Channel-Formingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1606件
The method is for forming an array of floating gate memory cells, each provided with a trench formed in the surface of a semiconductor substrate and with the source and drain regions separated from each other with a channel region formed in between, and the array is formed by using this method.例文帳に追加
半導体基体の表面に形成されたトレンチと、チャンネル領域が間に形成された離間されたソース及びドレイン領域とを各々備えたフローティングゲートメモリセルのアレーを形成する方法、及びそれにより形成されたアレー。 - 特許庁
According to the ink jet head manufacturing method, an upper surface of a channel wafer 200 forming a substrate 20 is cut away by dicing to form grooves 201 as ink chambers 26 therein at predetermined intervals, and thereafter the adhesive is applied to the upper surface by means of an adhesive applying device 60 having the ink jet head 2.例文帳に追加
基板20を構成するチャンネルウエハ200の上面に、インク室26となる溝部201をダイシングにより一定間隔で形成した後、インクジェットヘッド2を備えた接着剤塗布装置60によって接着剤を塗布する。 - 特許庁
The inkjet recording head has also a close contact layer 4 provided in the surface of the silicon substrate 1, and for holding one part of the flow channel forming member 3, and a delivery energy generating element 2 arranged opposed to each delivery port 7, and for delivering ink from the delivery port 7.例文帳に追加
また、シリコン基板1の表面に設けられ、流路形成部材3の一部を保持している密着層4と、各吐出口7に対向して配置され、インクを吐出口7から吐出させる吐出エネルギー発生素子2と、を有している。 - 特許庁
At the time of forming a thin film on the substrate 7, the thickness of the formed thin film is made uniform by sufficiently diffusing the treating gas onto the substrate 7 by slowly supplying the gas to the reaction chamber 6 without accumulating the gas in the gas reservoir 10 provided halfway the feed channel 51.例文帳に追加
薄膜を成膜するとき、処理用ガスを供給炉51の途中のガス溜め部10に溜めることなく反応室6に徐々に供給して、基板7上に十分拡散するようにし、成膜される膜の厚さを均一にする。 - 特許庁
An AlGaN barrier layer 2 is formed on a GaN channel layer 1, a source electrode 3 and a drain electrode 4 are formed thereon, and a gate electrode 5 forming Schottky junction with the barrier layer 2 is formed in a position between these two electrodes.例文帳に追加
GaNチャネル層1上にAlGaNバリア層2が形成され、この上にソース電極3、ドレイン電極4が形成され、この2つの電極に挟まれた位置に、バリア層2とショットキー接合を形成するゲート電極5が形成されている。 - 特許庁
The section perpendicular to the circumferential direction of this gasket 20 is in a channel shape with the inside forming an open end, and each tip part thereof is furnished with an inner overhang 20a overhanging inward and an outer overhang 20b overhanging outward.例文帳に追加
ガスケット20は、周方向に垂直な断面が、内側が開放端となるほぼコの字形をしており、両先端部分には、内側へ張り出した内側張出部20aと外側へ張り出した外側張出部20bとが形成されている。 - 特許庁
To suppress the effects of pressure fluctuation and ensure performance by forming the arc diameter of the inner circumferential surface of a side-cut portion of a side-cut fan as an arc diameter different from an initial arc diameter which forms an original inner circumferential arc surface of an air channel.例文帳に追加
本発明は、サイドカットファンでの、サイドカット部内周面の円弧径を、当初の風洞内周円弧面を形成する初期円弧径とは異なる円弧径として形成されることによる、圧力変動の影響の抑制と性能確保を目的とする。 - 特許庁
A polycrystalline silicon TFT of bottom gate type is thermally treated at 500 to 700°C through a furnace annealing method, in a state in which at least an insulating film is formed on a channel forming region, and furthermore the insulating film is not removed.例文帳に追加
ボトムゲート型の多結晶シリコンTFTで、少なくともチャネル形成領域の上に絶縁膜がある状態で、ファーネスアニール法を用いて500℃〜700℃で熱処理を行い、さらにその絶縁膜を除去しないことを特徴とする。 - 特許庁
To realize a TFT, which is capable of operating at a high speed by a method, wherein a crystalline semiconductor film whose crystal grains are controlled in size and position is formed, and the crystalline semiconductor film is used in a channel-forming region of the TFT.例文帳に追加
結晶粒の位置とその大きさを制御した結晶質半導体膜を作製し、さらにその結晶質半導体膜をTFTのチャネル形成領域に用いることにより高速動作が可能なTFTを実現することを目的とする。 - 特許庁
To ensure reliability by preventing lift of a channel forming member by application, for example, to a thermal inkjet printer, in terms of a manufacturing method for a liquid ejection head, the liquid ejection head, and a liquid ejector.例文帳に追加
本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置に関し、例えばサーマル方式によるインクジェットプリンタに適用して、流路形成部材の浮き上がりを防止して信頼性を確保することができるようにする。 - 特許庁
To provide a method for forming a polycrystalline semiconductor thin film which can enhance carrier mobility while suppressing a variation in characteristic when it is employed in a channel region of a thin film transistor, and to provide a polycrystalline semiconductor thin film, a semiconductor device and a display.例文帳に追加
薄膜トランジスタのチャネル領域に用いた場合にそのキャリア移動度を高め、且つ、特性ばらつきを小さくする多結晶半導体薄膜の製造方法、多結晶半導体薄膜、半導体装置及び表示装置を提供する。 - 特許庁
In the process of cleaning the endoscope, a coating layer 60 forming an inner wall surface S_0 of the endoscopic conduit (forceps channel 57 etc.) is molten with hot water (peeling liquid), and the coating layer 60 is removed from a base portion 58 surrounding the conduit.例文帳に追加
内視鏡を清浄するプロセスにおいて、内視鏡の管路(鉗子チャネル57等)の内壁面S_0を形成するコーティング層60が温水(剥離液)により溶かされ、当該管路を取り囲むベース部58からコーティング層60が除去される。 - 特許庁
A spindle 100 has a spiral channel 2 formed on the outer face of the spindle 100 and provided with a width and depth sufficient to receive a wire-like rib material (not shown) that is used for forming ribs on the inner surface of boiler tubes.例文帳に追加
スピンドル100が、スピンドル100の外面に形成した螺旋形のチャンネル2にして、ボイラー管内面上のリブを形成するために使用するワイヤ状のリブ材(図示せず)を収受するに充分な幅及び深さのチャンネル2を有する。 - 特許庁
In this method, a resin pool aiming at supplying the amount of shrinked resin portion in resin curing process and a supply channel providing resin from the resin pool have been formed on a die, in addition to a molded forming part of the shape to be transferred.例文帳に追加
型には転写される形状の成型品形成部分の他に、樹脂の硬化過程で収縮分の樹脂を供給することを目的とした樹脂溜まり部と、樹脂溜まり部から樹脂を供給する供給溝を形成しておく。 - 特許庁
To make steep dopant distribution in a channel region by avoiding point defects without using any processes for removing thick gate sidewalls after forming deep source/drain regions by a manufacturing method in a minute field effect transistor whose gate length is equal to or less than 0.1 micron.例文帳に追加
ゲート長0.1ミクロン以下の微細な電界効果型トランジスタの製造方法で、深いソース/ドレイン領域形成後に厚いゲート側壁を取り除く工程を用いることなく、点欠陥を抑制し、チャンネル領域の不純物分布を急峻化する。 - 特許庁
By forming a potential barrier forming p-type layer 24 in a region in a p-well other than a region below a gate of a first MOS transistor 22, when charges are stored, the charges overflowing from a photo diode 21 can be made to flow into a channel 31 even if the first transfer MOS transistor 22 is turned off without fail as much as possible.例文帳に追加
第1のMOSトランジスタ22のゲートの下方の領域を除くPウェル内の領域にポテンシャル障壁形成用P型層24を形成することにより、電荷を蓄積する際に、第1の転送MOSトランジスタ22を可及的に確実にオフしても、フォトダイオード21から溢れた電荷を経路31に流入させることができるようにする。 - 特許庁
A waveguide forming section 10, constituted by successively forming light input waveguides 12, a first slab waveguide 13, a slab waveguide 14 provided with plural channel waveguides 14a varying in their each other's lengths from each other by a set quantity, a second slab waveguide 15 and a plurality of light output waveguides 16 disposed juxtaposedly is formed on a substrate 11.例文帳に追加
光入力導波路12と、第1のスラブ導波路13と、互いの長さが設定量異なる複数のチャンネル導波路14aを並設してなるアレイ導波路14と、第2のスラブ導波路15と、複数の並設した光出力導波路16とを順に接続してなる導波路形成部10を基板11上に形成する。 - 特許庁
In the resin relief printing plate for forming the thin film used for transferring a coating liquid applied on projected parts 2 for printing onto a body to be printed and printing, channel parts 4 for holding the coating liquid are formed among adjoining micro-projections 3 by distributing and forming a number of the micro-projections 3 on the whole face of the projected parts 2 for printing.例文帳に追加
印刷用凸部2に塗布された塗工液を被印刷体に転写し印刷するために用いる薄膜形成用樹脂凸版1であって、上記印刷用凸部2全面に多数の微小突起3が分布形成されていることによって、隣り合う微小突起3間に、上記塗工液を保持するための溝部4が形成されている。 - 特許庁
By forming a potential barrier forming p-type layer 24 in a region in a p-well other than a region below a gate of a first MOS transistor 22, when charges are stored, the charges overflowing from a photo diode 21 can be made to flow into a channel 31 even when the first transfer MOS transistor 22 is turned off without fail as much as possible.例文帳に追加
第1のMOSトランジスタ22のゲートの下方の領域を除くPウェル内の領域にポテンシャル障壁形成用P型層24を形成することにより、電荷を蓄積する際に、第1の転送MOSトランジスタ22を可及的に確実にオフしても、フォトダイオード21から溢れた電荷を経路31に流入させることができるようにする。 - 特許庁
To provide a method of more reliably forming a semiconductor material layer, an electrode, and a wiring pattern, especially the pattern of source and drain electrodes requiring precise patterning in a thin-film transistor, and to provide a method of forming a semiconductor channel having high mobility precisely with improved reproducibility together with the electrode pattern.例文帳に追加
薄膜トランジスタにおいて、より確実に半導体材料層また電極や配線パターン、特に、高精度なパターニングが要求されるソース、ドレイン電極のパターンを形成する方法を提供することにあり、更に電極パターンと共に移動度が高い半導体チャネルを高精度、再現性よく形成する方法を提供することにある。 - 特許庁
The seal member 43 and the passage forming member 31 are laser-welded together by being irradiated with laser beams which recess-projection engage the annular channel 53 and the annular projection 54, plane-join the plane part 51 and the joining plane 55, and has a cross section of approximately the same shape as a joining interface on the irradiated plane 56 of the passage forming member 31.例文帳に追加
シール部材43と流路形成部材31とを、環状溝53と環状突条54とを凹凸嵌合させるとともに平面部51と接合平面55とを平面接合させ、流路形成部材31の照射平面56に接合界面と略同一形状の断面を有するレーザ光線を照射して、レーザ溶着する。 - 特許庁
To obtain a liquid ejection head employing a common nozzle plate in which the possibility of damage occurring in channel forming substrates being formed individually and bonded can be reduced significantly.例文帳に追加
共通のノズルプレートが用いられる液体噴射ヘッドであって、個別に形成されて接合される流路形成基板において損傷の発生可能性が顕著に低減された液体噴射ヘッド、及び、当該液体噴射ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A charge/discharge control circuit 25 of the capacitor 9 composing the simple memory is made by a totem pole type connection circuit of an N channel MOSFET 22, 23, and the back gate of the FET 22, 23 is made to be a ground electric potential, thereby forming a parasitic diode 24 only in a low side.例文帳に追加
簡易メモリをなすコンデンサ9の充放電制御回路25を、NチャネルMOSFET22及び23のトーテムポール型接続回路で構成し、FET22及び23のバックゲートをグランド電位とすることで、寄生ダイオード24はロウサイドのみに形成する。 - 特許庁
There is consecutively provided an insulation breakdown strength insulation film 14 composed of a film for forming a channel protection film 10 between intersection parts of a sweep signal line 2 and a data signal line 3 and between polymerization parts of the data signal line 3 and an auxiliary capacity electrode 6.例文帳に追加
走査信号ライン2とデータ信号ライン3との交差部間およびデータ信号ライン3と補助容量電極6との重合部間には、チャネル保護膜10形成用膜からなる絶縁耐圧向上用絶縁膜14が連続して設けられている。 - 特許庁
To provide a semiconductor device that is improved in TFT characteristics and having uniform characteristics by making the interface between an active layer proper, especially a region constituting a channel forming region, and a gate insulating film, and to provide a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加
活性層、特にチャネル形成領域を構成する領域とゲート絶縁膜との界面を良好なものとすることにより、TFTの特性を向上させるとともに均一な特性を有する半導体装置およびその作製方法を提供するものである。 - 特許庁
The present invention provides a method for manufacturing the probe solidifying reaction array, and the method including the steps of linearly solidifying the probe on the base of the array and forming the channel in the array so that it crosses the linear solidified probe.例文帳に追加
また、本発明は、プローブ固相化反応アレイを製造するための方法であって、前記アレイの基盤にプローブを線状に固相化することと、前記固相化された線状プローブと交するように、前記アレイに流路を形成することとを含む方法を提供する。 - 特許庁
To shorten transit time of an electron in a high electric field region by locally forming the high electric field on the source end of a channel immediately below a gate electrode and implement excellent high speed operation of a transistor in a GaN based heterostructure field effect transistor.例文帳に追加
GaN系ヘテロ構造電界効果トランジスタにおいて、ゲート電極直下のチャネルのソース端に局所的に高電界領域を形成することで同領域における電子の走行時間を短縮し、同トランジスタの優れた高速動作を実現する。 - 特許庁
As the channel forming member of the liquid ejecting head, a hardened object of a resin composition including a cationically polymerizable resin, a photo-cationic polymerization initiator, a hydrolysate of a hydrolytic organic silane compound, and inorganic fine particles of a mean diameter of 50 nm or smaller is used.例文帳に追加
液体吐出ヘッドの流路形成部材として、カチオン重合可能な樹脂と、光カチオン重合開始剤と、加水分解性有機シラン化合物の加水分解物と、平均粒経が50nm以下の無機微粒子と、を含む樹脂組成物の硬化物を用いる。 - 特許庁
This inkjet head 100 is manufactured by forming a plurality of groove parts 2, which are subjected to a shear mode type displacement by the application of a voltage, in a piezoelectric substrate 1, and covering the grooves 2 with a cover plate 5 to form an ink channel 9 between the piezoelectric substrate and the cover plate.例文帳に追加
電圧の印加によって剪断モード型の変位をする複数の溝部2を圧電性基板1に形成し、溝部をカバープレート5で覆うことにより、圧電性基板とカバープレートとの間にインク流路9を形成するインクジェットヘッド100の製造方法である。 - 特許庁
The temperature control dampers 37 and 47 have a channel forming surface 61 that faces both of a feed route of the gas fed from the temperature control section and a blast route of the gas in the test section and continues the inner peripheral surface of the feed route in the opened state.例文帳に追加
温調ダンパ37,47は、開状態になると温調部から送出される気体の送出経路、並びに、試験部における気体の送風経路の双方に面し、送風経路の内周面とが連続した状態になる流路形成面61を有する。 - 特許庁
To provide a TFT having high-speed operation, by forming a crystalline semiconductor film with crystal grains at a controlled position and size and using the crystalline semiconductor film as a channel region or as an active layer in the TFT.例文帳に追加
結晶粒の位置と大きさを制御した結晶質半導体膜を作製し、さらにその結晶質半導体膜をTFTのチャネル形成領域または活性層に用いることにより、高速動作の可能なTFTを実現させることを目的とする。 - 特許庁
An output circuit of the second I/O circuit forms a drive signal similarly through a level conversion circuit and drives second and third N channel MOSFETs forming an output signal of a signal amplitude corresponding to the third power supply voltage.例文帳に追加
上記第2入出力回路の出力回路では、上記同様にレベル変換回路で駆動信号を形成し、上記第3電源電圧に対応した信号振幅の出力信号を形成する第2及び第3NチャネルMOSFETを駆動する。 - 特許庁
To provide an ink cartridge that can be mounted by moving an ink supply port in parallel with a channel forming member at least when the cartridge is mounted, permits the simplification of a structure for regulating the position of electrodes and the amplification of the urging force of a lever.例文帳に追加
少なくとも装着時にはインク供給口を流路形成部材に平行に移動させて装着でき、また電極群の位置規制のための構造を簡素化でき、さらにはレバーの付勢力を増幅することができるインクカートリッジを提供することである。 - 特許庁
In a memory transistor (M11, etc.), a gate electrode and gate insulation films, including a tunnel insulation film, are laminated on the semiconductor-channel forming region provided on the surface of a substrate to provide discretely in the form of a plane charge storing means in the gate insulation film.例文帳に追加
メモリトランジスタ(M11等)において、基板表面に設けられた半導体のチャネル形成領域上にトンネル絶縁膜を含むゲート絶縁膜とゲート電極が積層され、ゲート絶縁膜内に平面的に離散化された電荷蓄積手段を有する。 - 特許庁
Also, the electrode element 8A is shaped in such a way that its side on a vertical CCD6 side is short and its side on an electrode 5 side in a separate transfer section is long, thereby producing a narrow channel effect and forming a desired potential gradient throughout under the electrode element 8A.例文帳に追加
また、電極要素8Aの形状を、垂直CCD6側の辺を短く、振り分け転送部の電極5側の辺を長く形成することによって狭チャネル効果を発生させ、電極要素8A下全体に所望の電位勾配を形成する。 - 特許庁
In addition, the method includes a process for forming a channel (90) including the cutting schedule line (100) and the process for irradiating the substrate along the cutting schedule line (100).例文帳に追加
さらに、本発明は、基板(10)を切断予定線(100)に沿って切断する基板の切断方法であって、切断予定線(100)を含む溝(90)を形成する工程と、切断予定線(100)に沿ってレーザを照射する工程と、を含む切断方法を提供する。 - 特許庁
To provide a structure for forming a semiconductor element of high performance at a low cost and its manufacturing method by applying selectively sufficient strain to a channel layer in a desired semiconductor element alone, according to required element characteristic without losing effect by means of an SOI structure.例文帳に追加
SOI構造による効果を失わずに、要求される素子特性に応じて、所望の半導体素子にのみ選択的に十分な歪みをチャネル層に印加し、より高性能な半導体素子を低コストに形成する構造と製造方法を提供する。 - 特許庁
A silicon oxide film 40 included in a gate insulating film 50 of a thin film transistor, a silicon film 60 to become a channel layer 61 and a silicon oxide film 70 serving as an etching stopper layer 71 when forming source/drain layers 81a, 81b, are successively formed without exposing these films to the atmosphere.例文帳に追加
薄膜トランジスタのゲート絶縁膜50に含まれる酸化シリコン膜40、チャネル層61となるシリコン膜60、ソース/ドレイン層81a、81bを形成するときのエッチングストッパ層71となる酸化シリコン膜70を、大気に晒すことなく連続して成膜する。 - 特許庁
The oil-water separator 10 equipped with oil-water separation compartments 11 formed with flat water discharge canals 19 along wall surfaces by attaching passage forming members 20 having channel shaped sections to partition walls 12 and utilizing their wall surfaces as portions of passages is provided.例文帳に追加
断面がコ字型になった流路形成部材20を仕切り壁12に取り付けて、壁面を流路の一部として利用して、壁面に沿った平たい排水路19を形成した油水分離区画11を備えた油水分離槽10を提供する。 - 特許庁
In this forming method, a pair of channel steels 2a, 2b, to which half split internal diaphragms 1a, 1b are previously fixed temporarily, are assembled in the rectangular steel pipe member 2, and then, electroslag welding 6 is carried out in all of the four sides of the internal diaphragm 1 formed of the respective half split internal diaphragms 1a, 1b.例文帳に追加
この発明の形成方法では、予め半割内ダイアフラム1a,1bを仮止めした一対の溝形鋼2a,2bを角形鋼管部材2へ仮組み後、各半割内ダイアフラム1a,1bで形作った内ダイヤフラ1ムの全周四辺にエレクトロスラグ溶接6を実施する。 - 特許庁
To surely join a plurality of laminated sheets, capable of forming an ink channel after lamination and integration, to one another in the state of properly positioning the plurality of laminated sheets, while preventing the plurality of laminated sheets, for example, from being deformed or joined to a positioning member.例文帳に追加
積層一体化後にインクの流路を形成可能な複数の積層板が、変形することや、また位置決め用の部材と接合してしまうことなどを防止しつつ、これらの積層板を適切に位置決めした状態で互いを確実に接合する。 - 特許庁
To provide an inkjet recording head which can perform image recording of a high quality for a long period of time and is high in reliability, by using a material which has a small coefficient of linear expansion and can be highly precisely patterned as a channel forming member in the liquid ejecting head.例文帳に追加
液体吐出ヘッドにおいて、流路形成部材として、線膨張係数が小さく、高精度のパターニングが可能な材料を用いることによって、長期にわたって高品位の画像記録が可能な信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁
The liquid channel to be formed in the head case is formed by resin molding using a thin, long first metallic mold extended toward a nozzle forming face from a position of a liquid supply hole and a protruding second metallic mold to which the tip portion of the first metallic mold is abutted.例文帳に追加
ヘッドケースに形成される液体流路は、液体供給口の位置からノズル形成面に向かって延びる細長の第1の金型と、第1の金型の先端が突き当てられる突起状の第2の金型とを用いた樹脂成形で形成される。 - 特許庁
In addition, as for a gate electrode of a P channel type MOS transistor, a thin oxide film 3 used in the step for forming the field oxide film is used as a gate oxide film, and the first poly-silicon layer 4 and the second poly-silicon layer 8 are laminated and used as the gate electrode 9.例文帳に追加
また、Pチャネル型MOSトランジスタのゲート電極については、フィールド酸化膜形成工程で用いた薄い酸化膜3をゲート酸化膜として用い、且つ第1のポリシリコン層4と第2のポリシリコン層8を積層してゲート電極9としている。 - 特許庁
To achieve speed-up of element performance by reducing junction leak in a MOS semiconductor device whose upper portion of a source-drain electrode is formed into silicide, while forming each channel surface in the optimal crystal face according to the polarity and maintaining a shallow source-drain junction position.例文帳に追加
極性によって最適な結晶面にそれぞれのチャネル面を形成し、浅いソース・ドレイン接合位置を保ちつつソース・ドレイン電極上部がシリサイド化されたMOS型半導体装置において、接合リークを低く抑えて素子動作の高速化をはかる。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of obtaining the semiconductor device whose S value is excellent in an electric characteristic in a region lower than the threshold value, in the semiconductor using nearly single-crystalline grains of a semiconductor material in the channel forming region thereof.例文帳に追加
半導体材料の略単結晶粒をチャネル形成領域に用いた半導体装置において、閾値下領域の電気特性であるS値の優良な半導体装置を得ることを可能とする半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
A body region 15 is formed inside the drain region 121, an N-type source region 16 is formed inside the body region 15, and a gate electrode 20 is disposed on a channel region between the drain region 121 and the source region 16, thereby forming the LDMOS.例文帳に追加
ドレイン領域121内にボディ領域15が形成され、ボディ領域15内にN型ソース領域16が形成され、ドレイン領域121とソース領域16間のチャネル領域上にゲート電極20が配置され、LDMOSが形成される。 - 特許庁
Based on the position, a punching position of an opening 20a is controlled by a control means 52 corresponding to the catalyst layer 12A by a cutter unit 38 for forming an opening 20a on a belt-like protection film 20C guided along a second upstream channel 26.例文帳に追加
その位置に基づいて、制御手段52により、第2の上流経路26に案内される帯状の保護フィルム20Cに対し開口部20aを形成するカッターユニット38の、触媒層12Aに対応する開口部20aの打抜き位置を制御する。 - 特許庁
In a process of forming the source electrode and the drain electrode, first correction data is created by correcting exposure data based on warp of the substrate and a ratio of expansion and contraction of the substrate in a condition where a channel length of the thin film transistor is fixed by using scaling processing.例文帳に追加
ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第1の補正データを作成する。 - 特許庁
In the liquid jet recording head 10, liquid flowing into a common liquid chamber 22 through a liquid inlet 32 flows along the wall face 12B of a housing 12 and the heating element forming face 18A of a heating element substrate 18 and enters an individual channel 20, as it is.例文帳に追加
液滴噴射記録ヘッド10は、液体導入口32から共通液室22に流入した液体は、ハウジング12の壁面12B、発熱素子基板18の発熱素子形成面18Aに沿って流れ、そのまま個別流路20に流入する。 - 特許庁
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