「First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(102ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for treating the substrate comprises the first step of cleaning the film containing metals on the surface of the substrate to be treated, while supplying the first treatment medium containing a medium in the supercritical state onto the substrate to be treated, and the second step of forming the Cu film while supplying the second treatment medium containing a medium in the above supercritical state onto the above substrate to be treated.例文帳に追加

超臨界状態の媒体を含む第１の処理媒体を被処理基板上に供給して被処理基板表面の金属を含む膜をクリーニングする第１の工程と、前記被処理基板上に前記超臨界状態の媒体を含む第２の処理媒体を供給してＣｕ膜を成膜する第２の工程を含むことを特徴とする基板処理方法。 - 特許庁

The handover method of a mobile station in a radio communication system for supporting the USTS includes a first step for converting the mode of the mobile station from the USTS mode to the Non-USTS mode in accordance with a first signal measuring result measured by the mobile station and a second step for applying soft handover to the mobile station.例文帳に追加

本発明の方法は、逆方向同期伝送方式(USTS)を支援する無線通信システムにおける移動局のハンドオーバ方法において、移動局による第1信号測定結果に応じて、移動局を逆方向同期伝送方式(USTS)モードから、非逆方向同期伝送方式(Non-USTS)モードに変換させる第1ステップと、前記移動局に対してソフトハンドオーバを行う第2ステップとを含む。 - 特許庁

A step for preparing the photomask provided with a first photomask pattern used for forming the protrusion and constituted of a pattern having a first shape consisting of a plurality of light shielding units and a second photomask pattern used for forming the spacer and constituted of a light shielding pattern having a second shape is performed and then a step for exposing and developing the photoresist layer using the photomask is performed.例文帳に追加

突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第１形状を有するパターンから構成される第１フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第２形状を有する遮光パターンから構成される第２フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。 - 特許庁

A first base plate 111 provided with a phosphor excitation means and a second base plate 112 provided with a phosphor that emits light by means of the phosphor excitation means are transferred successively to a bake treatment room 102, a first step getter treatment room 103, an electron beam cleaning room 104, a second step getter treatment room 105 and a sealing treatment room 106, maintaining the vacuum atmosphere.例文帳に追加

蛍光体励起手段を配置した第１基板１１１及び蛍光体励起手段により発光する蛍光体を配置した第２基板１１２を、真空雰囲気を維持しながら、ベーク処理室１０２、第１段目ゲッタ処理室１０３、電子線クリーニング処理室１０４、第２段目ゲッタ処理室１０５、封着処理室１０６へと順次移動させて各処理を行う。 - 特許庁

This classification information setting method for classifying contents into series comprises: a similarity determining step for determining a similarity between first contents classified into a series and second contents unclassified yet; and a step for setting, in the case where the similarity exists, classification information related to the first contents, as classification information for the second contents.例文帳に追加

コンテンツをシリーズに分類するための、分類情報の設定方法であって、あるシリーズに分類されている第１のコンテンツと、未だ分類されていない第２のコンテンツとの類似性を判定する工程と、類似性有りと判定した場合には、前記第１のコンテンツに関連付けられている分類情報を、前記第２のコンテンツの分類情報として設定する工程と、を含む。 - 特許庁

The process for producing the slurry comprises a step (1) of obtaining storage slurry containing a first pulverized powder which is a pulverized raw material powder formed by pulverizing a raw material mixture containing the raw material powder using grinding media and a step (2) of obtaining slurry containing a second pulverized powder derived from the first pulverized powder by wet jet-milling a necessary amount out of the storage slurry.例文帳に追加

破砕媒体を使用し、原料粉末を含む原料混合物を破砕処理して原料粉末が破砕された第一の破砕粉末を含む貯蔵スラリーを得る工程（１）と、貯蔵スラリーのうちの必要分を湿式ジェットミル処理して、第一の破砕粉末に由来する第二の破砕粉末を含むスラリーを得る工程（２）と、を有するスラリーの製造方法。 - 特許庁

The layout method of the integrated circuit device comprises a step (S14) for searching an area where a functional cell is not arranged yet, and a step (S16) for arranging a power supply reinforcement cell including first and second power supply reinforcement lines at least a part of which is formed, respectively, of first and second polysilicon wiring patterns in an area where a functional cell is not arranged yet.例文帳に追加

本発明の集積回路装置のレイアウト方法は、機能セルが配置されていない未配置領域を探索するステップ（ステップＳ１４）と、未配置領域に、少なくとも一部が第１及び第２のポリシリコン配線パターンによりそれぞれ形成された第１及び第２の電源補強線と、を含む電源補強セルを配置するステップ（ステップＳ１６）と、を含む。 - 特許庁

The method includes: a step of manufacturing first and second photosensitive layers 52a and 52b laminated at both ends of a laminate 50 having a base material film 32, first and second conductive layers 40 and 45 laminated at both the ends of the base material film, and a light shielding layer laminated on the conductive layers; and a step of etching and patterning the light shielding layer and the conductive layers.例文帳に追加

製造方法は、基材フィルム３２と、基材フィルムの両側に積層された第１および第２の導電層４０，４５と、導電層上に積層された遮光層と、を有する積層体５０の両側に積層された第１および第２の感光層５２ａ，５２ｂを製版する工程と、その後、遮光層および導電層をエッチングしてパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

A plurality of sectioned areas S1-S3 on a substrate are exposed by alternately repeating a scanning step for exposing one sectioned area S1-S3 on the substrate by moving the substrate, while scanning, in the first direction Y with respect to the illumination area A of exposing light, and a moving step for moving the substrate in the second direction X intersecting the first direction Y.例文帳に追加

露光光の照明領域Ａに対して基板を第１方向Ｙに走査移動させることによって基板上の１つの区画領域Ｓ１〜Ｓ３を露光する走査ステップと、基板を第１方向Ｙと交差する第２方向Ｘへ移動させる移動ステップとを交互に繰り返し行うことによって、基板上の複数の区画領域Ｓ１〜Ｓ３を露光する。 - 特許庁

The method for producing the rubber composition containing the inorganic white filler, a carbon black and the softener in the rubber comprises a step for producing a first mixture by previously kneading the inorganic white filler with the rubber, and a step for adding a filler except the inorganic white filler, and the softener to the first mixture, and kneading the obtained mixture to provide the rubber composition.例文帳に追加

ゴム中に無機質白色充填剤、カーボンブラック、及び軟化剤を含むゴム組成物を製造する方法であって、無機質白色充填剤とゴムとを予備練りして第１混合物を製造する工程と、該第１混合物に無機質白色充填剤以外の充填剤と軟化剤を添加して混練りしゴム組成物とするゴム組成物の製造方法である。 - 特許庁

The method for cleaning the apparatus for a borazine compund comprises: a first irradiating step of irradiating a site to be cleaned in the apparatus with a first ultrasonic wave having a frequency of ≤100 kHz; and a second irradiating step of irradiating the site to be cleaned with a second ultrasonic wave having a frequency of >100 kHz.例文帳に追加

ボラジン化合物用装置の洗浄方法であって、ボラジン化合物用装置の被洗浄部位に対して周波数１００ｋＨｚ以下の第１超音波を照射する第１照射段階と、前記被洗浄部位に対して周波数１００ｋＨｚ超の第２超音波を照射する第２照射段階とを含む、洗浄方法により、上記課題は解決される。 - 特許庁

The method and apparatus for driving the plasma display panel includes a step of supplying an initialization signal, including at least one rise period, where a voltage rises and at least one sustain period where the voltage is sustained to first and second electrodes to make cells initialize, and a step of supplying a scan signal to either the first or the second electrodes and supplying the data to a third electrode and selecting the cell.例文帳に追加

本発明ラズマディスプレイパネルの駆動方法及び装置は、電圧が上昇する少なくとも一つの上昇期間と電圧が維持される少なくとも一つの維持期間を含む初期化信号を第１と第２電極に供給してセルを初期化させて、第１と第２電極のいずれかにスキャン信号を供給して第３電極にデータを供給してセルを選択する。 - 特許庁

A picture control microcomputer determines which of three stop buttons executes a first stop by a received reel stop command (step S211), refers to a performance determination table and sets performance data (a), (b) or (c) of a performance identifier A, B or C registered associated with the stop button executing the first stop in the performance determination table (step S212).例文帳に追加

画像制御マイコンは、受信したリール停止コマンドにより第１停止がされたのが３つの停止ボタンの何れであるのかを判断し（ステップＳ２１１）、演出決定テーブルを参照して、その第１停止がされた停止ボタンと演出決定テーブルで関連付けて登録されている演出識別子Ａ，Ｂ又はＣの演出データａ，ｂ又はｃをセットする（ステップＳ２１２）。 - 特許庁

The method comprises a step of starting discharge by applying negative voltage pulses of lamp waveforms having inclinations at leading and trailing edges to a second electrode of a panel at the same time when applying positive voltage pulses to a first electrode of the panel; and a step of performing the sustained discharge by repeatedly applying the positive pulses to the first and the second electrodes in turn.例文帳に追加

本発明は、パネルの第１電極に正電圧パルスを印加すると同時にパネルの第２電極に立ち上がり及び立ち下がりエッジで傾きを持ったランプ波形の負電圧パルスを印加して放電を開始するステップと、前記第１電極及び第２電極に正電圧パルスを交互に繰り返し印加して維持放電するステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the method, the symbols received from the transmission line are equalized, and data are decoded from it; a first processing, including a turbo equalizing sequence on the received symbol or a second processing including an equalizing step and a turbodecoding sequence following the step, is performed; and the first processing or the second processing is selected, based on the estimation of the delay diffusion of the transmission line.例文帳に追加

伝送路から受信されたシンボルを等化し、そこからデータを復号化する方法に関し、受信されたシンボル上のターボ等化シーケンスを含む第１の処理、または等化ステップおよびそれに続くターボ復号化シーケンスを含む第２の処理のいずれかを実行することであり、第１の処理または第２の処理の選択は、伝送路の遅延拡散の推定に基づいて行われる。 - 特許庁

A photosensor 183 installed in a falling hole 182 detects tokens M falling the supply chute 18, and when the detection time is continued for a first prescribed time, an intake means 17 is opened to stop the incorporation of the tokens M as a first process step.例文帳に追加

補給シュート１８を流下するメダルＭを流下口１８２に装着したフォトセンサ１８３によって検知し、その検知時間が第１の所定時間続いたときは、第１処理段階として、取込手段１７を開放してメダルＭの取り込みを停止する。 - 特許庁

The number of steps in one period of the second region is same as the number of steps in one period of the first region and the horizontal width in the step-like part is made identical for all steps so that the diffraction efficiency for the designed wavelengths in the first and second regions is optimized.例文帳に追加

また、第２の領域の１周期内の段数を第１の領域の１周期内の段数と同じにして、階段状の部位の水平面の幅を全て同じにし、第１、第２の領域の設計波長に対する回折効率を最高にする。 - 特許庁

The elastic ring 10(10A) air-tightly separating a first internal space formed by a first inner diameter part 3a from a second inner space formed by a second inner diameter part 3b, is disposed between an aligning ring 8 and a hole-side step part 3d.例文帳に追加

第１内径部３ａにより形成される第１の内部空間と第２内径部３ｂにより形成される第２の内部空間とを機密的に分離する弾性体リング１０（１０Ａ）が、調心リング８と孔側段差部３ｄとの間に配設されている。 - 特許庁

In a core forming step, a second upper die 6 composed of a material having the modulus of elasticity lower than that of a clad substrate 1 is arranged on a first lower die 4 and is pressed to the surfaces of the first die 4 and the clad substrate 1 by the die closing force applied thereto.例文帳に追加

コア形成工程において、クラッド基板１よりも弾性率の低い材料で構成された第２の上型６が第１の下型４の上に配置され、型閉じ力が加えられて第１の下型４及びクラッド基板１の表面に押圧される。 - 特許庁

Then, the second layer is re-displayed so as to be overlapped on the first layer (a step 203) by relatively moving the second layer and the first layer or changing the scale of the map of the second layer in response to a command to change of the movement of the region or the scale of the map.例文帳に追加

領域の移動や地図の縮尺の変更を示すコマンドに応答して、第２のレイヤと第１のレイヤとを相対移動させ、或いは、第２のレイヤの地図の縮尺を変更して、第２のレイヤを第１のレイヤに重ねて再表示する（ステップ２０３）。 - 特許庁

In the dicing step, a surface protective member is applied onto a first primary surface of a semiconductor wafer on which an element region is formed, and then the semiconductor wafer is laser-diced by irradiating the wafer with laser light from a second primary surface side opposite to the first primary surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

ダイシング工程では、素子領域が形成される半導体ウェハの第一主面に表面保護部材を張り付けて、半導体ウェハの第一主面と相対向する第二主面側からレーザ光を照射し、半導体ウェハをレーザダイシングする。 - 特許庁

At the first step, it is preferable that raw material powder is rolled and/or fluidized while adding a binder solution obtained by dissolving the binder in the solvent to raw material powder containing raw material particles 80 to obtain the plurality of first granulated particles 80a.例文帳に追加

また、第１の工程では、原料粒子８０を含む原料粉末に、バインダを溶媒に溶解したバインダ溶液を付与しつつ、原料粉末を転動および／または流動させることにより、複数個の第１の造粒粒子８０ａを得るのが好ましい。 - 特許庁

When an organic EL device 100 is manufactured, a first electrode layer 140 is formed first, and then a moisture eliminating step by vacuum heating drying is carried out before the formation of organic function layers of a hole injection layer 181, hole transport layer 182, a light-emitting layer 183, etc.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１００を形成する際、第１電極層１４０を形成した後、正孔注入層１８１、正孔輸送層１８２、発光層１８３などの有機機能層を形成する前に真空加熱乾燥による水分除去工程をおこなう。 - 特許庁

To provide a conveyance device capable of receiving a rectangular paper sheet fed out in the first direction from a previous step device, conveying it into the second direction crossing the first direction quickly and smoothly, and realizing these operation by a simple configuration.例文帳に追加

前段装置から第１方向に送り出されてきた矩形状紙葉類を、受け取って、第１方向に対して交差する第２方向へ迅速に且つ円滑に搬送することができ、しかも、それを簡単な構成で実現できる、搬送装置、を提供すること。 - 特許庁

The etching is interrupted at a step when the first insulating film 2 is disclosed and then the etching condition is changed and thereafter the first insulating film 2 is etched.例文帳に追加

更にバイアホール９形成工程で半絶縁性基板１のエッチングを行う際に、第１の絶縁膜２のエッチングがされにくい条件で行ない、第１の絶縁膜２の露出した段階でエッチングを中断し、エッチング条件を変更し第１の絶縁膜２をエッチングする。 - 特許庁

The signal cable 3 is connected with the gate of the drive transistor 6 via the first and second switch, the memory step 7 is connected between the gate of the drive transistor 6 and the grounding terminal 2, and the first switch is connected between the drain and the gate of the drive transistor 6.例文帳に追加

信号線３は第一及び第二のスイッチを介して駆動トランジスタ６のゲートに接続され、記憶段７は駆動トランジスタ６のゲートと接地端子２との間に接続され、第一のスイッチは駆動トランジスタ６のドレインとゲートとの間に接続されている。 - 特許庁

At a second positioning step, the second abutment portion 65 of a second positioning jig 61 is moved toward the first abutment portion 56 placed in the wire connection position P and the wire connection portion 33 is clamped by the second abutment portion 65 and the first abutment portion 56 from the circumferential direction.例文帳に追加

第２位置決め工程において、第２位置決め治具６１の第２当接部６５を、結線位置Ｐに配置された第１当接部５６に向けて移動させて第２当接部６５及び第１当接部５６にて結線部３３を周方向から挟持する。 - 特許庁

In the second step, the sub-microcomputer 115 incorporates first data RD incorporated to the first packet DP 1 to a specified position of a second packet DP 2 to which second data SD necessary for the data communication with the main microcomputer 110 and the sub-microcomputer 115 are incorporated.例文帳に追加

第２ステップでは、サブマイコン１１５が、第１パケットＤＰ１に組み込まれている第１データＲＤを、メインマイコン１１０とサブマイコン１１５とのデータ通信に必要な第２データＳＤが組み込まれている第２パケットＤＰ２の特定の位置に組み込む。 - 特許庁

In step S3, a plurality of magnetizing magnetic pole surfaces are made to oppose the first magnetic bodies respectively, and a magnetizing field exhibiting different polarities is generated from the magnetizing magnetic pole surfaces to the first magnetic bodies adjacent to the magnetic bodies in a circumferential direction centered at the rotating shaft.例文帳に追加

ステップＳ３にて、着磁用磁極面の複数をそれぞれ第１磁性体と対向させ、回転軸を中心とした周方向で隣り合う第１磁性体に対して異なる極性を呈する着磁用磁界を当該着磁用磁極面から発生させる。 - 特許庁

The annealing method has a first annealing step for bringing the structure into contact with a holder (312) at a first position, and annealing the structure in an oxidizing atmosphere so that an oxidized layer (310) is formed at least on a part of the exposed surface of the structure.例文帳に追加

アニール方法は、構造体の露出した表面の少なくとも一部上に酸化物層（３１０）を形成するように酸化性雰囲気中で構造体をアニールする第１のステップであって、構造体は第１の位置にてホルダ（３１２）と接触する、ステップを含む。 - 特許庁

At the coating step, a temperature in the treatment container is set at a second temperature higher than a first temperature during film deposition, and coating is conducted by introducing the first treatment gas and the second treatment gas alternately for the treatment container without causing plasmatization.例文帳に追加

コーティング工程は、処理容器内の温度を成膜の際の第１の温度よりも高い第２の温度に設定し、処理容器に対し、第１の処理ガスの導入と、第２の処理ガスの導入とをいずれもプラズマ化せずに交互的に行ってコーティングを行う。 - 特許庁

Further, a step forming layer 13 is formed on the first substrate 10 so as to cover the region which overlaps with the colored layer 12 and the region which does not overlap with the colored layer 12 when viewed from the direction vertical to the plate surface of the first substrate 10 in the reflection region 51.例文帳に追加

一方、段差形成層１３は、反射領域５１のうち第１基板１０の板面に垂直な方向からみて着色層１２に重なる領域と着色層１２に重ならない領域とを覆うように第１基板１０上に設けられる。 - 特許庁

The solid-state imaging device manufacturing method comprises the step of exposing a transparent resin layer on a semiconductor substrate, forming a first and a second resin patterns with heights different from each other, and forming a first and a second microlenses with heights different from each other.例文帳に追加

半導体基板上の透明樹脂層を露光する工程と、互いに高さが異なる第１、第２の樹脂パターンを形成する工程と、互いに高さが異なる第１、第２のマイクロレンズを形成する工程と、を具備する固体撮像装置の製造方法。 - 特許庁

In other words, by maintaining the first pressurizing force at the first step of the pressurization, heat (frictional heat) H owing to a relative slide through the rotation of the rotary tool 4 is generated on the surface of the aluminum plate W1 and softens the aluminum plate W1.例文帳に追加

すなわち、この加圧の第一段階でこの第一加圧力を維持することで、アルミニウム板Ｗ１表面に、回転ツール４の回転による相対的なすべりによる発熱（摩擦熱）Ｈを生じさせ、その発熱によって、アルミニウム板Ｗ１を軟化させる。 - 特許庁

The first strap section 121 is formed with a crank shaped section with strap material bended, which section is provided with a step portion 121b projecting in the peripheral direction when looked at from the proximal end side (the body 110 side) to the distal end side of the first strap section 121.例文帳に追加

第１バンド部１２１には、バンド材がクランク状に屈折してなる部分が形成され、この部分に、第１バンド部１２１の基端側（本体１１０側）から先端側に見たときにバンド体１２０の外周側に突出する段差部１２１ｂが設けられている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the electrophoretic display, an assist substrate provided with a buffer layer is coated with a first layer of photopolymerizable material and a photopolymerization step is performed and the first layer of photopolymerizabale material after polymerization then undergoes steps required for the electrophoretic display such as conductive layer electrode fabricating.例文帳に追加

その製造方法は、第１層光重合材料をバッファ層を具えた補助基板に塗布して光重合工程を行ない、重合後の第１層光重合材料層に対して導電層電極等電気泳動ディスプレイに必要な工程を行なう。 - 特許庁

In the irradiation step, a difference is formed between a timing for irradiating the local region with the first pulse laser 22 oscillated by the first laser oscillator 12 and a timing for irradiating the local region with the second pulse laser 24 oscillated by the second laser oscillator 16.例文帳に追加

照射工程では、第１レーザ発振器１２が発振する第１パルスレーザ２２が前記局所領域に照射するタイミングと第２レーザ発振器１６が発振する第２パルスレーザ２４が前記局所領域に照射するタイミングの間に差が形成されている。 - 特許庁

The cut sections 4, 6 include a first ultrasonic cutter 4 cutting only a part of the thickness of the belt, and a second ultrasonic cutter 6 arranged apart from the first ultrasonic cutter 4 by a step transfer distance of the transfer part, and cutting the belt completely.例文帳に追加

このような切断部４、６は、ベルトの厚みの一部を切断する第１超音波切断機４と、第１超音波切断機４から移送部のステップ移送間隔だけ離隔して配置され、ベルトを完全に切断する第２超音波切断機６とを含む。 - 特許庁

A tip of a fixing piece 21 projecting from a first step surface 18 defined by the first space part 12 and the second space part 13 is heat-caulked so as to hold down an outer peripheral edge of a rear face (face on which the electronic component 3 is not mounted) of the substrate body 2.例文帳に追加

そして、第１空間部１２と第２空間部１３との第１段差面１８より突出する固定片２１の先端部を熱カシメすることにより、基板本体２の裏面（電子部品３が実装されていない面）の外周縁部を押え付ける。 - 特許庁

Then, in combination of the first cell type and the second cell type, positional information of a plurality of cell pairs is acquired, and the first cell and the second cell are combined to generate a combination cell from the cell pairs in descending order of the number of cell pairs among a group of pairs in the same position (Step S31).例文帳に追加

続いて、第１セル種類および第２セル種類の組み合わせにおいて複数のセルペアの位置情報を求め、ペア数が多い同位置ペア群のセルペアから順に、第１セルと第２セルとが合成されて合成セルが生成される（ステップＳ３１）。 - 特許庁

The driving method comprises a step for writing a pixel state initialization signal in pixels more than once, and even when only the first writing of the initialization signal is insufficient, the 2nd writing and thereafter supplement the first writing to surely write the initialization signal, thereby improve the initialization effect.例文帳に追加

複数回の画素状態初期化信号の画素書込みステップとを有し、1回の初期化信号の書き込みでは書き込みが不十分な場合でも、２回目以降の書き込みでこれを補完し、初期化信号を確実に書き込み、それにより初期化効果を改善する。 - 特許庁

In a mapping means 12 or a mapping step, pixels on a first coordinate system to be made correspond on a correspondence table T are mapped on a second coordinate system by referring to the correspondence table T in which the first coordinate system is made correspond to the second coordinate system.例文帳に追加

マッピング手段１２が又はマッピングステップにおいて、第１の座標系と第２の座標系とを対応付ける対応テーブルＴを参照して、第２の座標系上に、対応テーブルＴにおいて対応付けられた第１の座標系上の画素をマッピングする。 - 特許庁

The last winding B13 in a second layer and a first winding C1 in a third layer are crossed, to make the first winding C1 in this third layer pass through an aligned groove part 206 formed by the last winding B13 in the second layer and a winding B12 in one step before the last winding B13.例文帳に追加

第２層目の最終巻線Ｂ１３と第３層目の第１巻線Ｃ１とを交差させて、この第３層目の第１巻線Ｃ１を、第２層目の最終巻線Ｂ１３とその１段前の巻線Ｂ１２とのなす整列溝部２０６を通す。 - 特許庁

In the case the image forming operation is started after the lapse of a fixed time, from a first round to a third round or from the first round to a fourth round, the image forming apparatus makes at least one selected from Vdc, Vpp and a duty ratio among developing biases variable (step S3).例文帳に追加

画像形成装置は、一定時間経過後に画像形成動作を開始する場合、現像ローラの１周目から３周目又は１周目から４周目までの間、現像バイアスのうちＶｄｃ、Ｖｐｐ、デューティ比の少なくとも１つを可変する（ステップＳ３）。 - 特許庁

In a photo mask MS, first and second patterns A and B are formed respectively in first and second section regions XL and XR that a one- shot region with a length X of one side is halved (X/2) in a step direction STP of a board to be processed.例文帳に追加

ホトマスクＭＳにおいて、一辺の長さＸを有するワンショット領域を被処理基板ＳＢのステップ方向ＳＴＰに沿って２等分（Ｘ／２）した第１，第２の区分領域Ｘ_Ｌ，Ｘ_Ｒにそれぞれ第１及び第２のパターンＡ，Ｂを形成する。 - 特許庁