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BACK BEAMの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 467



例文

Since the state of the laser beam within the object to be machined consisting of a transparent medium such as glass is measured in the light state measuring part and is fed back to the optical control part, laser machining is performed while maintaining the optimal state at a machining point within the object to be machined.例文帳に追加

ガラスのような透明媒質からなる加工対象の内部におけるレーザー光の状態が、光状態計測部で計測されて光制御部にフィードバックされるので、加工対象の内部の加工ポイントにおいて最適状態を維持しながらレーザー加工をすることができる。 - 特許庁

A position relation between an external shape and the crystal orientation of a specimen is clarified by comparative measurement using a reference sample having a clear position relation between the external shape and the crystal orientation on the same sample coordinate, by using a back-scattered electron beam diffraction pattern method (EBSP method).例文帳に追加

後方散乱電子線回折パターン法(EBSP法)を用いて、同じ試料座標上で外形形状と結晶方位の位置関係が明確な基準試料を用いて比較測定する事で、被検体の外形形状と結晶方位の位置関係を明確にする。 - 特許庁

Next, these first and second substrates are stuck so that the elements arranged on the first substrate and the layer of adhesives provided on the second substrate are confronted and a laser beam is irradiated only on an element from which the releasing agent is eliminated from the back of the first substrate.例文帳に追加

次に、第1の基板上に配列された素子と第2の基板上に設けられた接着剤層とが対向するように、これら第1の基板と第2の基板とを貼り合わせ、第1の基板の裏面側から離型剤を除去した素子にのみレーザを照射する。 - 特許庁

The mirror 33 is vibrated back and forth with the torsion beam 32 as the torsion rotation axis, and the cross sectional shape of the mirror 33 is changed corresponding to a distance from the torsion rotation axis so as to reduce the second moment of the area of the mirror 33 parallel to the torsion rotation axis as it is separated from the torsion rotation axis.例文帳に追加

ミラー33は捻り梁32を捻り回転軸として往復振動するが、捻り回転軸と平行なミラー33の断面2次モーメントが、捻り回転軸から離れるに従って減少するように、ミラー33の断面形状を捻り回転軸からの距離に応じて変化させる。 - 特許庁

例文

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板9aの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン19〜22を形成する。 - 特許庁


例文

A front beam 22 is provided with a flat part 22a having the thick direction in the vertical direction of a cabin, and reinforcement rib parts 22b, 22c, and is formed by a bent sheet metal having a length L in the front-to- back direction of the cabin, larger than a length H in the vertical direction of the cabin.例文帳に追加

前方ビーム22を、肉厚方向がキャビン上下向きの平板部22aと、補強リブ部22b,22cとを備えるように、かつ、キャビン前後方向での長さLがキャビン上下方向での長さHより大であるように形成した屈曲板金によって作成してある。 - 特許庁

In this information recording method, in the case of recording information on a recording medium by converting a energy beam into multiple pulses, edge positions of a head pulse and a last pulse are controlled by referring to a table from back and forth mark lengths and space lengths and the length of the necessary long mark is corrected before updating the table.例文帳に追加

エネルギービームをマルチパルス化して記録媒体に情報を記録する際、前後のマーク長とスペース長からテーブルを参照して、先頭パルスと最終パルスのエッジ位置を制御する記録方法で、テーブル更新前に必要な長マークの長さ補正方法。 - 特許庁

The electrical resistance and capacitance of the surface of the wafer 9 are determined so as to agree with a check image, taking the current value and irradiation energy of the charged particle beam, an electric field, and the emission efficiencies of secondary electrons and back-scattered electrons on the surface of the wafer 9 into consideration.例文帳に追加

一方で、荷電粒子ビームの電流値および照射エネルギー、被検査基板表面での電場、二次電子および後方散乱電子の放出効率等を考慮し、検査画像と一致させるように電気抵抗や電気容量を決定する。 - 特許庁

The mask blanks for electron beam lithography are manufactured as intermediate products by forming a protective coat 14 and a hard mask 15 on the front and back sides of the SOI substrate 10 (Fig. 1 (A)), respectively (process for simultaneously forming a protective film and a hard mask in Fig. 1 (B)), followed by subjecting the silicon base layer 13 and a BOX layer 12 to etching.例文帳に追加

SOI基板10(図1(A))の表裏面に保護膜14およびハードマスク15を形成した後(保護膜・ハードマスク同時形成工程 図1(B))、シリコンベース層13およびBOX層12をエッチングして、中間製品としての電子ビーム描画用マスクブランクスを製造する。 - 特許庁

例文

In an AlGaInN-based laser wafer manufactured on a sapphire substrate, the substrate is irradiated with a pulse laser beam from the back side, and then is applied to an AlGaInN-based crystal section other than the laser resonator section of a surface for forming a separation groove.例文帳に追加

サファイア基板上に作製したAlGaInN系レーザウエハにおいて、パルスレーザビームを基板裏面から照射した後、表面のレーザ共振器部分を除くAlGaInN系結晶部に照射して分離溝を形成する。 - 特許庁

例文

Even if a moving frame 4e farthest from the fixed frame 3 is pressed, the link 7 of the moving frame 4a, close to the fixed frame 3, is the first to undergo sequential deformation; and the sheet 5 is placed on a sheet supporting beam 12 from the side of the fixed frame 3 and folded back in sequence, so as to be prevented from hanging down into the garage.例文帳に追加

固定フレーム3から最遠の移動フレーム4eを押圧する場合にも、固定フレーム3に近接する移動フレーム4aのリンク7から順次変形し、シート5は固定フレーム3側からシート支持梁12上に載置され順次折返されるので車庫内には垂れ下がらない。 - 特許庁

The method for producing the three-dimensional object based on the original three-dimensional object in such a way that the original object is scanned with a light beam from a light source, the light reflected back from the original object is detected and the original object data are produced, is characterized in that the scanning optical system (7, 8 and 9) is confocally operated.例文帳に追加

原物体が光源からの光線で走査され、該原物体から逆戻りする光が検出され、原物体データが生成する形式の、三次元の原物体からの三次元の物体の生成方法は、走査光学系(7、8、9)が、共焦点的(コンフォーカル)に作動することを特徴とする。 - 特許庁

In the correction processing (step S2), a sensor reach time from a time point when a write time passes after the lapse of a return side standby time Tw2 since a first detection signal is outputted while light beams are scanned back and forth to a time point when the sensor detects the return light beam and outputs a second detection signal is obtained.例文帳に追加

この補正処理(ステップS2)では、光ビームを往復走査させながら第1検知信号が出力されてから復路側待機時間Tw2が経過し、さらに書込時間が経過した時点から復路光ビームをセンサが検知して第2検知信号が出力されるまでのセンサ到達時間が求められる。 - 特許庁

The lance 28 is formed by notching a separation wall 22 separating the upper and lower cavities 21 and a bottom wall 23 of the housing 20, and has a protrusion 30 part for locking, enabled to lock in a beam-shaped arm part 29 held at front and back ends, and in a locking part 15 of the terminal fitting 10, are formed.例文帳に追加

ランス28は、上下のキャビティ21を仕切る仕切り壁22や、ハウジング20の底壁23を切欠することで形成され、前後両端部が支持される両持ち梁状のアーム部29と、端子金具10の被係止部15に係止可能な係止突部30とを備えている。 - 特許庁

In this fitting device 9 for fitting an extrusion molded cement board 1 to a through angle 6 fixed to a beam 7 of a building by the stepped fittings 10, a projection 13 is provided on the back of the upper part of the stepped fittings 10, and a fitting hole 26A fitted to the projection 13 is formed on a contact plate 11.例文帳に追加

建造物の梁7に固定された通しアングル6に押出成形セメント板1を段付き取付金具10等により取り付ける取付装置9であって、段付き取付金具10の上部背面に突部13が設けられ、該突部13に嵌まる嵌合孔26Aが当て板11に形成されている。 - 特許庁

PPS variation (53) along a scan axis (17) is found by shining (20, 20', 20") a light beam (22, 22', 22") from pen carriage to (d_1) print-medium position (15) and back (d_1) to detector (21, 21'), and applying a pathlength/ intensity correlation (44).例文帳に追加

走査軸(17)に沿ったPPS変動(53)が、ペン・キャリッジから印刷媒体位置(15)に達し(d_1)、検出器(21、21´)に戻る(d_1)光ビーム(22、22´、22″)を照射し(20、20´、20″)、経路長/強度相関(44)を施すことによって検出される。 - 特許庁

A light reflected back from the object is vertically reflected by the reflector 16 and received by the distance meter 11, and an arithmetic and control unit 13 computes the horizontal distance from the object, based on the propagation time of the light beam.例文帳に追加

そして被測定対象物に反射して戻ってくる水平方向の反射光を反射体16によって垂直方向に反射させて水平距離計11に受光させ、演算制御装置13によって光波の伝播時間から被測定対象物までの水平距離を算出させる。 - 特許庁

To provide a laser beam working method and working equipment in which a state of a working point is grasped in real time when carrying out laser annealing and a stable working can be always carried out by feeding back its result to the working equipment, to provide a display apparatus manufacturing method using it and a display apparatus.例文帳に追加

レーザアニールを行う際に、リアルタイムで加工点の状態を把握し、その結果を加工装置にフィードバックにすることによって常に安定した加工をおこなうことのできるレーザ加工方法と加工装置、および、それを用いた表示装置の製造方法と表示装置を提供すること。 - 特許庁

A flat type electron beam-exciting display has the air-tight structure resistance to the atmospheric pressure in which the front face plate 1 and the back face plate 2 are air-tightly jointed to each other and a plurality of glass spacers 4 are inserted between the front face plate 1 and the rear face plate as an atmospheric pressure-supporting material.例文帳に追加

フラット型電子線励起ディスプレイは、支持枠3を介して前面板1と背面板2が気密的に接合された気密の耐大気圧構造を有しており、前面板1と背面板2との間には大気圧支持部材として複数のガラススペーサ4が挿入されている。 - 特許庁

The optical path OP of the laser beam after turned back from the final stage reflection mirror 17b passes between planes S1 and S2 which are substantially perpendicular to the rotation axis 13a of the deflector 13 and define the outermost part of the housing 11, and reaches the photoreceptor drum 9.例文帳に追加

最終段の反射ミラー17bで折り返された後の光路OPは、偏向器13の回転軸13aとほぼ直交し、かつ、ハウジング11の最外部を規定する平面S1,S2の間を通過して感光体ドラム9に至るように設定されている。 - 特許庁

The reflection member 124 for reflecting a laser beam is supported in an interposing state where its posture is freely adjusted by the front surface pressing members 230 and 231 and back surface supporting members 225 and 226, and measures to prevent the stray light are taken for the surfaces of the members 230 and 231.例文帳に追加

レーザ光を反射するための反射部材124が、前面押さえ部材230,231と後面支持部材225,226とによって姿勢調整自在な挟持状態に支持され、かつ、前記前面押さえ部材230,231の表面には、迷光防止措置を施している。 - 特許庁

This shock absorbing member is separated, by a prescribed amount, from a mounting wall portion 22 abutting against a bumper beam 14, and includes an abutting wall portion 24 receiving a shock from the leg portion 40 of the pedestrian and a supporting wall portion 26 extending from the mounting wall portion 22 and partially supporting the back side of the abutting wall portion 24.例文帳に追加

衝撃吸収部材20は、バンパービーム14に当接する取付壁部22から所要量だけ離間し、衝突時に歩行者脚部40からの衝撃を受ける当接壁部24と、取付壁部22から延出して当接壁部24の裏側を部分的に支持する支持壁部26とを有する。 - 特許庁

After the thin-film device 140 is formed, the thin-film device 140 is joined to a primary transfer destination 180 via a second isolation layer 160 composed of water soluble adhesive, organic solvent soluble adhesive, or adhesive that has a stripping action through heating or ultraviolet irradiation, and then, a laser beam is projected from the back of the substrate.例文帳に追加

薄膜デバイス140の形成後、水溶性、有機溶剤溶融性、あるいは加熱または紫外線照射により剥離作用を有する接着剤からなる第2分離層160を介して薄膜デバイス140を一次転写体180に接合した後に、基板側からレーザー光を照射する。 - 特許庁

In processes for sorting the power of Brillouin scattered light measured on each of measurement points along a sensing optical fiber, by using the frequency of light as a variable, the power of Brillouin back scattered light is measured by using triangular incident pulse beam (first process).例文帳に追加

センシング用光ファイバに沿った各計測点について、光周波数を変数として計測されたブリルアン散乱光のパワーをソートする工程において、ブリルアン後方散乱光のパワーは、三角形入射パルス光を用いて計測される(第1工程)。 - 特許庁

Thus, the welding process to form the excess weld metal at the back side of the base metal by an arc heat reservoir or a laser beam is not required, and the welding process will be the first process of welding the straight zone 14 and the second process of welding the V type part.例文帳に追加

このため、母材8の裏面をアーク熱源又はレーザにより余盛を形成する工程は不要となり、溶接工程としては、ストレート部14を溶接する第1工程と、V型部を溶接する第2工程との2つの工程となる。 - 特許庁

The laser beam 64 from a laser oscillator 62 is applied to a thin film for transparent electrode formed on a back surface of a front substrate by a specific method while being shaped by an opening 72 of a mask 66.例文帳に追加

透明電極18は、前面ガラス基板16上に透明電極用薄膜44を設け、レーザビーム64を薄膜44上でX方向に連続的にかつY方向に所定の間隔をあけて照射することでレーザビーム64のライン状照射領域間に薄膜を残して形成する。 - 特許庁

A first illumination means 30 having a linear illuminating light generation part 31 and a second illumination means 20 having a surface illuminating light generation part 21 which are arranged to be spaced at a predetermined interval are disposed in a back surface direction opposite to an observing direction of a display image relative to a light beam transmission type image display means.例文帳に追加

光線透過型の画像表示手段に対して、表示画像を観察する方向とは逆の裏面方向に、所定間隔離間して配置された線状照明光生成部31を有する第1照明手段30と、面状照明光生成部21を有する第2照明手段20が配設される。 - 特許庁

To provide an optical diffusion sheet excellently keeping low cost owing to high scratch preventability of its surface, and further having a satisfactory directive optical diffusion function, light beam transmissivity and thin film property, and a back light unit which has improved performance such as luminance, realizes the reduction of cost and is made thin and light in weight.例文帳に追加

表面の高いキズ付き防止性による良好な低コスト性を有し、加えて良好な方向性光拡散機能、光線透過性及び薄膜性を有する光拡散シート、並びに輝度等の性能や低価格化及び薄型軽量化が促進されるバックライトユニットの提供を目的とする。 - 特許庁

To propose a detection system, particularly for particle beam apparatus, that has made the detection system available even when differences between primary, secondary and back-scattered particles are very small and that can preferentially detect secondary particles emitted from an object or particles backwardly scattered by the object.例文帳に追加

1次粒子、2次粒子および逆散乱粒子のエネルギの差が極く僅かであっても、検知系を使用できるようにした、対象から放射された2次粒子または対象で逆散乱された粒子を選択的に検知できる、特に粒子線装置のための、検知系を提案する。 - 特許庁

If the bodies 5 are turned on while a person looks at the plate 3 from an arrow 17 direction, a wedge shaped light beam image 15, which extends toward the back from a center section 3g of the plate 3 in a slanted manner, is observed.例文帳に追加

矢印17方向からこのプリズム板3を視認している状態で、各発光体5が点灯されると、各発光体5が発光する照明光11によって、プリズム板3の中心部3gから斜め後方に末広がり状に延びる楔形形状の光線像15が視認されるようになっている。 - 特許庁

The attaching structure has a synthetic fiber cloth 12 formed out of a thermoplastic synthetic resin, a thermoplastic synthetic resin tape 14 adhering to the back side surface of the cloth 12, and a line-shaped cut part 16 formed by the penetration of a laser beam through the cloth 12 and the synthetic resin tape 14.例文帳に追加

熱可塑性の合成樹脂で形成された化繊の生地12と、生地12の裏面に密着された熱可塑性の合成樹脂テープ14と、生地12と合成樹脂テープ14をレーザー光が貫通して形成された線状の切断部16とを備える。 - 特許庁

The shadow mask is formed by arranging through holes 2a, 2b having back side hole parts 4a, 4b formed at the side that electron beam comes in, and front side hole parts 3a, 3b formed at the side that electron beam goes out, and forms beam spots with prescribed shape on an irradiated surface.例文帳に追加

電子ビームが入射する側の裏側孔部4a、4bと、電子ビームが出射する側の表側孔部3a、3bとから形成される貫通孔2a、2bを配列してなり、被照射面に所定形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、そのシャドウマスクの周辺部に形成された表側孔部3bを、シャドウマスクの中心から延びる仮想線と直交する方向Pの開孔幅Tがシャドウマスクの中心に形成された表側孔部3aの開孔幅Sよりも小さく形成されてなる略楕円形状とすることによって、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the electrophotographic device, at least a multi-beam laser number n has a two or more integer times of the beam number m required for the electrophotographic device, and it is used from the front m beam of to the paper feed direction, and it is changed to the back per m beams at the time of failure occurrence.例文帳に追加

複数の発光チャネルを有し用紙搬送方向に配列されたマルチビームレーザと、前記マルチビームレーザから照射される複数のレーザビームを回転多面鏡を用いて周期的に偏光させ、被走査媒体上に同時に並行走査して静電潜像を形成させるマルチビーム走査光学系とを備えた電子写真装置において、少なくとも前記マルチビームレーザ数nは、前記電子写真装置における必要ビーム数mの2以上の整数倍を有し、用紙搬送方向に対して前方m本のビームから使用し、故障発生時にm本単位で後方に切替えることを特徴とする。 - 特許庁

This manufacturing method for the magnetic head device has a process of forming the 2nd bent part 16 by bending the load beam 10 in a direction wherein load pressure is generated and a process of forming the 1st bent part 17 by bending the load beam 10 back reversely to the direction wherein the load pressure is generated.例文帳に追加

記録媒体4の上に延びるロードビーム10と、その先端部13に取付けられるヘッド本体3とを有し、基端部11側にロードビーム10を揺動自在に固定する板ばね機能部15が設けられ、板ばね機能部15に、ヘッド本体3が作動可能なロード状態において、揺動方向に対して互いに逆向きに屈曲する屈曲部16,17を具備する磁気ヘッド装置の製造方法であって、ロードビーム10をロード圧を生じる方向に屈曲して第2の屈曲部16を形成する工程と、ロードビーム10をロード圧を生じる方向と逆側に曲げ戻して第1の屈曲部17を形成する工程と、を有する - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極1及び上部磁極2を形成した後に、下部磁極1及び上部磁極2のうち所定の記録トラック幅となる部分1A,2Aを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド10を製造する。 - 特許庁

By irradiating an intra-dam resin formed in a dam portion 12a surrounded by leads 3 adjacent to each other, a dam bar 12 and a sealing body 2 with a laser beam a plurality of times respectively from a principal surface side of the lead 3 and the back face side of the lead 3, the intra-dam resin formed on the side faces of the lead 3 or the lower part of the lead 3 is completely removed.例文帳に追加

隣り合うリード3、ダムバー12および封止体2によって囲まれたダム部12aに形成されたダム内樹脂に対し、リード3の主面側およびリード3の裏面側からそれぞれ複数回レーザ光を照射することで、リード3の側面またはリード3の下部に形成されたダム内樹脂を残さず除去する。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第1の画像と、メンブレン部裏面の第2の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

This color cathode-ray tube has a light-transmittable face plate 1 whose inside surface corresponding to an effective display surface for displaying an image is covered with a phosphor layer, a funnel 2 being joined to the back side of the face plate 1, and an electron gun 3 being placed at the rear end of the funnel 2 and emitting an electron beam against the phosphor layer.例文帳に追加

画像を表示する有効表示面に対応して内面に蛍光体層が形成された透光性のフェースプレートと、フェースプレートの背面側に接合されるファンネルと、ファンネルの後端部に配され前記蛍光体層に対して電子ビームを出射する電子銃とを備えたカラー陰極線管である。 - 特許庁

To realize a technology capable of permitting both a condition that the scanning locus of laser beams is kept within a plane-expansion of mated surfaces, and a condition that the mated surfaces on a back side is fused by irradiating an outer surface with laser beams scanning at high speed, and as a result, to attain a technology capable of shortening the time required for a laser beam welding work.例文帳に追加

合わせ面という面的な広がりの中にレーザビームの走査軌跡が収まればよいという条件と、高速で走査するレーザを外側表面に照射することでその裏面にある合わせ面が溶融されるという条件がともに許容される技術を実現し、もって、レーザ溶接作業に要する時間の短縮を可能とする技術を実現する。 - 特許庁

A PDP 1 has barrier ribs 8 on the back face plate, and that part of the barrier ribs 8 excluding its top layer 8t is made of a material white or in light color near thereto, and only the top of the barrier ribs 8 is irradiated with a laser beam so that the layer consisting of a barrier rib material is blackened.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネル1は、プラズマディスプレイパネル背面板のバリアーリブ8の頂部層8tを除く部分が白色またはそれに近い明色のバリアーリブ材料層で構成され、バリアーリブの頂部にのみレーザー光線照射により当該バリアーリブ材料構成層を黒化した層を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for setting a laser output suitable for a magneto-optical recording and playing back device constituted in a way such that signal is recorded by applying to an magneto-optical disk a magnetic field generated from a magnetic head according to recording data to be recorded while irradiating the magneto-optical disk with laser beam from an optical head.例文帳に追加

光学ヘッドから光磁気ディスクにレーザー光を照射させながら磁気ヘッドから記録する記録データ応じて発生する磁界を光磁気ディスクに印加させることによって信号を記録するように構成された光磁気ディスク記録再生装置に適したレーザー出力設定方法を提供する。 - 特許庁

The ion injection system feeds back an injected wafer characteristic data, extracts an area having deterioration tendency within the surface of a wafer 20, compensates a driving speed by an up and down mechanical driving speed controller 17 corresponding to the area and transmits to an ion injection part 2, and drives ion beam 12 to the area having deterioration tendency by changing the driving speed.例文帳に追加

注入されたウェハの特性デ−タをフィ−ドバックし、ウェハ20面内の悪化傾向のある領域を抽出し、その領域に対応する上下メカニカル駆動速度制御部17による駆動速度を補正しイオン注入部2に転送し、駆動速度を変えイオンビ−ム12を悪化傾向の領域に駆動する。 - 特許庁

Further, the scanning optical system 100 is so set that, among the laser beam reflected on the turning back mirror 205, the portion which is the farther from the center in a scanning region includes the lower second polarization component and the higher first polarization component in the scanning range of the light in the main scanning direction.例文帳に追加

また、折り返しミラー205に反射される前のレーザビームに関し、前記主走査方向での前記光線の走査範囲において当該走査範囲の中央から遠い光線ほど第2偏光成分の含有率が低く且つ第1偏光成分の含有率が高くなるように走査光学系100が設定される。 - 特許庁

In the stretch and assembly device in which a color selection electrode structure for a cathode-ray tube is assembled by stretching and fixing to a frame an aperture grille having a row of slits in which the electron beam passes, two elastic members 31 are arranged in the gap between the back face of a frame pressing unit 9 and the front face of a stretch and assembly device unit 10.例文帳に追加

電子ビームが通過するスリット列を有するアパーチャーグリルをフレームに展張し固定することにより陰極線管用の色選別電極構体を組立てる展張組立て装置において、フレーム加圧ユニット9の背面と展張組立て装置本体10の前面との間の隙間に、2つの弾性部材31を配置する。 - 特許庁

One element or a selected element in each sub array of an antenna element array transmits a pilot signal, a mobile terminal within the cover area of a base station sends back this pilot signal, and these feedback data are applied together with stored grading data and arrival direction data so that the array may generate an oriented down link beam in the direction of the mobile terminal.例文帳に追加

アンテナ素子アレイの各サブアレイの1つの素子または選択された素子がパイロット信号を送信し、このパイロット信号を基地局のカバーエリア内の移動体端末が返送し、このフィードバックデータを、記憶した重みデータ及び到達方向データと共に適用して、アレイが移動体端末の方向へ指向性ダウンリンクビームを発生できるようにする。 - 特許庁

The heat insulating plate has a bottom plate portion 3 whose width is equal to or greater than the width of the lower flange 1a of the steel beam, wall portions 4 rising upward on both sides thereof, and flange portions 5 folded back inwards from the tops of the wall portions, the heat insulating plate being entirely of an extrusion molded plate made of the incombustible material.例文帳に追加

遮熱板としては、幅寸法が鉄骨梁の下フランジ1aの幅と同等もしくはそれよりも大きい底板部3と、その両側部において上方に立ち上がる壁部4と、壁部の上部から内側に折り返すフランジ部5を有し、その全体が不燃材を素材とする押出成形板とされたものが最適である。 - 特許庁

A light emitting layer 3 formed of GaN (an n layer 31 and a p layer 32) is removed along a scheduled division line 21 formed on a sapphire substrate 2 by etching, and a laser beam LB is applied from a back surface side of the sapphire substrate 2 to form a modified layer 312 at a foot portion 311 of the n layer 31 which cannot be removed by the etching.例文帳に追加

GaN(n層31+p層32)から成る発光層3を、サファイア基板2に形成された分割予定ライン21に沿ってエッチング処理して除去し、サファイア基板2の裏面側からレーザービームLBを照射してエッチング処理で除去しきれなかったn層31の裾野の部分311に改質層312を形成する。 - 特許庁

The positioning reference mark Q on the glass substrate A is detected through the glass substrate B by a CCD camera 12 installed inside a machining head 7, which is fed back to X axis stage and Y axis stage to carry out precise positioning for the necessary point, and then the alignment mark is machined by irradiation of the laser beam 5 at the position P overlapped with the position detection mark P.例文帳に追加

加工ヘッド7内部に設けたCCDカメラ12によりガラス基板Bを透過してガラス基板Aの位置参照マークQを検出し、これをX軸ステージおよびY軸ステージにフィードバックして必要な場所で精密な位置決め行ない、レーザビーム5の照射により位置検出マークPと重なる位置Pにアライメントマークを加工する。 - 特許庁

In the horizontal distance measurement, the light beam and the reflected light going forth and back are guided to pass through a hollow rotary mechanism 14 to automatically measure the distance between walls or rail gage size, etc., around the elevator in an elevating passage 1 during rotating of the reflector at an arbitrary angle over 360° by the rotary mechanism.例文帳に追加

この水平距離の測定において、往復する光波と反射光には中空回転機構14の内部を通過させることにより、中空回転機構によって反射体を360°以上の任意の角度、自由に回転させながら昇降路1内のエレベータの周囲に存在する壁面間寸法やレールゲージ寸法等を自動的に測定する。 - 特許庁

例文

To accurately obtain mechanical characteristics at the time of plastic deformation of a polycrystalline material by rapidly and certainly estimating the non-uniform deformation state of the microscopic texture of the polycrystalline material when the polycrystalline material receives macroscopic deformation by a simple method using the crystal data of the polycrystalline material receiving no plastic deformation obtained by a back scattering electron beam diffraction (EBSD) method.例文帳に追加

後方散乱電子線回折(EBSD)法により得られた塑性変形を受けていない多結晶材料の結晶情報を用いて、多結晶材料が巨視的変形を受けた際の微視組織の不均一変形状態を、簡易な方法で迅速且つ確実に予測し、多結晶材料の塑性変形時の機械特性を正確に得る。 - 特許庁

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