「5 Steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for evaluating the cleanness of the silicon wafer comprises the steps of treating the N-type silicon wafer with an SC-1 liquid used in an RCA cleaning method, then housing the wafer in a wafer case made of resin, preserving the wafer at 20 to 30°C for 5 days or more, thereafter evaluating the cleanness of the wafer by measuring the surface photoelectric voltage.例文帳に追加

Ｎタイプシリコンウエハを、ＲＣＡ洗浄法において用いられるＳＣ−１液で処理した後、樹脂製ウエハケース内に収納し、２０〜３０℃で５日間以上保管し、その後に表面光電圧測定により、ウエハの清浄度評価を行うことを特徴とするシリコンウエハの清浄度評価方法を用いる。 - 特許庁

The method further comprises the steps of press forming the cylindrical resin film 2 having one or a plurality of the cavities 3 from a pipe die 5 at a molten thermoplastic resin, supplying and filling the material W from above to the cavities 3 in the film 2, and press forming the resin film in which the material W is filled in a mat-like state to a formed mat.例文帳に追加

該木質成形体１は、熱可塑性樹脂の溶融物をパイプダイ５から空洞部３を１個または複数個有する筒状の樹脂膜２を押出成形し、該樹脂膜２の内部の空洞部３に上方から木質材料Ｗを供給充填し、該木質材料Ｗを充填した樹脂膜をマット状にプレス成形して成形マットすることにより製造される。 - 特許庁

The method is configured to have the steps of immersing articles 4 having some shapes into liquid 2 which is radiated by an ultra sonic wave, sticking a sensor 5 for detecting an impulse force on the articles 4, converting the impulse force applied to the articles 4 into a voltage through the sensor, and measuring the strength of the ultra sonic wave propagating through the liquid 2.例文帳に追加

超音波が照射されている液体２中にある形状の物品４を浸漬させ、更にこの物品４に衝撃力を感知するセンサ５を貼り付け、この物品４に加わる衝撃力をセンサを通して電圧に変換させ、液体２中に伝播する超音波の強度を測定するように構成される。 - 特許庁

Afterwards, source attribute information 3b in the file 3 and attribute information 5 of a creation origin status quo file 4 placed at the location of the source file 1 is acquired (steps S4 and S5), and the compatibility of the creation origin status quo file 4 with the source file 1 being the creation origin of the file 3 is judged (a step S6).例文帳に追加

その後、ファイル３内のソース属性情報３ｂとソースファイル１の所在した場所に置かれた生成元現状ファイル４の属性情報５とを取得し（ステップＳ４，Ｓ５）、生成元現状ファイル４とファイル３の生成元となったソースファイル１との整合性を判断する（ステップＳ６）。 - 特許庁

The method for supplying the article using the article holding member includes steps of, while supporting the sheet 1 stuck to the one of faces of the article 1, laminating the support on the other face of the article 1, supporting the article 1 by the support 5, and then supplying the article 1 to a subsequent process after the sheet 2 is peeled off from the face or without peeling the sheet 2.例文帳に追加

また、本発明は、上記物品保持部材を用いた物品１の供給方法にも係り、特に、物品１を、その一方の面に接着されたシート２により支持しつつ、物品１の他方の面に支持体５を積層し、支持体５により物品１を支持した後、シート２を上記一方の面から剥離し、または剥離ことなく次工程に供給することを特徴としている。 - 特許庁

The communication board is equipped with a target setting area 4, a priority process area 5 and a proper work-in-process area 6 to display target data indicating a production goal, priority processing data indicating lots to be processed with priority and differential data indicating a difference from a proper work-in-process quantity in respective steps on the single screen.例文帳に追加

そして、このコミュニケーションボードに目標設定エリア４、優先処理エリア５および適正仕掛かりエリア６を設けて、生産目標を示す目標データ、優先して処理すべきロットを示す優先処理データおよび各工程における適正仕掛かり量からのずれを示す差分データを一画面上に表示する。 - 特許庁

In the automatic rice cooking using the earthen pot, a control of the rice cooking of the earthen pot 1 of the induction heating cooker is divided into a plurality of steps, energization control means 5 finely controls a heating output by information of a temperature sensor 4, time measuring means 6 and a loading dose and further corrects it according to environmental conditions to secure an optimal cooking.例文帳に追加

土鍋自動炊飯調理において、誘導加熱調理器の土鍋１の炊飯調理の制御を複数の工程に分け、温度センサー４、時間測定手段６、負荷量の情報により通電制御手段５は、加熱出力を細かく制御し、さらに環境条件により補正することによって、最適な出来映えを確保するように構成したものである。 - 特許庁

The process of treating sewage sludge cakes by the coke oven of a chamber type comprises steps of: adding sewage sludge cake containing 70-80 % of water to coal for a coke raw material in such an amount that the mass ratio of the sewage sludge cakes to coal is not more than 5 mass %; mixing the above and drying the mixture in the coke oven of the chamber type by distillation.例文帳に追加

含有水分量が７０〜８０％の下水汚泥ケーキを、コークス原料用石炭に対する下水汚泥ケーキの質量比率が５質量％以下になるように、コークス原料用石炭に添加し、混合した後、この混合物を室式コークス炉にて乾留することを特徴とする室式コークス炉による下水汚泥ケーキの処理方法。 - 特許庁

The semiconductor device 20 is manufactured by sequential process steps of forming notched grooves 33 between each of semiconductor elements by using a dicing blade 32, insulating films 25 formed by using a CVD method, openings 36 connected with solder bumps and the solder bumps 4, 5, and then bonding dicing sheets 38 and grinding the semiconductor elements 30 continuously until they separate from a back side.例文帳に追加

ダイシングブレード３２により、個々の半導体素子３０間に切り込み溝３３を形成し、ＣＶＤ法により、絶縁膜２５を形成し、はんだバンプ接続用の開口部３６を形成し、はんだバンプ４、５を形成し、ダイシングシート３８を接着し、裏面側から半導体素子３０が分離するまで研削することにより半導体装置２０を製造する。 - 特許庁

Each of the bead cores 5 is constituted by forming a ring-shaped bead core body 5a wound and overlapped with a plurality of steps and a plurality of rows of at least a steel wire S coated with rubber and winding an organic fiber material 5b treated with dipping liquid made of resorcinol-formalin-latex containing surface active agent around a portion where the wire terminal Se of the bead core body 5a exists.例文帳に追加

ゴム被覆された少なくとも１本のスチールワイヤＳを複数段かつ複数列に巻き重ねたリング状のビードコア本体５ａを形成し、界面活性剤を含むレゾルシン・ホルマリン・ラテックスからなるディップ液にて処理された有機繊維材５ｂをビードコア本体５ａのワイヤ端末Ｓｅが存在する部位に巻き付けてビードコア５を構成する。 - 特許庁

An environment friendly method for treating the surface of an aluminum product before spray coating is provided, which includes the following sequential steps: (1) degreasing on the surface of a workpiece; (2) removing a natural oxide film on the surface of the workpiece; (3) acid washing; (4) anodizing with sulfuric acid; (5) rinsing with hot pure water; (6) drying.例文帳に追加

環境保護に優れるアルミニウム素材の塗装前表面処理方法であって、（１）部品表面の油汚れを洗浄する工程と、（２）部品表面の自然酸化皮膜を除去する工程と、（３）酸洗浄する工程と、（４）硫酸陽極酸化する工程と、（５）熱水を用いて純水洗浄する工程と、（６）乾燥させる工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor light emitting element comprises the steps of dry etching a group III-V nitride-based semiconductor layer 10 of a laminated structure of an n type semiconductor layer 3, a luminous layer 4, and a p type semiconductor layer 5 at a relatively low first rate, and thereafter etching the group III-V nitride-based semiconductor layer 10 at a final rate faster than the first rate.例文帳に追加

本実施形態に係る半導体発光素子の製造方法では、ｎ型半導体層３と、発光層４と、ｐ型半導体層５の積層構造からなるＩＩＩ−Ｖ族窒化物系半導体層１０を相対的に遅い第１速度でドライエッチングした後に、最終的に第１速度よりも速い第２速度でＩＩＩ−Ｖ族窒化物系半導体層１０をエッチングする。 - 特許庁

A method for blowing air of the hollow molding machine comprises the steps of opening a mold 6, then driving to raise a support 1 to a molding machine frame 8 by a first elevation driver 36 in a state in which the molding 4 after blow molding is adhered to the air blowing nozzle 5, and driving to raise a movable member 24 to the support 1 by a second elevation driver 37.例文帳に追加

金型６を型開きした後、ブロー成形後の成形品４をエアー吹込ノズル５に付着させた状態で、第１昇降駆動装置３６によつて支持部１を成形機フレーム８に対して上昇駆動させると共に、第２昇降駆動装置３７によつて可動部材２４を支持部１に対して上昇駆動させる。 - 特許庁

A method for manufacturing a terminal structure of an electric cell or a capacitor comprises the steps of inserting a terminal 2 into a resin cover 3, and making a hole 4 in an inner face of a terminal 2 by using a punch 8 to press the terminal outwardly in a radial direction, thereby increasing the facing pressure between flange 5 and surface seal, and thus the contact force.例文帳に追加

ターミナル２を樹脂カバー３にインサート成形した後、ターミナル２の内面の穴４からポンチ８を打ち込むことにより、径方向外側に向かって加圧するようにして、フランジ部５と界面シール部７の面圧を高め、密着力を向上させた電池、キャパシタの端子構造の製造方法である。 - 特許庁

Partial treads 11 vertically dividing the riser size of the stairs A in equal parts are partially provided on both ends in treads 2 of the stairs A to generally go up and down the intermediate standard treads 10 and, at the same time, the physically handicapped person can go up and down the stairs A at 1/2 of uneven steps through the partial treads 11 and standard treads 10 by holding handrails 5.例文帳に追加

階段Ａの踏板２における両端部に階段Ａの蹴込み寸法を上下に等分する部分踏面１１を部分的に設置することによって，中間の基準踏面１０で一般の昇降を行なうとともに，身体の不自由な人が手摺５に掴まって部分踏面１１と基準踏面１０とによって，１／２の段差で階段Ａの昇降を行な得るようにする。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

The fermentation treatment includes the steps of: supplying the objective substance to fermentation tanks 5, 6 to reduce the volume by fermentation; taking out the treated substance remaining in the fermentation tank 6 after the fermentation treatment from the tank 6; and adding new organic waste in an amount substantially corresponding to the reduced volume by the fermentation treatment to the whole taken out treated substance to prepare the objective substance to be supplied to the fermentation tank.例文帳に追加

処理対象物を発酵槽５，６内に供給して発酵処理により減量化するステップと、発酵処理後、発酵槽６内に残留した処理済物を発酵槽６から取り出すステップと、取り出した処理済物の全量に、発酵処理減量分に実質的に相当する量の新規有機性廃棄物を追加し、発酵槽内に供給する処理対象物を得るステップとを含む発酵処理とする。 - 特許庁

This method for producing an RNA-DNA conjugate comprises the steps of (1) annealing a single-stranded RNA and a single-stranded DNA or a derivative thereof having sequences complementary to each other and (2) treating the annealed product with an RNA ligase to link the 3'-terminal of the single-stranded RNA and the 5'-terminal of the single-stranded DNA or the derivative thereof with each other.例文帳に追加

（１）互いに相補的な配列を有する一本鎖ＲＮＡと一本鎖ＤＮＡ又はその誘導体とをアニーリングさせる工程；及び（２）アニーリング産物をＲＮＡリガーゼで処理して、一本鎖ＲＮＡの３’末端と一本鎖ＤＮＡ又はその誘導体の５’末端とを連結する工程：を含むＲＮＡ−ＤＮＡ結合体の製造方法。 - 特許庁

ECU 5 holds the intake valves 3 and exhaust valves 4 of the cylinders CYL in the closing and opening states, respectively (steps 6 and 7), by controlling the energizing condition in four electromagnets 2a, when it is detected by the crank angle sensor 16, so that the piston is in an exhaust stroke position (step 3), after the input of stop request signal in each cylinder CYL.例文帳に追加

ＥＣＵ５は、各気筒ＣＹＬについて、停止要求信号の入力以降に、クランク角センサ１６によりピストンが排気行程位置になったことが検出されたとき（ステップ３）に、４つの電磁石２ａへの通電状態を制御することにより、当該気筒ＣＹＬの吸気弁３を閉鎖状態に保持するとともに排気弁４を開放状態に保持する（ステップ６，７）。 - 特許庁

Ground terminals 9 are installed every step of a terminal line, the ground terminals 9 in each step are connected with a connecting terminal 10 extending over terminal lines of plural steps in the crossing direction to the terminal line, and each ground terminal 9 can be connected to a ground circuit on a circuit board side for mounting an insulating housing 5 through the connecting terminal 10.例文帳に追加

グランド端子９が端子列７の各段毎に設けられていると共に、各段のグランド端子９が、端子列７と交差する方向で複数段の端子列７に亘って延びる接続用端子１０で接続され、それぞれのグランド端子９が、接続用端子１０を介して、絶縁ハウジング５を搭載する回路基板側のグランド回路に接続可能とされている。 - 特許庁

The method for manufacturing the catalyst for cleaning exhaust gas comprises the steps of: producing the noble metal particle 3 and the involving particle group 7 consisting of the plurality of involving particles 5 for surrounding the periphery of the noble metal particle 3 by using a method for vaporizing in a gas; and depositing the noble metal particle 3 surrounded by the involving particle group 7 on the base material 9.例文帳に追加

また、貴金属粒子３及び該貴金属粒子３の周囲を取り囲む複数の内包粒子５からなる内包粒子群７を、ガス中蒸発法を用いて生成する工程と、前記内包粒子群７で取り囲まれた貴金属粒子３を基材９に担持する工程とを含んでなる排気ガス浄化用触媒の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal 3 such as silicon by electrolytically reducing the metallic oxide powder 2 such as silicon oxide powder comprises the steps of: suspending the metallic oxide powder 2 in the molten salt 5 of calcium chloride, any other chloride, fluoride or a mixture consisting of two or more of the compounds; and reducing the metallic oxide powder 2 on the surface of a cathode 1.例文帳に追加

ケイ素酸化物粉末等の金属酸化物粉末２の電解還元によるシリコン等の金属３の製造方法であって、該金属酸化物粉末２を塩化カルシウムや他の塩化物、フッ化物またはこれらの２種以上からなる混合物である溶融塩５中に懸濁させ陰極１表面で還元することを特徴とする製造方法である。 - 特許庁

This passenger conveying device comprises a transportation part provided with a plurality of endlessly connected moving steps 2, handrail parts 11 provided with panels 3 installed in the both sides of the transportation part and moving handrails 4 moving along end parts of the panels 3 through a guard rail 5, and a display device 8 mounted on the side of the panel 3 opposite to the transportation part.例文帳に追加

無端状に連結された複数の移動するステップ２を有する輸送部と、この輸送部の両側に設置されたパネル３とガードレール５を介してパネル３の端部に沿って移動する移動手摺り４とを具備した手摺り部１１と、から構成された乗客輸送装置であって、この輸送部と反対側のパネル３の側面に表示装置８を装着した。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor memory device comprises steps of: providing a source connecting electrode 8 for connecting trench capacitors 3, 4, 5, 6 and 7 provided in trench grooves 2 in a semiconductor substrate 1 to data transfer transistors 11, 12, 13, 14 and 16 provided on the substrate, and transferring the data of the capacitors via the data transfer transistors.例文帳に追加

半導体基板１中のトレンチ溝２内に設けられたトレンチキャパシタ３、４、５、６、７と、半導体基板上に設けられたデータ転送トランジスタ１１、１２、１３、１４、１６との間を接続するソース接続電極８が設けられて、トレンチキャパシタのデータがデータ転送トランジスタを介して行われる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises steps of forming the body 1 of flexible resin sheets 2 and 3, providing the filling port means 8 and the breather means 9, mounting the first filter member 10 and the second filter member 11 respectively, partially partitioning the body 1 at a plurality of portions and forming the plurality of containers 6 including the partially communicating housings 5.例文帳に追加

製造方法、可撓性樹脂シート２，３で本体１を形成し、充填口手段８と通気口手段９を設け、それぞれ第一のフィルタ部材１０、第二のフィルタ部材１１を装着し、本体１を複数の箇所で部分的に仕切り、部分的に連通した収容室５を備えた複数の容器６を形成した。 - 特許庁

The method for patterning on the surface of the rock wool board comprises the steps of forming the stripe-like grooves 2 on the surface of the rock wool board 1 by cutting, and thereafter continuously pressing the stripe-like rugged part by the patterning roll 5 having the pins 4 of different diameters and protruding lengths and implanted thereto to form the rugged pattern 6.例文帳に追加

ロックウール基板１の表面にストライプ状の凹溝２を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部に直径、突出長さの異なるピン４を植設した模様付けロール５で連続的に押圧して凹凸模様６を形成することを特徴とするロックウールボードの表面模様付け方法にある。 - 特許庁

This method for manufacturing a metal container 1 printed with a foamable ink comprises the steps to print a release-proof ground ink or a varnish 2 on the surface of the metal container 1, print a pattern with an ink or a varnish 4 containing a foamable microcapsule 3 and print a top coat layer 5 on the in or the varnish 4 to expand the foamable microcapsule 3.例文帳に追加

金属容器１の表面に、剥離防止のための下地インキ又はニス２を印刷し、次に、発泡性マイクロカプセル３を含有するインキ又はニス４で模様を印刷し、次に、このインキ又はニス４の上に、トップコート層５を形成した後、発泡性マイクロカプセル３を発泡させることを特徴とする発泡性インキを印刷した金属容器の製造方法である。 - 特許庁

The motor 5 can rotate the rotating part 51 at a high speed by the first armature 523 and also can realize improvement in the positional accuracy of the stop position of the rotating part 51, in simple constitution, by detecting that the rotating part 51 has stopped at a specified stop position by the detector, while driving the rotating part 51 by steps by the second armature 524.例文帳に追加

モータ５では、第１電機子５２３により回転部５１を高速にて回転することができるとともに、第２電機子５２４により回転部５１をステップ駆動しつつ検出部により回転部５１が所定の停止位置に位置したことを検出することにより、回転部５１の停止位置の位置精度向上を簡素な構成にて実現することができる。 - 特許庁

In print processing of row data from a fiscal control CPU 3, a printer control CPU 5 of a fiscal printer 1 prints a character portion C by alternately repeating predetermined times line printing of line data D for one line and feeding of receipt sheets for a predetermined paper feeding amount (steps ST2-ST6).例文帳に追加

フィスカルプリンター１のプリンター制御用ＣＰＵ５は、フィスカル制御用ＣＰＵ３からの行データの印刷処理において、１ライン分のラインデータＤのライン印刷と、所定の紙送り量のレシート用紙の紙送りを交互に所定回数繰り返してキャラクター部分Ｃを印刷する（ステップＳＴ２〜ＳＴ６）。 - 特許庁

This method comprises the steps of kneading an oily phosphazene compound having melting point of 18°C or higher at a temperature lower than the melting point of the phosphazene compound by 5°C or more and capable of keeping the oily state, cooling to solidify the kneaded oily material without applying shear stress, and pulverizing the solidified material.例文帳に追加

本発明の方法は、１８℃以上の融点を有するホスファゼン化合物の油状物を、該ホスファゼン化合物の融点よりも５℃以上低く且つその油状状態を保持し得る温度下で捏和し、次いで捏和された油状物を剪断力を掛けることなく冷却固化した後、粉砕することを特徴とするホスファゼン化合物の粉末化方法である。 - 特許庁

When stepwise dimming control is performed with the dimmer, if the difference between the present dimming rate PL and the closest 50% dimming rate level of dimming down steps is less than a predetermined value of difference between dimming rates, for example 5%, the dimmer is adjusted to the next rate level of 25%.例文帳に追加

調光装置が段階調光制御を行なう際、現在の調光率ＰＬと調光ダウンする方向で一番近い段階調光率レベル５０パーセントとの差が、予め決められた設定調光率差（例えば５パーセント）未満の場合は一段階飛ばした段階調光率レベル２５パーセントに調光制御する。 - 特許庁

The method includes steps of: (1) forming a black matrix 2 having an aperture on a transparent substrate 1; (2) forming a colored portion by depositing color ink 3 by an ink jet system on the aperture of the black matrix; and (3) simultaneously curing and flattening the color portion 5 by heat press process.例文帳に追加

１）透明基板１上に開口部を有するブラックマトリクス２を形成する工程と、２）上記ブラックマトリクスの開口部にインクジェット方式により着色インク３を付与して着色部を形成する工程と、３）熱プレス処理により上記着色部５の硬化と平坦化を同時に行う工程を少なくとも有すること。 - 特許庁

The safety device 5 formed of a bottom part 5A fixedly installed on both guide frames 1D, 2D of an adjacent part X between the adjacently installed passenger conveyors and a perpendicular part 5B fixed on the bottom part 5A standing upright on a central part between handrails 1B, 2B of the adjacent part X is arranged along a moving direction of steps 1, 2.例文帳に追加

隣設型乗客コンベア１および２の隣接部Ｘの案内フレーム１Ｄ，２Ｄ同士に固設される底辺部５Ａと、この底辺部５Ａに固設されてその隣接部Ｘのハンドレール１Ｂ，２Ｂの中央部に直立する垂辺部５Ｂとで形成される安全装置５をステップ１，２の移動方向に沿って配置した。 - 特許庁

Rated to non-stationary state from the start of producing operation of the semi-solidified metal to the stationary state of the continuous production, to a cooling condition of the plurality of the cooling processing stations C to G and a heating condition of the heating processing state H, a plurality of producing control value patterns in shifting steps 1 to 5, are input and set.例文帳に追加

半凝固金属の生成運転開始から連続生成の定常状態までの非定状状態に関して、複数の冷却作業ステーションＣ乃至Ｇのエアー冷却条件と加熱作業ステーションＨの加熱条件に対し、移行段階１乃至５の複数の生成制御値パターンを入力設定する。 - 特許庁

The chemical mechanical polishing method has twice or more polishing steps of polishing the same conductor film on the same surface plate using polishing liquid, and, between a first polishing step and a last polishing step, has a cooling step of cooling the surface plate so that the temperature of the surface plate becomes -5 to -80°C just after the end of the polishing step most recently performed.例文帳に追加

同一の導体膜を同一の定盤上で研磨液を用いて研磨する研磨工程を２回以上有し、且つ、最初の研磨工程と最後の研磨工程との間に、直前に実施した研磨工程の終了直後の定盤の温度に対して−５℃〜−８０℃となるように定盤を冷却する冷却工程を有する、化学的機械的研磨方法。 - 特許庁

This dyeing method for coffee-color dyeing comprises a dyeing liquid production step 3, a dyeing step 4, a mordanting step 5 and washing and drying steps 6 and 7; wherein the step 3 comprises boiling bagged coffee powder, an object to be dyed consists of cellulose fiber such as cotton, hemp or silk, and the object is treated at a pretreatment step 1 prior to undergoing the dyeing step 4.例文帳に追加

染液製造工程３と染色工程４と媒染工程５と洗浄・乾燥工程６，７とからなる染色方法において、該染液製造工程３が袋詰めしたコーヒー粉末を煮沸するものからなり、染色する被染物が綿・麻・シルク等からなるセルローズ繊維であって、染色工程４前に被染物を前処理工程１で処理するようにしたコーヒー染めの染色方法を構成するものである。 - 特許庁

This method includes the steps of: dividing each main gear iron 2 and yokes 3 and 4; dividing each main gear iron 2 into at least two by dividing a divided surface of the main gear iron 2 in its extending direction; separately packing each of the divided main gear iron cores 5; and transporting it to the installation place in a state of holding the metal plate in an almost horizontal state.例文帳に追加

当該方法は、各主脚鉄心２とヨーク３、４とを分割するとともに、主脚鉄心２の延びる方向の分割面で各主脚鉄心２を少なくとも２分割し、分割された主脚鉄心５をそれぞれ別個に梱包して、金属板がほぼ水平な状態を保持して据え付け場所に輸送する。 - 特許庁

A method for selecting the channel of the digital broadcasting comprises the steps of scanning the oscillation frequency of a local oscillator 23 provided in an analog tuner 5 in a range from the lowest receiving frequency to the highest receiving frequency in a receiving environment, and obtaining an approximate carrier frequency of a carrier existing in the frequency range thus scanned from an AFT frequency to be detected by an analog AFT detector 8.例文帳に追加

アナログ用チューナ５に設けられている局部発振器２３の発振周波数を、その受信環境における、最低受信周波数から最高受信周波数の範囲内においてスキャンを行い、アナログＡＦＴ検波器８において検波されるＡＦＴ検波電圧から、スキャンを行った周波数範囲内に存在するキャリアの大まかなキャリア周波数を得るようにする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a recess 5 or a protrusion on the upper surface of a semiconductor substrate 1, then performing a homoepitaxy on the upper surface of the substrate 1 to form a homoepitaxial film 4 and a defect layer 6, and measuring the thickness of the film 4 based on the measurement of the length dimension of the layer 6 in the off direction.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板１の上面に凹部５または凸部を形成した後、半導体基板１の上面にホモエピタキシーを実行してホモエピタキシャル膜４と欠陥層６とを形成し、そして、欠陥層６のオフ方向の長さ寸法を測定することに基づいてホモエピタキシャル膜４の膜厚を測定するように構成したものである。 - 特許庁

The method further comprises the steps of snapping the locking bar 21 of the member 8 in a locking groove 29 via the resin elasticity of a locking guide 2C, simultaneously snapping the locking bar 13 of the member 7 in a locking groove 4 via a locking guide 4, and snapping the pins 23, 24 of the member 8 in a locking groove 5 via a locking guide 5A.例文帳に追加

また、リンク部材８の係止棒２１を係止案内部２７Ｃの樹脂弾性を介して係止溝２９内にスナップインし、これと同時に、リンク部材７の係止棒１３を係止案内部４Ａを介して係止溝４内にスナップインするとともに、リンク部材８の各係止ピン２３、２４を係止案内部５Ａを介して係止溝５内にスナップインする。 - 特許庁

Moreover, the wiring patterns 2 are formed at least at such locations as to correspond to Au bumps 5 of the device chip 3, and steps are formed in the wiring board 1 below the device chip 3 by the end parts of the wiring patterns 2.例文帳に追加

機能面４と配線基板１との間に空隙６を形成するため、配線パターン２は、機能面領域４と対向する対向領域の外側から、当該対向領域に延在することのないように形成され、かつ、少なくともデバイスチップ３のＡｕバンプ５に対応した位置に形成され、配線パターン２の端部によってデバイスチップ３の下部に段部が形成されている。 - 特許庁

The method includes the following steps of: selecting a user group 5; selecting sequences from a chosen audiovisual program content feed, by identifying them using markers; extracting the sequences using the markers for the chosen audiovisual program content feed; and storing the extracted sequences in a database 9 accessible by the users of the group 5.例文帳に追加

本発明の方法は、以下のステップ、ユーザグループ５が選択されるステップと、選択されたオーディオビジュアルプログラムコンテンツフィードからシーケンスが、マーカを使用してそれらを特定することによって、選択されるステップと、選択されたオーディオビジュアルプログラムコンテンツフィードに対してマーケットを使用してシーケンスが抽出されるステップと、前記グループ５のユーザがアクセス可能なデータベース９に抽出されたシーケンスが保存されるステップと、を含む。 - 特許庁

The procedure for the landing examination consists of three steps: landing examination by an immigration inspector, hearing for landing by a special inquiry officer, and decision by the Minister of Justice. The second and third step, namely the hearing for landing and the decision of the Minister of Justice, are jointly called the “judgment for landing”. Any foreign national who is found not to meet the conditions for landing in Japan in the landing examination conducted by an immigration inspector will be handed over to a special inquiry officer, who will conduct a hearing for landing (Article 7, Paragraph (4) and Article 9, Paragraph (5) of the Immigration Control Act) (Note 1). 例文帳に追加

上陸審査手続は入国審査官による上陸の審査，特別審理官による口頭審理及び法務大臣による裁決という，いわゆる三審制の仕組みとなっているが，そのうちの二審と三審，すなわち上陸口頭審理から法務大臣の裁決までの手続を上陸審判という。個人識別情報を提供しない外国人及び入国審査官による上陸審査において上陸を許可されなかった外国人は，口頭審理を行うため二審を担当する特別審理官に引き渡されることとなる（入管法第７条第４項及び第９条第５項） - 特許庁

The super male globefishes 11 having YY sex chromosomes can be obtained through the steps of radiation exposure for genetically inactivating eggs by applying a radiation dose 3 of 50 to 800 Gy to the unfertilized eggs 1 of the globefish, fertilizing the genetically inactivated unfertilized eggs 4 with sperm 6 of a normal male globefish 5, and giving heat shock 8 to haploid embryos 7 to block the second segmentation, and performing the polyploidization of the chromosome.例文帳に追加

フグの未受精卵１に５０〜８００Ｇｙの放射線３を照射することにより卵を遺伝的に不活性化する放射線照射工程と、遺伝的不活性化未受精卵４に正常な雄フグ５の精子６を授精させる授精工程と、半数体胚７にヒートショック８を与え、第二卵割を阻止させて染色体を倍数化するヒートショック工程と、を経て性染色体がＹＹからなる超雄フグ１１を得る。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor package including a sealing resin layer embedding a semiconductor chip therein includes the steps of arranging a semiconductor chip 4 with a pad forming surface 4a faced upward, forming a sealing resin layer 6 on a supporting board 2 to cover the semiconductor chip 4, and polishing the upper part of the sealing resin layer 6 until the upper surface 5a of a pad 5 of the semiconductor chip 4 is exposed.例文帳に追加

この半導体パッケージの製造方法は、半導体チップが埋設された封止樹脂層を有する半導体パッケージの製造方法であって、支持基板２上に、パッド形成面４ａを上向きにして半導体チップ４を配置する工程と、前記半導体チップ４が覆われるように、前記支持基板２上に封止樹脂層６を形成する工程と、前記半導体チップ４のパッド５の上面５ａが表出するまで、前記封止樹脂層６の上部を研磨する工程と、を備える。 - 特許庁