「Phase shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

To deal with the exposure for patterning where micro patterns with different pitches coexist closely and to accurately form micro patterns at enough production process margin without using a photo mask such as Levenson-type phase shift mask that has a complicated production process and is high in manufacturing cost.例文帳に追加

ピッチの異なる微細なパターンが近接して混在するパターニングを行うための露光にも対応し、レベンソン型位相シフトマスクの如き製造プロセスが煩雑で製造コストの高いフォトマスクを用いることなく、十分な製造プロセスマージンで微細なパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

The medium induces between three waves a propagation phase-shift that has a value π if the three waves travel a coherence length in the medium and that is compensated at the value 0 modulo 2π each time that the three waves travel a periodic distance in the medium.例文帳に追加

媒体は、３つの波が媒体中コヒーレンス長進めば、値がπである伝搬位相シフトを３つの波間に引き起こし、および３つの波が媒体中を周期的距離を進むごとに値０ ｍｏｄｕｌｏ ２πで補償される伝搬位相シフトを３つの波間に引き起こす。 - 特許庁

A bias voltage is applied to the center conductor 2a of the coplanar transmission line 2 to cause a strain in the piezoelectric 3, this changing the capacitance between the center conductor 2a of the transmission line 2 and the piezoelectric 3 to control the phase shift quantity.例文帳に追加

コプレーナ伝送線路２の中心導体２ａにバイアス電圧を印加することにより橋状圧電体３に歪みを発生させ、その時のコプレーナ伝送線路２の中心導体２ａと橋状圧電体３との間のキャパシタンスの変化により移相量を制御する。 - 特許庁

In a recovery mode, a positive pulse voltage is fed to ejection electrodes 20 in group X and a pulse voltage having a phase shift of one half period from the pulse voltage being fed to ejection electrodes 20 in group X is fed to ejection electrodes 20 in group Y.例文帳に追加

回復モードにおいて、Ｘグループの吐出電極２０に対して、正のパルス電圧を供給するとともに、Ｙグループの吐出電極２０に対して、Ｘグループの吐出電極２０に供給されるパルス電圧の位相を１／２周期だけずらしたパルス電圧を供給する。 - 特許庁

Each of the biphase modulators includes a pair of switchable attenuators for varying the degree of phase shift of the symbols to form the various constellations for the 8 PSK, 16 PSK, 16 QAM, 12/4 QAM, 32 QAM and 64 QAM and higher signals.例文帳に追加

二相変調器の各々は、８ＰＳＫ、１６ＰＳＫ、１６ＱＡＭ、１２／４ＱＡＭ、３２ＱＡＭおよび６４ＱＡＭおよびそれより高い信号に関する様々なコンステレーションを形成するために、シンボルの位相シフトの度合いを変えるための１対の切り替え可能な減衰器を含む。 - 特許庁

After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.例文帳に追加

基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁

When a phase shift of a reproduced signal relative to a channel clock is to be evaluated, from difference between output from a waveform equalization circuit to equalize an input reproduced signal to a predetermined target equalization characteristic and the target equalization characteristic, a group delay characteristic with respect to a frequency of the waveform equalization circuit is fixed.例文帳に追加

入力された再生信号を所定の目標等化特性に等化する波形等化回路の出力と、該目標等化特性との差分から、前記再生信号のチャネルクロックに対する位相ずれを評価する際に、該波形等化回路の周波数に対する群遅延特性を一定とする。 - 特許庁

A full wave rectifier circuit 8 rectifies both output signals through a control amplifier 6 and a phase shift circuit 7 from a main amplifier 2 of a signal input source 1, and the rectified outputs are fed to a short time constant smoothing circuit 9 and a long time constant smoothing circuit 10.例文帳に追加

信号入力源１の主増幅器２から制御用増幅器６及び移相回路７を通して出力される両方の信号を両波整流回路８で整流し、この整流出力を短時間時定数平滑化回路９及び長時間時定数平滑化回路１０に加える。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

A power transmission control device 20 comprises a power transmission driver control part 26 which controls on/off timing of the plurality of switching elements TN1 to TN4 in the power transmission driver 12, and variably controls power to be transmitted to a power receiving device 40 from the power transmission device 10 by phase shift.例文帳に追加

送電制御装置２０は、送電ドライバー１２における複数のスイッチング素子ＴＮ１〜ＴＮ４の各々のオン／オフタイミングを制御して、フェーズシフトによって、送電装置１０から受電装置４０に伝送する電力を可変に制御する送電ドライバー制御部２６を有する。 - 特許庁

This method is for manufacturing of semiconductor devices by using the phase shift mask.例文帳に追加

本方法は、複数の実質的に透明な領域と複数の実質的に不透明な領域を含むパターンを有する位相シフトマスクを用いたリソグラフィー法であって、マスクパターンが少なくとも入射光の一部の位相をシフトし、かつ位相が実質的に等しく隔てられ、それによって与えられたリソグラフィーシステムの解像力が増加する。 - 特許庁

If steps 31 to 33 determine that a D range is selected, a vehicle speed VSP is below a given value VDPS, and a decelerating phase shift control condition is satisfied, a step 36 checks not the vehicle speed detection value VSP but a lower vehicle speed side look-ahead vehicle speed VSPINC corresponding to deceleration to determine whether normal deceleration is in effect.例文帳に追加

31〜33において、Ｄレンジで、車速ＶＳＰが所定値ＶＳＰ_S 未満で、且つ、減速時変速制御条件が揃っていると判定する時、36で車速検出値ＶＳＰよりも、減速度に応じた低車速側の先読み車速ＶＳＰ_INC をチェックして通常減速を判定する。 - 特許庁

When the assembly is placed in analyte solution, a detector of the apparatus is operated to detect a phase shift of the light wave reflected from the first and second reflection surfaces so as to detect a thickness change in a first reflection layer generated by the binding of the analyte to an analyte binding molecule.例文帳に追加

装置の検出器は、アセンブリを検体溶液内に置く場合、第１および第２反射面から反射される光波の位相シフトを検出することにより、検体の検体結合分子への結合から生じる第１反射層の厚さ変化を検出するように動作する。 - 特許庁

An optical distance D1 of a semiconductor layer 47 satisfies (2×D1)/λ=(1/2π)Φ1+N (N: an integer larger than 0), where Φ1 represents a phase shift amount on an interface formed with an insulating film 46s, and λ represents the center wavelength of incident light H.例文帳に追加

半導体層４７の光学的距離Ｄ１が、絶縁膜４６ｓとの界面における位相シフト量Φ１、および、入射する光Ｈの中心波長λとの関係において、（２×Ｄ１）／λ＝（１／２π）Φ１＋Ｎ（Ｎは、０以上の整数）を満たすように形成する。 - 特許庁

A method of manufacturing a photomask comprises: a step S12 of preparing a half-tone-type phase shift mask on which a mask pattern is formed; and a step S15 of forming a light-shielding frame by selectively applying a light-shielding material onto a region around the region in which the mask pattern is formed.例文帳に追加

実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、マスクパターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクを用意する工程Ｓ１２と、マスクパターンが形成された領域の周囲の領域に選択的に遮光材を塗布して遮光枠を形成する工程Ｓ１５とを備える。 - 特許庁

A laser beam 102 from a laser beam oscillator 101 is divided by means of a S/P separating mirror 104, intensity distribution of one laser beam 102a is converted in an annular zone shape by means of a phase shift member 105 on a mask 113, and the other laser beam 102b is maintained in a gauss shape and propagated on the mask 113.例文帳に追加

レーザ発振器１０１からのレーザビーム１０２をＳ／Ｐ分離鏡１０４で分離し、一方のレーザビーム１０２ａの強度分布を位相シフト部材１０５によりマスク１１３上で輪帯状に変換し、他方のレーザビーム１０２ｂはガウス状のままマスク１１３上まで伝播させる。 - 特許庁

The phase shift between respective distribution points caused by the electric length of the cable is passively compensated.例文帳に追加

高周波加速器の上り・下りの高周波信号をミキサーで混合することで全ての高周波信号分配箇所での位相にケーブル全体の電気長による位相を等しく加算でき、ケーブルの電気長変動による各分配箇所間での位相変動を受動的に補償する高周波信号の分配方法。 - 特許庁

It is allowed to install a temperature sensor, a lookup table wherein a relation between the temperature fluctuation detected by the temperature sensor and a phase shift is previously recorded, and a correcting means for correcting each dot position of the image data to an optional position in the effective writing area based on the temperature fluctuation.例文帳に追加

温度センサーと、温度センサーによって検知される温度変動と位相シフトとの関係が予め記録されたルックアップテーブルと、温度変動に基づいて有効書込領域での画像データの各ドット位置を任意位置に補正する補正手段とを有していてもよい。 - 特許庁

To keep constant the step quantity between observation points even when a diameter is changed, or when a work is a tapered, or when a measuring object has different shapes such as a drum-shaped roller, and to thereby accurately measure the shape without generating difference of a phase shift quantity or difference of a measuring resolution.例文帳に追加

直径が変わった場合、ワークがテーパー状の場合、太鼓状ローラ等、被測定物の形状が異なる場合であっても、観察点間のステップ量を一定に保つことができ、位相シフト量の違いや測定分解能の違いが生じず正確に形状測定できること。 - 特許庁

An SOC fault detector 33 counts the length from a high pulse to the next one for an R_SOC signal read from the FIFO memory 22, monitors the occurrence of a fault, and compares the phase between the R_SOC signal and a reference SOC signal for detecting the shift width of the high pulse.例文帳に追加

ＳＯＣ異常検出部３３はＦＩＦＯメモリ２２から読出したＲ＿ＳＯＣ信号についてハイパルスから次のハイパルスまでの長さをカウントし、異常が発生していないかを監視し、Ｒ＿ＳＯＣ信号と基準ＳＯＣ信号との位相を比較してハイパルスのずれ幅を検出する。 - 特許庁

While reducing an amplification factor of a whole circuit, a phase margin is enlarged more by carrying out direct input of output voltage of a differential amplitude circuit 12 to which potential of nodes A and B of a band gap cell circuit 2 is given as a differential input signal to a level shift circuit 13.例文帳に追加

バンドギャップセル回路２の接続点Ａ，Ｂの電位が差動入力信号として与えられる差動増幅回路１２の出力電圧をレベルシフト回路１３に直接入力することで、回路全体の増幅率を低下させると共に位相余裕度をより大きくする。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a device for controlling a vehicular drive unit capable of reducing more a shift shock, by changing a torque compensation amount in torque phase compensation control in response to an under towing state or a non-towing state, in the vehicular drive unit having a stepped automatic shifting part.例文帳に追加

有段の自動変速部を有する車両用駆動装置において、トーイング中か否かに応じてトルク相補償制御におけるトルク補償量を変更することにより変速ショックの一層の低減を図ることができる車両用駆動装置の制御装置を提供する。 - 特許庁

The correction processing section 18 receives a digital signal resulting from applying double over-sampling to digitized I, Q signals by an I signal processing digital filter 17a and a Q signal processing digital filter 17b and corrects a phase shift of the I, Q signals on the basis of the select signal.例文帳に追加

補正処理部１８では、ディジタル化されたＩ信号、Ｑ信号をＩ信号処理用ディジタルフィルタ１７ａ、Ｑ信号処理用ディジタルフィルタ１７ｂで２倍オーバサンプリングした後のディジタル信号に対し、前記前記セレクト信号をもとにＩ信号，Ｑ信号の位相ずれを補正する。 - 特許庁

If the change of the output line voltage of the inverter exceeds a prescribed value, a predetermined bias is added to at least one of the voltage commands to shift the phase of the PWM signal so as not to change simultaneously the output voltages of a plurality of phases of the inverter.例文帳に追加

インバータの出力線間電圧の変化幅が予め設定した所定値を超える場合に、前記電圧指令の少なくとも１つに予め設定したバイアスを加算してＰＷＭ信号の位相をずらし、インバータの複数相の出力電圧が同時に変化しないようにする。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

In an exposure device, a plurality of different masks (OPC mask or phase shift mask) corresponding to the pattern P1 are prepared, and a reticle is selected as capable of imprinting a device pattern accurately based on a measurement inspecting result of reticle pattern or measurement inspecting result of wafer pattern.例文帳に追加

露光装置では、パターンＰ１に相当する複数の異なるマスク（ＯＰＣマスク又は位相シフトマスク）が用意されており、レチクルのパターンの測定検査結果やウエハのパターンの測定検査結果などに応じて、デバイスパターンを精度良く転写することが可能なレチクルを選択する。 - 特許庁

At the time when the measured value of pressure of a gaseous phase section within an underground tank with a pressure gauge reaches a specified pressure corresponding to an inspection pressure value, prior to initiation for the leakage judgment processing, an inspection initiation transition confirmation processing is implemented to judge whether or not shift to the leakage judgment processing is permitted.例文帳に追加

圧力計測機器による地下タンク内の気相部の圧力の測定値が、検査圧力値に対応した所定圧力にいたった時点で、漏洩判定処理を開始する前に、漏洩判定処理に移行できるか否かの判定を行う検査開始移行確認処理を行う。 - 特許庁

A stroboscopic phase shift interference device sets optical path difference, measures the height of the MEMS under operation at a plurality of phases at three or more points with respect to the set optical path difference, calculates an estimation equation of height locus of the MEMS under operation, and determines the shape of the MEMS under operation by calculation.例文帳に追加

ストロボ位相シフト干渉装置において、光路差を設定し、設定した光路差に対し３点以上の複数位相で動作中のＭＥＭＳの高さを計測し、動作状態のＭＥＭＳの高さ軌跡の推定式を算出し動作状態のＭＥＭＳの形状を計算により求める。 - 特許庁

The improved photomask has a transparent plate having the layer of a phase shift material(PSM) patterned based on a first configuration and a chromium layer patterned based on a second configuration formed on the patterned PSM layer.例文帳に追加

この改良型のフォトマスクは、自体の上に形成された、第１のコンフィギュレーションに基づいてパターニングされた位相シフト材料（ＰＳＭ）の層と、パターニングされたＰＳＭ層の上に形成された、第２のコンフィギュレーションに基づいてパターニングされたクロム層とを有する透明なプレートを備える。 - 特許庁

A phase shift occurring between an output voltage applied to a load 4 and an output current from a generation power system 3 is corrected by inserting a current source 8 into the main line route 6 of the generation power system 3 and feeding a compensation current from the current source 8 to the main line route 6.例文帳に追加

発電電力系統３の本線経路６に電流源８を挿設し、該電流源８から本線経路６に対して補償電流を付与することで、負荷４にかかる出力電圧と発電電力系統３からの出力電流との間に生じた位相のズレを補正する。 - 特許庁

A phase shift circuit 25 provides a time delay equal to a relative time difference between output signals EM, ES from the microphone 21, 22 within a range of a sound wave incident angle of 0°-90° to the output signal EM of the microphone 21 so as to reduce the time difference between the output signals EM, ES.例文帳に追加

マイクロホン２１の出力信号Ｅ_Mに、移相回路２５で、音波の入射角が０°〜９０°の範囲内の所定方向におけるマイクロホン２１，２２の出力信号Ｅ_M，Ｅ_Sの相対時間差に等しい時間遅延を付与し、出力信号Ｅ_M，Ｅ_Sの時間差を軽減する。 - 特許庁

In order to theoretically approximate a waveform shape of a general spectrum of an interference wave, an approximate expression f(x) in consideration of the phase shift, drift or offset of a cosine function is formed, and a fundamental expression showing the relation with quadratic differential f"(x) of the approximate expression is stored in a storage part 7.例文帳に追加

干渉波の一般的なスペクトルの波形形状を理論的に近似するために、余弦関数の位相シフト、ドリフト及びオフセットを考慮した近似式ｆ（ｘ）を作成し、その近似式の２次微分ｆ”（ｘ）との関係を表す基本式を記憶部７に格納しておく。 - 特許庁

A passive grating waveguide is installed additionally on the back of a symmetric λ/4 distributed feedback semiconductor laser, which comprises a λ/4 phase shift structure in a part of a diffraction grating, its backward reflectance is effectively set increased, its forward output is enhanced, and dispersion the side-mode suppression ratio is reduced.例文帳に追加

回折格子の一部にλ／４位相シフト構造を有する対称λ／４分布帰還型半導体レーザの後方にパッシブグレーティング導波路を付設し、後方反射率を実効的に大きくして前方出力を向上すると共に、サイドモード抑圧比のばらつきを小さくする。 - 特許庁

In the cryptograph key information receiving section, a random phase shift is provided to a feedback reference optical pulse and overlapped on a feedback signal optical pulse, is split, in response to a polarization state by a polarization optical splitter, and is detected by an APD (avalanche photodiode) which is suspended only for a release time of trap carriers, thereby obtaining a cryptograph key.例文帳に追加

暗号鍵情報受信部では、帰還参照光パルスにランダムな位相シフトを与えて遅延させ、帰還信号光パルスと重ね合わせて、偏光分割器で偏光状態に応じて分離し、トラップキャリアの緩和時間だけ休止させるAPDで検出することで、暗号鍵情報を得る。 - 特許庁

To provide a piezoelectric resonator not employing a lead material, which can remarkably suppress the phase shift distortion due to spurious vibrations in the thickness sliding vibration or the thickness longitudinal vibration and enhance the processing yield while suppressing deterioration in the P/V (=20 log(anti-resonance impedance/resonance impedance) due to the spurious vibration.例文帳に追加

厚み滑り振動や厚み縦振動においてスプリアス振動に伴う移相歪みの発生を著しく抑制し、スプリアス振動によるＰ／Ｖの低下を抑えながら加工歩留まりを向上した非鉛からなる圧電共振素子および圧電共振装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spindle motor control circuit which can smooth the rotation control of a spindle motor in the start of phase control which occurs in mode shift, can suppress the adverse influence of vibration, etc., to an optical servo system on an optical disk and can stably read the optical disk.例文帳に追加

モード移行時に起こる位相制御開始時のスピンドルモータの回転制御をスムーズにすることができるとともに、光ディスクに対する光学サーボ系への振動等の悪影響を抑えることができ、光ディスクを安定して読み取ることができるスピンドルモータ制御回路を提供する。 - 特許庁

The clock skew is adjusted by operating a phase shift circuit 7 to apply the clock skew between the clock input of the device 2A and the clock input of the data source 5 and a voltmeter 8 is used to read the DC offset of a data output caused by the device 2A.例文帳に追加

クロック・スキューの調整は、位相シフト回路７を操作して、装置２Ａのクロック入力とデータソース５のクロック入力との間にクロック・スキューを与え、電圧計８を用いて、装置２Ａによって生じるデータ出力のＤＣオフセットを読み取ることによって達成される。 - 特許庁

The first transport block size index is a transport block size index corresponding to the smallest transport block size in the combination index table, and the combination index table and a transport block size table are used when quadrature phase shift keying (QPSK) modulation, 16 quadrature amplitude modulation (16QAM) or 64 quadrature amplitude modulation (64QAM) is activated.例文帳に追加

第一トランスポートブロックサイズインデックスは、組み合わせインデックス対照表のうち最小トランスポートブロックサイズに対応するトランスポートブロックサイズインデックスであり、組み合わせインデックス対照表とトランスポートブロックサイズ対照表はＱＰＳＫ、１６ＱＡＭ、または６４ＱＡＭの起動時に使用される。 - 特許庁

To provide an optical film which has suitable phase shift characteristics meeting various demand for optical compensation and being maintained in high temperature environment of equal to or more than 100° and facilitates design and production of a liquid crystal display device and to provide its manufacturing method and a liquid crystal display device.例文帳に追加

多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が１００°以上の高温環境下でも保持され、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Then, a phase of a data sampling period in the optical sensor unit 20a and that of a data sampling period in the optical sensor unit 20b are made to shift to each other so that the data sampling is performed with a substantially shorter sampling period to synthesize these data by the data processing apparatus 50.例文帳に追加

そして、光学的センサユニット２０ａにおけるデータのサンプリング周期の位相と、光学的センサユニット２０ｂにおけるデータのサンプリング周期の位相をずらすことにより、実質的により短いサンプリング周期でデータのサンプリングを行い、これらのデータをデータ処理装置５０によって合成する。 - 特許庁

A resist film 21 after being formed by coating a substrate 20 with negative resist is irradiated with exposure light 22 through a half-tone type phase shift mask 10 having an isolated shading part 11 of 50% in light transmissivity and a massed shading part 12 of 25% in light transmissivity.例文帳に追加

基板２０上にネガ型レジストを塗布してレジスト膜２１を形成した後、光透過率５０％の孤立遮光部１１と、光透過率２５％の密集遮光部１２とを備えたハーフトーン型位相シフトマスク１０を介してレジスト膜２１に露光光２２を照射する。 - 特許庁

Then, the a second transmission signal component included in the first amplified signal is removed by mixing the first amplified signal with the second signal whose level is inverted by a mixing part 106 after inverting the level of the second amplified signal by a phase shift part 105.例文帳に追加

そして、増幅した第２の信号のレベルを移相部１０５によって反転させた後、増幅された第１の信号とレベルを反転させられた第２の信号とを混合部１０６で混合することによって、増幅された第１の信号に含まれる第２の送信信号成分を除去する。 - 特許庁

Each MMI coupler 51 branches an optical signal, and an optical signal that undergoes an optical filter with a desired band characteristic can be outputted from a prescribed waveguide arm 52 of the MMI coupler 51 on the final stage by utilizing light interference at the MMI couplers 51 due to the existence of an optical path difference in passing through the three waveguide arms 52 each and setting phase shift quantity by the phase shifter arrays 53.例文帳に追加

各ＭＭＩカプラ５１によって光信号が分岐され、３本ずつの導波路アーム５２を通過した際の光路差の存在によるＭＭＩカプラ５１での光の干渉を利用し、位相シフタアレイ５３による位相のシフト量の設定によって、最終段のＭＭＩカプラ５１の所定の導波路アーム５２からは所望の帯域特性の光フィルタを経た光信号を出力することができる。 - 特許庁

An input buffer (inverter G_1), full band passing circuits (DELYIANNIS phase shift circuits) having at least two secondary transmission functions and an output buffer (inverter G_2) are sequentially connected, the full band passing circuits having the two secondary transmission functions have phase characteristics with respect to different frequencies and are cascade connected to obtain the approximately fixed delay time over the wide frequency band.例文帳に追加

入力バッファ（インバータＧ_１）と、少なくとも２個の２次の伝達関数を持つ全帯域通過形回路（ＤＥＬＹＩＡＮＮＩＳ形移相回路（Ｉ），（ＩＩ）と、出力バッファ（インバータＧ_２）とを順次接続し、２個の２次の伝達関数を持つ全帯域通過形回路は、異なる周波数に対する位相特性を有し、従続接続することで広い周波数帯域においてほぼ一定の遅延時間とする。 - 特許庁