phosphoric acid using hydrofluoric acid, in which a recovery time and an amount of recovery for recovering to the apparatus for regenerating phosphoric acid side are easy to be automated, and impurity in the phosphoric acid can be reduced and maintained constant. - 特許庁

走査型電子顕微鏡で膜の内/外表面および膜断面のいずれかを観察した時の、倍率5万倍での膜面構造が幅が5nm以上でアスペクト比が2以上であるラメラの集積により形成されている、ポリフッビニリデン系樹脂膜を用いてろを行う。例文帳に追加

Filtration is made by using a polyvinylidene resin membrane formed by the integration of lamellas of ≥5 nm in the width of the membrane surface structure at a magnification 50000 times when either of the inside/outside surfaces of the membrane and the membrane section is observed by a scanning electron microscope and ≥2 in aspect ratio. - 特許庁

従来の水処理膜に比べ、分離機能の向上により透水の水質を安定させるために、分離機能層に優れたウイルス除去性能、耐ファウリング性能を有するポリフッビニリデン系樹脂を用いた複合膜及びその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a composite membrane using polyvinylidene fluoride resin having virus removal performance and antifouling performance which is excellent in a separation function layer in order to stabilize the water quality of permeated water by improving a separation function in comparison with a conventional water treatment membrane and a method of manufacturing the composite membrane. - 特許庁

例文

この開口窓41の内方に取り付けられる光学フィルタ5は、フッバリウムからなる絶縁基板51を基体としており、当該絶縁基板の裏面には検出対象の赤外線のみを透させるための多層フィルタ膜52が形成されている。例文帳に追加

An optical filter 5 fixed to the inner part of the opening window 41 has an insulating base plate 51 made of barium fluoride as a substrate, and a multilayer filter film 52 for transmitting only infrared ray which is a detecting object is formed on the back surface of the insulating base plate 51. - 特許庁


例文

半導体基板1上にポリメタル構造のゲート電極7を形成した後、半導体基板1を洗浄する際に、洗浄液として、フッ酸と、水素と、塩酸と、水との混合液を用い、1分間程度、室温(23℃)中で枚葉洗浄処理を施すようにした。例文帳に追加

Single wafer-cleaning treatment is performed at a room temperature (23°C) for about one minute, using mixed liquid among hydrofluoric acid, hydrogen peroxide, hydrochloric acid, and water as a cleaning liquid, when cleaning a semiconductor substrate 1 after formation of a polymetal structure of gate electrode 7 on the semiconductor substrate 1. - 特許庁

冷却前の温度制御を厳密に行わなくても、十分な機械的強度や透性能が得られる微細構造を有し、しかも親水性が改善されたポリフッビニリデン系樹脂の多孔質膜を得ることができる製造方法、並びにその方法で得られる多孔質膜を提供する。例文帳に追加

To provide a production method capable of obtaining a porous film of a polyvinylidene fluoride-based resin having a fine structure in which sufficient mechanical strength and permeable performance are obtained even if temperature control before cooling is not exactly carried out and improved in a hydrophilic property and to provide the porous film obtained by the method. - 特許庁

槽内の使用中の燐酸を、循環濾経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。例文帳に追加

To enable to easily automate the timing and the quantity of phosphoric acid recovered to the phosphoric acid regenerator side and to reduce or maintain impurities in the phosphoric acid constant in a treatment apparatus for regenerating phosphoric acid in use in a tank through a circulation filtering passage and a phosphoric acid regenerator employing hydrofluoric acid. - 特許庁

槽内の使用中の燐酸を、循環濾経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。例文帳に追加

To obtain a treatment device for regenerating phosphoric acid in use in a tank through a circulation filtering passage and a phosphoric acid regenerator employing hydrofluoric acid, in which the timing and the quantity of phosphoric acid recovered to the phosphoric acid regenerator side are determined automatically and impurities in the phosphoric acid can be reduced or kept constant. - 特許庁

例文

半導体基板1上にポリメタル構造のゲート電極7を形成した後、半導体基板1を洗浄する際に、洗浄液として、0.1〜15重量%の塩酸と、0.01〜0.3重量%のフッ酸と、0.1〜15重量%の水素とを含む水溶液を用いる。例文帳に追加

After poly-metal structured gate electrodes 7 have been formed on a semiconductor substrate 1, when the semiconductor substrate 1 is cleaned, an aqueous solution, containing hydrochloric acid of 0.1 to 15% by weight, hydrofluoric acid of 0.01 to 0.3% by weight and hydrogen peroxide of 0.1 to 15% by weight, is used as a cleaning liquid. - 特許庁

例文

半導体製造時のパターン露光に使用する光リソグラフィー装置(ステッパー)用のレンズ材料や、各種エキシマレーザー装置用窓材などに使用する真空紫外光透材料を得るためのフッ物単結晶の製造法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a fluoride single crystal which is useful for obtaining a lens material for a photolithography device (stepper) used for pattern exposing at the time of the production of a semiconductor or a vacuum ultra-violet transmissive material used as a window material or the like for various excimer laser systems. - 特許庁

枚葉式洗浄処理を行う基板処理装置において、処理対象となる基板を回転させつつその基板に対してアンモニア水素水混合水溶液を吐出する処理(ステップS1a)と、基板を回転させつつその基板に対してフッ酸を間欠吐出する処理(ステップS2a)とを行う。例文帳に追加

In a substrate processor for a single wafer cleaning process, a process (steps S1a) of discharging an ammonia hydrogen peroxide solution- mixed aqueous solution against a substrate to be processed which is being rotated, and a process (step S2a) of intermittently discharging a hydrofluoric acid against the rotating substrate, are performed. - 特許庁

支持ボード20上に固定されて基板搬送治具を構成する粘着ゴムシート10であって、フッ素ゴム100質量部と、有機物0.2〜0.6質量部と、共架橋剤0.5〜1.5質量部とを含有し、ポリマー純度が85.0質量%以上であるゴム配合物を成形加工して得られる。例文帳に追加

The adhesive rubber sheet 10 fixed to the supporting board 20 and composing the substrate transfer jig includes: 100 pts.wt of fluorine rubber, 0.2 to 0.6 pts.wt of organic peroxide, 0.5 to 1.5 pts.wt of crosslinking agent; and can be obtained by mold-pressurizing a rubber composite having polymer purity of ≥85.0 wt.%. - 特許庁

電解液の保液性が優れたポリフッビニリデン樹脂をセパレータ材料として用いても、セパレータにしわを生じなくして、内部抵抗を低下させて、高温保存特性および充電特性に優れた非水電解質二次電池を提供する。例文帳に追加

To provide a nonaqueous electrolyte secondary battery, having reduced internal resistance and superior high-temperature conservation and overcharging characteristics by preventing wrinkling of the separator, even if a polyvinylidene fluoride resin is used which has superior electrolyte sustainment as a separator material. - 特許庁

次世代光リソグラフィー技術用の光学材料として有用である、歪み(複屈折)が小さく、かつ透率やコントラストの低下原因となる微小ボイド(濁りや曇りとして観察される)もほとんどないフッ金属単結晶を効率よく製造する。例文帳に追加

To efficiently manufacture a metal fluoride single crystal that is useful as an optical material for next-generation optical lithography techniques, has small strain (birefringence) and has little minute voids (observed as a cloud or tarnish) leading to the cause lowering transmission factor and contrast. - 特許庁

配線を含む半導体素子の製造程で用いられる剥離剤組成物であって、水と、フッアンモニウムと、グルコン酸およびグルコン酸非金属塩からなる群から選択される少なくとも1つとを含み、25℃におけるpHが4.5〜5.8である剥離剤組成物である。例文帳に追加

The removing agent composition to be used for manufacturing processes of a semiconductor device including wiring comprises water, ammonium fluoride, and at least one selected from a group consisting of gluconic acid and non-metal salts of gluconic acid, and shows 4.5 to 5.8 pH at 25°C. - 特許庁

ゴムパッキンの主成分が、主鎖に炭素−フッ素結合があり、側鎖にメチル基を有する学構造からなるので、他の特殊ゴムと比較して、長期間の圧縮力に対する残留ひずみが小さく、水分子の透性が極めて小さい特性が得られる。例文帳に追加

The main component of the rubber packing comprises the chemical structures having C-F bond at a main chain and a methyl group at a side chain so that small residual strain to the compressive force for a long period and significant small characteristics of the permeability of a water molecule are obtained as compared with those of other special rubbers. - 特許庁

ニ水−半水法による湿式リン酸の製造方法において、フッ素系合物、及び/または、半水石膏を添加することにより、従来の方法、装置では使用できなかったリン鉱石を用いて、ろ性の優れた石膏を製造する方法。例文帳に追加

In the method for producing phosphoric acid by the wet process employing a dihydrate-hemihydrate process, rock phosphate which could not be used in the conventional process and apparatus is used by adding a fluorine- based compound and/or hemihydrate gypsum to produce gypsum having excellent filterability. - 特許庁

転写ベルトとしての機能を充分に発揮するだけでなく、透明性に優れることにより、トナーの転写程を直接観察できるものである、導電性及び透明性を有したポリフッビニリデン系樹脂無端状ベルトを提供すること。例文帳に追加

To provide an endless belt made of polyvinylidene fluoride-based resin having conductivity and transparency, which not only exhibits a sufficient function as a transfer belt but allows a user to observe a toner transfer process directly because of the excellent transparency of the endless belt. - 特許庁

透明基板上に、半透膜と遮光膜と、必要に応じて塩素系ガスのエッチングを停止する中間膜とを設け、ドライエッチングガスとして塩素系ガスとフッ素系ガスを交互に組み合わせて、順次、下層に損傷を与えないようにパターンしていく製造方法を特徴とする。例文帳に追加

Disclosed is the manufacturing method in which a translucent film and a light shielding film, and an intermediate film stopping etching using chlorine system upon occasion are provided, and chlorine-based gas and fluorine-based gas are used in combination as dry etching gas to carry out patterning in sequence without damaging a lower layer. - 特許庁

本発明のフッビニリデン系樹脂多孔膜は、膜表面に平均孔径3μm以上の円形または楕円形の微細孔を有し、純水透速度が30000L/m^2/hr/98kPa以上、分画粒子径が1μm以上である。例文帳に追加

The fluorinated vinylidene resin porous film has circular or elliptic micropores having an average pore size of 3μm or more on the film surface, has a permeation velocity for pure water of 30,000 L/m^2/hr/98kPa or more, and has a fractionated particle size of 1 μm or more. - 特許庁

本発明の一態様は、ガラス基材の光透率を向上させる反射防止膜の製造方法において、フッ物ガスを含む雰囲気でガラス基材をプラズマ処理することによってガラス基材表面に反射防止膜を形成することを特徴とする反射防止膜の製造方法、である。例文帳に追加

One embodiment is a method for manufacturing an anti-reflection film to improve the light transmittance of a glass base material, in which the anti-reflection film is formed on the glass base material surface by subjecting the glass base material to plasma treatment in an atmosphere including gaseous fluoride. - 特許庁

アルコキシN−ヒドロキシアルキルアルカンアミドと、アルカノールアミン、双極子モーメントが3以上の極性物質及び損傷防止剤よりなるグループから選ばれた1つ以上の合物と、フッ物系還元剤及び水酸物系還元剤のうちいずれか1つ以上又は水素とを含む。例文帳に追加

The composition comprises one or more compounds selected from the group consisting of an alkoxy N-hydroxyalkyl alkanamide, an alkanol amine, a polar substance having a dipole moment of 3 or more and a damage preventing agent, and at least one of a fluoride-based reducing agent and a hydroxide-based reducing agent or a hydrogen peroxide. - 特許庁

水素と酸性フッアンモンまたは蓚酸を含有する水溶液を用いて揺動エッチング処理後、水酸カリウムとグルコン酸ナトリウムを含有する水溶液を用いて揺動処理することにより、更には塩酸水溶液で揺動処理することによりスマット析出を抑制してクロムモリブデン鋼材の金属表面状態を清浄することができる。例文帳に追加

After the chromium-molybdenum steel is subjected to oscillation etching treatment using an aqueous solution containing hydrogen peroxide and acid ammonium bifluoride or oxalic acid, the chromium-molybdenum steel is subjected to oscillation treatment using an aqueous solution containing calcium hydroxide and sodium gluconate, or further subjected to oscillation treatment with a hydrochloric acid aqueous solution to thereby suppress smut precipitation, and the metallic surface condition of the chromium-molybdenum steel can be cleaned. - 特許庁

屈折率等の光学特性の温度変安定性、耐熱性が優れ、重水素アルキル基やフッ水素基を導入しなくても通信波長領域で高透率を有し、容易に変形しない程度の硬さと弾性があり、屈折率調整を容易に行いうる光伝送部材を提供する。例文帳に追加

To provide optical transmission components having excellent heat resistance and temperature variation stability of optical characteristics such as a refractive index, having high transmittance in a communication wavelength region even when a deuterated alkyl group or a fluorinated hydrocarbon group is not introduced, having such a hardness and elasticity that they are not easily deformed, and further having its refractive index adjusted easily. - 特許庁

フッ素系樹脂からなり、少なくとも70%以上の全光線透率を有する樹脂表面層、塩ビニル系樹脂及び/またはポリエステル系樹脂からなり、少なくとも70%以上の全光線透率を有する透明樹脂層、該透明樹脂層の裏面に蒸着により形成された金属層を有する積層体により上記課題を解決する。例文帳に追加

The resin laminated film comprises a resin surface layer comprising a fluoroplastic resin and having a total light transmittance of at least 70% or above, a transparent resin layer comprising a vinyl chloride resin and/or a polyester resin and having a total light transmittance of at least 70% or above and the metal layer formed on the back of the transparent resin layer by vapor deposition. - 特許庁

原水槽1に導入された有機フッ合物を含有する排水は、濾器4によって濾されてから、第1中継槽5で微生物、マイクロナノバブル発生助剤および栄養剤を混合されると共にマイクロナノバブル発生機7によってマイクロナノバブルを含有されて、被処理水が作成される。例文帳に追加

A waste water treatment method comprises filtering waste water containing the organic fluorine compound introduced into a raw water tank 1 through a filter 4, then loading it with the microorganisms, a micronano bubble generating assistant agent and a nutrient agent in a first intermediate tank 5, and keeping micronano bubbles mixed by a micronano bubble generator 7 producing water to be treated. - 特許庁

ポリフッビニリデン樹脂と、BET比表面積5〜75m^2 / g、レーザー回折式(マイクロトラックFRA)粒度分布における11μm以上の累計が25%以下である疎水性炭酸カルシウム微粒子を含有する多孔質濾膜用樹脂組成物、又は、更に有機液状体を含有する多孔質濾膜用樹脂組成物である。例文帳に追加

The resin composition for the porous filtering membrane contains polyvinylidene fluoride and a hydrophobic calcium carbonate particulate with the BET relative surface area of 5-75 m^2/g and in which the total of 11 μm or more in a laser diffraction system (micro track FRA) particle size distribution is 25% or less, or further contains an organic liquid body. - 特許庁

耐熱性・耐薬品性に優れながらも連続空孔部からガス透性のある未焼成PTFE延伸多孔質成型体に、弾性変形可能・耐熱性・耐薬品性・耐ガス透性、吸湿性に優れながらも成形加工性に劣るフッポリエーテルエラストマー成分をPTFEの多孔質部分に含浸・架橋させた弾性変形可能な複合体からなる成型物。例文帳に追加

The molded article comprises an elastically deformable composite material which is obtained by impregnating porous portions of an unfired PTFE stretched porous molded material including continuous pore parts having gas permeability while having excellent heat resistance and chemical resistance with a fluorinated polyether elastomer component which is inferior in moldability while having excellent elastically deforming property, heat resistance, chemical resistance, resistance to gas permeation and resistance to moisture, and then cross-linking the resulting material. - 特許庁

少なくとも、X線透性基板、前記基板上に形成されたハロゲンアルカリ蛍光体層、および前記蛍光体層上に形成された防湿保護層からなるデジタルX線撮影用放射線変換シートにおいて、該防湿保護層を含フッ合物不飽和炭水素モノマーのプラズマ重合膜から形成する。例文帳に追加

In this radiation conversion sheet for digital radiography comprising at least a radiotransparent substrate, an alkali halide phosphor layer formed on the substrate, and a moisture-proof protective layer formed on the phosphor layer, the moisture-proof protective layer is formed from a plasma polymerization film of a fluorine-including compound unsaturated hydrocarbon monomer. - 特許庁

液体現像剤に接し、かつ光路に配置された光学材料12表面に、オルガノシラン合物(最も好適には長鎖アルキル基またはフッ素を含む有機官能基を有するシラン合物)を用いて、ナノメータないしオングストローム単位の極薄い、光透性に優れた学吸着膜17をシロキサン結合を介して設けることにより、防汚性に優れたトナー濃度検知センサを提供する。例文帳に追加

This toner concentration detecting sensor excellent in an antifouling property is provided by arranging an extremely thin and excellently light transmissive chemical adsorption film 17 of a nanometer or angstrom unit via a siloxane bond by using an organosilane compound (most suitably, a silane compound having a long chain alkyl group or an organic functional group including fluorine) on a surface of an optical material 12 contacting with a liquid developer and being arranged in an optical path. - 特許庁

Pb、Ge、Ga等の酸物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透率が高い封止用ガラスを提供すること。例文帳に追加

To provide a sealing glass which excels in water resistance, is hard to crystallize in sealing time or also in heat treatment after that, can realize a low sealing temperature and a desired thermal expansion coefficient, and has a high transmittance of visible light, even not including the oxides of Pb, Ge, Ga or the like, or halogen components such as fluorine, or even not including the oxides of Sn and Cu so much. - 特許庁

固体高分子電解質膜を製造する際に、炭水素や過フッ化水素などを含有する高分子から成るベースフィルムを用意し(ステップS100)、このベースフィルムを、所定の形状および配列の穴あき部を有するマスクで覆ってマスキングした後に(ステップS110)、放射線重合法によって側鎖の形成を行なう(ステップS120〜130)。例文帳に追加

When a solid-polymer electrolytic membrane is manufactured, a base film consisting of a polymer containing hydrocarbon, perfluoro- hydrocarbon, etc., (step S100), which is masked by covering with a mask perforated by prescribed shape and array (step S110), followed by formation of side chains with radiation polymerizing method (step S120 to 130). - 特許庁

リチウム2次電池のような2次電池において、高温時、充電時やデンドライト生成による電池の発火を防止することができ、フッ水素酸(HF)の発生の原因となる水を捕捉し、HFが発生した場合でもこれを捕捉し電池の容量劣やサイクル劣を防止することができる良好なセパレータ特性を有する電池用セパレータ、及びそれを用いた電池特性が良好な電池の提供。例文帳に追加

To provide a separator for a battery having high separator characteristics capable of preventing ignition of the battery caused by high temperature, overcharge, or generation of dendrites, catching water causing the generation of hydrofluoric acid (HF), catching HF even if HF is generated to prevent the capacity deterioration or cycle life deterioration in a secondary battery such as a lithium secondary battery, and provide a battery having high battery characteristics using this separator. - 特許庁

オートクレーブを施すと、湾曲ゴム18や外皮12等といった樹脂製の外皮は、外皮端部より劣が開始する傾向が一般にあるが、外皮端部を覆って設けた熱収縮チューブ21は、フッ素樹脂であるので水蒸気を透しにくく、シリカコーティング14のガスバリア効果とあいまって、外皮端部の劣を防止できる。例文帳に追加

When autoclaved, resinous outer skins such as the bending rubber 18 and the outer skin 12 generally tend to start deterioration from the edge of the outer skin, but the heat contraction tube 21 covering the edge of the outer skin is capable of preventing the deterioration of the edge of the outer skin because of being made of the fluororesin that scarcely allows vapor penetration in addition to gas barrier effects of the silica coating layer 14. - 特許庁

リッジストライプ150上の不要なn型GaAs電流阻止層1160とp型GaAs上キャップ層111とをアンモニア水素系エッチャントで選択的にエッチング除去して、p型Al_yGa_1−yAsキャップエッチングストップ層110をフッ水素酸で選択的にエッチング除去する。例文帳に追加

By selectively carrying out the etching removal of unnecessary n-type GaAs current inhibition layer 1160 on the ridge stripe 150 and the p-type GaAs top cap layer 111 with ammonia/hydrogen peroxide based etchant, the etching removal of the p-type Al_yGa_1-yAs cap etching stop layer 110 is selectively carried out with hydrofluoric acid. - 特許庁

コンプレッサハウジング1の内部において、インペラ4と対向するシュラウド面33に隣接して、インペラ4から吐き出される圧縮空気A2が通するディフューザ面34には、リン酸合物を含有する成処理被膜層35を介して、フッ素樹脂粉末を潤滑剤とした固体被膜潤滑塗料層36が設けてある。例文帳に追加

A solid film lubrication coating layer 36 in which fluororesin powder is used as lubricant is provided on the diffuser surface 34 which is adjacent to a shroud surface 33 opposing to the impeller 4 and through which the compressed air A2 discharged from the impeller 4, through a chemical conversion coating layer 35 containing phosphoric acid compound in the compressor housing 1. - 特許庁

本発明のポリオレフィン系樹脂組成物は、ポリオレフィン系樹脂、有機物、熱分解型発泡剤、並びに、含フッ合物系微粒子及び/又はシリコーン系微粒子を含有することを特徴とするので、このポリオレフィン系樹脂組成物を発泡させて得られるポリオレフィン系樹脂発泡体は、無数の微細な気泡を有しており、外観性、剛性及び断熱性に優れている。例文帳に追加

The polyolefin resin composition comprises a polyolefin resin, an organic peroxide, a heat decomposition type blowing agent, and fluorine-containing compound fine particles and/or silicone fine particles, and the polyolefin resin foam which can be obtained by foaming this polyolefin resin composition has innumerable fine cells and excels in external appearance, rigidity, and thermal insulation properties. - 特許庁

少なくとも2つの電極、電解質、電極の間に配置された電解質としてのキャリヤー材料、及び多孔質材料を備えたキャリヤー材料を具備し、内側気孔構造の中に過フッ化表面活性物質が存在し、前記電解質の表面張力は19.8mN/m以下である、電気学的エネルギー貯蔵手段。例文帳に追加

This electrochemical energy storage means is provided with at least two electrodes, an electrolyte, a carrier material as the electrolyte being disposed between the electrodes, and a carrier material including a porous material, and in the electrochemical energy storage means, a perfluorinated surface-active substance is present inside an inner pore structure, and the surface tension of the electrolyte is not higher than 19.8 mN/m. - 特許庁

ポリッシュ後等の半導体基板を水素(3〜6質量%)、フッ水素酸(5〜10質量%)と塩酸(3〜6質量%)の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。例文帳に追加

The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera. - 特許庁

1枚のシリコンウェーハの全部又は一部分を、水素水と硫酸との混酸に浸漬した後、直ちにフッ水素酸と硝酸との混酸の加熱によって発生する蒸気により溶解し、得られた溶液を加熱濃縮して高周波誘導結合プラズマ質量分析法又は原子吸光分析法により分析する。例文帳に追加

The whole part or one part of one silicon wafer is immersed in the mixed acid of oxygenated water and sulfuric acid, and immediately dissolved by steam to be generated due to the heating of the mixed acid of hydrofluoric acid and nitric acid, and the acquired solution is heated, condensed, and analyzed by a high frequency inductive coupled plasma mass spectrometry or an atomic absorption spectrometry. - 特許庁

従来の、多孔質されたフッ素樹脂からなる多孔質材料と同等の、高い耐薬品性、学安定性、撥水性、耐熱性、電気絶縁性、および通気性等を兼ね備える上、前記従来のものに比べて耐熱性や機械的強度に優れた、新規な多孔質材料と、前記多孔質材料を用いた防水性空気透フィルタとを提供する。例文帳に追加

To provide a new porous material which has the same high chemical resistance, chemical stability, water repellency, heat resistance, electric insulating property, air permeability and the like as those of conventional porous materials constituted by porous fluororesins, and has more excellent heat resistance and mechanical strength than those of the conventional porous materials, and to provide a waterproof air-permeable filter using the porous material. - 特許庁

この発明のガラスコートおよびその製造方法は、液したフッ珪素に、粉粒状のシリカバルーンまたは水砕スラグを混入し、飽和点まで溶解してからコロイド状態の飽和溶液となし、高周波磁場を印可しながらボロシロキサンを添加してポリマーアロイ状態にしたことを特徴とする。例文帳に追加

The glass coat and the method for manufacturing it are characterized in that powdery and granular silica balloons or water-granulated slag are added to liquified silicon fluoride, after dissolving up to the saturation point, the resulting solution is made into a colloidal supersaturated solution, and then borosiloxane is added while impressing a high frequency magnetic field to make resulting mixture into a polymer alloy state. - 特許庁

酢酸及びフッ酸を含み、実質的に、CMOS素子のPMOSトランジスタのためのSiGe:Siのエッチング速度と同一の、CMOS素子のNMOSトランジスタのためのSiGe:Siのエッチング速度を確保するのに十分な組成物における相対的な量の酸剤を含むウェットエッチングの組成物である。例文帳に追加

A composition for wet etching includes a peracetic acid and a fluorinated acid, and also, substantially includes SiGe for a PMOS transistor of a CMOS element, SiGe for an NMOS transistor of the CMOS element with an etching rate equal to that of Si, and a relative amount of an oxidizer in a composition sufficient for securing the etching rate of Si. - 特許庁

ドライエッチング及び/又はアッシング後の半導体基板に存在する残渣の除去液であって、フッ合物を含まず、銅に配位し得る2以上の酸素原子を有する中性有機合物及び/又はC4以上のモノアルコールのうち少なくとも1種と、水とを含むことを特徴とする残渣除去液、或いは、塩素酸塩と水とを含むことを特徴とする残渣除去液に関する。例文帳に追加

This residual liquid for removing the residue existing on the semiconductor substrate after dry etching and/or ashing does not contain a fluorine compound, and contains at least one kind of a neutral organic compound having two or more oxygen atoms which can be coordinated to copper and/or mono alcohol with C4 or more and water, or contains perchlorate and water. - 特許庁

水素を含む混合物を、25℃における凝集エネルギー密度が510J/cm^3以上690J/cm^3以下の範囲にあり、且つポリマーの繰り返し分子単位構造内に-C1基、-SO_2-結合及び-CONH-結合から選ばれる少なくとも一つの結合を含むフッ素含有ポリイミド樹脂を主成分とする膜の一方の面に接触させ、この膜を通して、特定炭水素を選択的に透させ分離する。例文帳に追加

The hydrocarbon mixture is brought into contact with one surface of a membrane based on the fluorine-containing polyimide resin having a cohesive energy density of 510-690 J/cm3 at 25°C and containing at least one bond selected from a -Cl group, an -SO2- bond and a -CONH bond in its repeating molecular unit structure and the specific hydrocarbon is selectively transmitted through the membrane to be separated. - 特許庁

ジメチルエーテルのガスまたは液体と接触する部位に使用されるゴム部材であって、2価パーフルオロポリエーテルまたは2価パーフルオロアルキレン骨格からなり、1分子当たり2個以上のアルケニル基を有するフッ素系エラストマー、または前記フッ素系エラストマーを含むゴム組成物が物架橋剤により架橋された架橋成形物からなることを特徴とする耐ジメチルエーテル性ゴム部材。例文帳に追加

The dimethyl ether-resistant rubber member is used for a part which comes in contact with a gas or a liquid of dimethyl ether and the rubber member is composed of a crosslinked molded article obtained by crosslinking a fluorine-based elastomer composed of a divalent perfluoropolyether or divalent perfluoroalkylene skeleton and having two or more alkenyl groups per molecule or a rubber composition containing the above fluorine-based elastomer with a peroxide crosslinking agent. - 特許庁

反応層とガス供給層とからなるガス拡散電極の製造方法において、界面活性剤を含む水溶液中で疎水性カーボンブラック、フッ素樹脂ディスパージョン及び水素分解触媒微粒子を分散させたスラリーからガス供給層を形成させるガス拡散電極の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the gas diffusion electrode consisting of the reaction layer and the gas supply layer comprises forming the gas supply layer from a slurry prepared by dispersing the hydrophobic carbon black, the fluororesin dispersion and the hydrogen peroxide decomposing catalyst particulates into an aqueous solution containing a surfactant. - 特許庁

安価な原料から煩雑な操作を用いずに製造することが可能で、その重合により優れた性能(耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透性等の性能)を示すポリマーを与える新規な2官能の含フッ素スピロ環状アセタール合物を提供する。例文帳に追加

To provide a novel bifunctional fluorine-containing spiro cyclic acetal compound which can be produced from an inexpensive material without using complicated operations, and is polymerized to give a polymer showing excellent characteristics (chemical resistance, weather resistance, water and oil repellency, low intermolecular interactive property, low refraction property, high optical transparency and the like); and to provide a production process of the bifunctional fluorine-containing spiro cyclic acetal compound. - 特許庁

例文

初期の組成においてアンモニウム−アルカリ性の成分を含有する洗浄溶液を用いて、その際、前記半導体ウェハを枚葉式処理で洗浄溶液と接触させ、かつ洗浄の経において、フッ水素を他の成分として前記洗浄溶液に添加し、かつ前記洗浄溶液は、洗浄の完了時に、初期と組成とは異なる組成を有する、半導体ウェハを洗浄する方法例文帳に追加

The process for cleaning a semiconductor wafer uses a cleaning solution containing an ammonium-alkaline ammonium component in an initial composition, wherein the semiconductor wafer is brought into contact with the cleaning solution in an individual-wafer treatment, and in the course of cleaning hydrogen fluoride is added as further component to the cleaning solution, and the cleaning solution has at the end of cleaning, a composition that differs from the initial composition. - 特許庁

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