「Step Rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

During the step of removing the coating material from the patterning device, the temperature of the patterning device does not exceed a critical temperature causing damage to the patterning device, while maintaining a plasma etching rate of at least 0.2 μm/min, particularly 0.5 μm/min, particularly 1 μm/min, particularly 2.5 μm/min, particularly 5 μm/min.例文帳に追加

コーティング材料をパターニングデバイスから除去する工程中、パターニングデバイスの温度はパターニングデバイスに損傷を生じさせる臨界温度を超えず、プラズマエッチング速度は少なくとも０．２μｍ／分、特には０．５μｍ／分、特には１μｍ／分、特には２．５μｍ／分、特には５μｍ／分で維持される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, for suppressing contamination caused by metal in a treatment chamber and damage of quartz members while suppressing a decrease in film forming speed in a thin film forming step immediately after dry cleaning in the treatment chamber, and improving an apparatus operation rate, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

処理室内のドライクリーニング直後の薄膜形成工程における成膜速度の低下を抑制しつつ、処理室内の金属汚染や石英部材の破損を抑制すると共に、装置稼働率を向上させる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing toner by polymerization method using a stirring blade of such optimum shape as to produce a circulating flow rate sufficient to prevent the formation of a thermal distribution in a stirring tank in a polymerization reaction step and as not to cause a vortex or suction of bubbles from a liquid surface.例文帳に追加

重合反応工程において撹拌槽内に熱的分布を生じない十分な循環流量を生じ、かつボルテックスや液表面からの気泡の巻き込みなどを生じないような最適な形状の撹拌翼を用いる重合法トナーの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an elastic conductive adhesive capable of attaining the connection of connected parts with excellent stress relaxation performance by using a conductive adhesive, wherein compatibility between a low elastic rate and low electric resistance is established while maintaining productivity in an electronic component mount step high, and to provide an inter-electrode connection structure.例文帳に追加

電子部品実装工程での生産性を高く維持したまま、低弾性率化と低電気抵抗化とを両立した導電性接着剤を用いて、接続部での応力緩和性能に優れた接続を可能とする弾性導電接着剤及び電極間接続構造を提供する。 - 特許庁

In an upper layer main etching step for removing unnecessary parts of a Ti/TiN layer 16 and a BARC (bottom anti-reflective coating) layer 17, the etching rates of the Ti/TiN layer 16 and the BARC layer 17 are larger than the etching rate of an AlCu layer 15 as its etching conditions.例文帳に追加

Ｔｉ／ＴｉＮ層１６およびＢＡＲＣ層１７の不要な部分を除去するための上層メインエッチング工程では、エッチング条件が、Ｔｉ／ＴｉＮ層１６およびＢＡＲＣ層１７のエッチングレートがＡｌＣｕ層１５のエッチングレートよりも大きくなるような条件とされる。 - 特許庁

In the step, the method of further spraying the carrier gas from the top-blowing lance toward the surface of the molten pig iron after completing the addition of the desulfurizing agent, and the method of making a flow rate of the carrier gas colliding with the bath surface of the molten pig iron at 10 m/second or more can make the desulfurization reaction more efficient.例文帳に追加

その際に、前記脱硫剤の添加完了後、更に、上吹きランスから搬送用ガスを溶銑表面に向けて吹き付けること、及び、溶銑の浴面に衝突する搬送用ガスの流速を１０ｍ／秒以上とするなどにより、脱硫反応を効率良く行なうことができる。 - 特許庁

An injection rate of a resin is brought into 1.2 cm^3/sec or more when filling a cavity CV, and the resin is thereby prevented from being solidified under the condition where the resin is not filled sufficiently into micro-fine structure SS corresponding to the ring-band-like step difference structure over the whole of the cavity CV.例文帳に追加

キャビティＣＶの充填時の樹脂の射出率を１．２ｃｍ^３／ｓｅｃ以上とするので、キャビティＣＶの全体にわたって輪帯状の段差構造に対応する微細構造ＳＳに樹脂が十分入りきらない状態で固化することを防止できる。 - 特許庁

The differential feed sewing machine 1 has a sewing drive portion 2 for performing a gather stitch, an EEPROM 10d for storing a set sewing length set at every sewing step and a set feeding rate per stitch, and a control section 10 for making the sewing drive portion 2 sequentially perform a plurality of sewing steps.例文帳に追加

差動送りミシン１は、いせ込み縫いを行う縫製駆動部２と、縫製ステップ毎に設定された設定縫製長さ及び一針当たりの設定送り量を記憶するＥＥＰＲＯＭ１０ｄと、複数の縫製ステップを縫製駆動部２に順次行わせる制御部１０とを有する。 - 特許庁

The maximum outer peripheral diameter of the upper part sealing member 48, the lower part sealing member 50, and the float rod 38 is formed as substantially the same diameter, and the float rod 38 is displaced under energization action of a step motor 12 to control flow rate of fluid by distance of separation of the valve element 40 from a valve seat 30.例文帳に追加

この上部シール部材４８、下部シール部材５０及びフロートロッド３８の最大外周径が略同一に形成され、ステップモータ１２の付勢作用下にフロートロッド３８が変位して弁体４０の弁座３０に対する離間距離により流体の流量が制御される。 - 特許庁

To improve the efficiency of a step of cutting the surface of a surface drawn layer and finally adjusting the transmitted flow rate by stabilizing the property of the surface drawn layer of a porous static pressure gas bearing, and to stabilize the quality of the porous static pressure gas bearing.例文帳に追加

多孔質静圧気体軸受の表面絞り層の性状を安定させることによって、表面絞り層の表面を切削して透過流量を最終的に調整する工程の能率を改善するとともに、製造される多孔質静圧気体軸受の品質を安定させる。 - 特許庁

The method for producing LaAlO3 ceramics has a sintering step wherein after heating powder of LaAlO3 to the sintering temperature of 1,600°C to 1,800°C at a rate of temperature increase of 40°C/min or more, the powder is sintered by maintaining for 3 min to 45 min at the sintering temperature.例文帳に追加

ＬａＡｌＯ３の粉末を４０℃／分以上の昇温速度で１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱した後、前記焼結温度に３分以上４５分以下の時間保持して焼結する焼結工程をＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。 - 特許庁

To provide a chlorine-free dewaxing assistant for a solvent dewaxing method containing a step to cool at a cooling rate of ≥30°C/min, free from the unavoidable short points of dewaxing assistants (chlorine-content and corrosion by decomposition product) and effective even for heavy wax-containing hydrocarbon oil.例文帳に追加

冷却速度が３０℃／分以上の速度で冷却される工程を含む溶剤脱ロウ法において、脱ロウ助剤が回避することができない短所（塩素含有、分解時の生成物による腐食）がなく、ヘビー系含ロウ炭化水素油にも有効な塩素フリーの脱ロウ助剤を開発する。 - 特許庁

The process basically includes a step for supporting a predetermined quantity of metallic seals at non-sealing surface locations with the metallic seals disposed in series on a conveyor having a predetermined processing path, and a step for continuously moving the seals in series through an electro-plating stage of the processing path to electro-deposit a metallic coating on the seals using a high current density and a high chemical flow rate.例文帳に追加

本発明のめっき方法は、基本的に、所定数の金属シールを非シール表面位置で、金属シールが所定のプロセス経路を有するコンベアに直列に配置された状態で、支持するステップと、直列のシールを、高電流密度および高化学的フローレートを用いて金属コーティングをシール上に電着するプロセス経路の電気めっきステージを通して、連続的に移動させるステップと、を含む。 - 特許庁

This method and system comprises the step of measuring the passing flow rate in a prescribed part of a feed pipe in a system consisting of the feed pipe used for supply of the water used in an apparatus, the apparatus communicating with the feed pipe, and a drain pipe communicating with the apparatus and use to discharge the water used in the apparatus, and the step of processing the measurement result.例文帳に追加

器具にて使用する水の供給に用いられる給水管と、前記給水管に連通する器具と、前記器具と連通し、器具にて使用した水の排出に用いられる排水管からなる系において、給水管の所定部分における通過流量を計測する工程と計測結果を処理する工程とを含むことを特徴とする器具使用状況測定方法および管理システムを提供する。 - 特許庁

The method for producing a polyarylene sulfide resin comprises step I where a sulfidizing agent and an aromatic dihalo compound (A) are allowed to react with each other in an organic polar solvent until the consumption rate of the sulfidizing agent attains to ≥ 90 mol.% , followed by step II where an aromatic polyhalo compound (B) bearing a substituent having electron attractive resonance effect is added and allowed to react them to complete the polymerization reaction.例文帳に追加

スルフィド化剤とジハロ芳香族化合物（Ａ）とを有機極性溶媒中でスルフィド化剤の消費率が９０モル％以上に到達するまで反応させる工程Ｉと、次いで、電子求引性の共鳴効果を持つ置換基を芳香環上に有するポリハロ芳香族化合物（Ｂ）を添加し反応させて重合反応を終結する工程ＩＩからなるポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法。 - 特許庁

A presentation controlling CPU 101 can execute advance-notice presentation to gradually change the presentation mode from the first stage to a plurality of stages according to a predetermined order, and executes first step-up advance-notice presentation and second step-up advance-notice presentation with a high rate of executing advance-notice presentation to gradually change the presentation mode to higher stages when a jackpot is made than when a jackpot is not made.例文帳に追加

演出制御用ＣＰＵ１０１は、予め定められた順番に従って１段階から複数段階まで演出の態様を段階的に変化させる予告演出を実行可能で、大当りとする場合は大当りとしない場合よりも多い段階まで演出の態様を段階的に変化させる予告演出を実行する割合が高い第１ステップアップ予告演出と第２ステップアップ予告演出とを実行する。 - 特許庁

To provide a vehicular arm component which can be formed quickly and easily by pressing or hemming without performing a welding step, can be manufacture with a high yield rate, is cost effective, and has excellent strength and hardness against the repeated application of compressive and tensile forces, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

溶接工程を行うことなく、プレス加工やヘム加工により迅速かつ簡単に成形可能であって、材料の歩留まりもよく、コスト的にも有利で、繰り返し作用する圧縮力や引張り力に対しても十分強度あるいは剛性のある車両用アーム部品とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the step S1, the antifreezing agent 4 is injected from two or more inlets 12A at 0.01-1.0 L/min injecting rate per inlet to the surface of the mixed solution 3 while stirring the mixed solution 3 by the rotation of stirring blades 11 rotating at 1.0-10.0 m/s tip speed.例文帳に追加

このステップＳ１では、先端速度が１．０〜１０．０ｍ／秒で回転する攪拌羽根１１の回転により前記混合溶液３を攪拌しながら、その表面に、前記凍結防止剤４を複数個の注入口１２Ａから１個の注入口当たり０．０１〜１．０リッタ−／分の注入速度で注入する。 - 特許庁

The manufacturing method of clathrate hydrate includes the step of cooling a water-drop-in-oil type emulsion containing a substance which is to serve as a guest substance of clathrate hydrate, water, oil and a surfactant with stirring, wherein the water is contained in the emulsion at a specific rate.例文帳に追加

本発明は、クラスレートハイドレートのゲスト物質となるべき物質と水と油と界面活性剤とを含有する油中水滴形エマルジョンを撹拌しながら冷却する工程を有するクラスレートハイドレートの製造方法であって、前記エマルジョン中に前記水を特定の割合で含有させる、製造方法を提供する。 - 特許庁

An adaptive advance system for the construction machine (10) senses reaction forces applied by a ground surface (14) to a milling drum (12), and in response to the sensed changes in those reaction forces controls motive power applied to an advance drive device (40, 42) of the machine (10) or a step for slowing a rate of lowering the rotating milling drum (12).例文帳に追加

建設機械（１０）用の適応前進システムが、地面（１４）によってミリングドラム（１２）に加えられる反力を検知し、そうした反力の検知された変化に応答して、機械（１０）の前進駆動装置（４０、４２）に加えられる推進パワー、又は回転するミリングドラム（１２）を下げる速度を低下させるステップを制御する。 - 特許庁

A method for evaluating a single crystal silicon wafer includes a first step S11 for dry etching a mirror-finished surface 10a of a single crystal silicon wafer 10 on a condition that the etching rate of Si is higher than that of SiO_2, and second steps S12 and S13 for measuring the number of pits existing on the dry etched surface.例文帳に追加

鏡面加工された単結晶シリコンウェーハ１０の表面１０ａに、ＳｉＯ_２よりもＳｉのエッチング速度が大きい条件でドライエッチングを施す第１の工程Ｓ１１と、ドライエッチングされた前記表面に存在するピットの個数を計測する第２の工程Ｓ１２，Ｓ１３とを備える。 - 特許庁

A refrigerant control board 18 performs opening/closing control of refrigerant flow control valves 15a, 15b to close the refrigerant flow control valves 15a, 15b and step number control by stopping a heat exchanger 14a, and performs flow rate control of a refrigerant by performing opening control of the refrigerant flow control valves 15a, 15b.例文帳に追加

冷媒制御盤１８は、冷媒流量調整弁１５ａ，１５ｂの開閉制御を行って該冷媒流量調整弁１５ａ，１５ｂを閉にし、熱交換器１４ａを停止させて段数制御を行うと共に、冷媒流量調整弁１５ｃ、１５ｄの開度制御を行うことによって冷媒の流量制御を行う。 - 特許庁

When it is judged from the calculation results that the difference between the input values of the environmental sound and speech communication sound is larger than a prescribed threshold, it is judged that the user uses the mobile terminal equipment nearby the speaker for speech communication with high possibility, and the CPU varies the recognition rate of the touch panel (step S6).例文帳に追加

算出結果に基づいて環境音と通話音との音声信号の入力値の差が所定の閾値以上であると判断された場合には、利用者は携帯端末機器の通話用スピーカに近接して利用している可能性が高いと判断されるため、ＣＰＵは、タッチパネルの認識率を変更する（ステップＳ６）。 - 特許庁

In a primary processing step of the fluid polishing method in which a slurry (7) is supplied by supply devices (2a, 2b) to polish a fine hole on a workpiece (5), the supply devices are stopped before a predetermined fine hole is processed, and a first operating fluid flow rate (Q1) at this time is measured.例文帳に追加

スラリー（７）を供給装置（２ａ，２ｂ）によりに供給して、工作物（５）に微小孔を研磨加工する流体研磨加工方法の１次加工工程においては、所定の微小孔を加工する前の段階で供給装置を停止し、この時点の第１の作動流体流量（Ｑ1）を計測する。 - 特許庁

Then, an energy average and a laser output average are obtained per constant time Ta based on the cumulative value of one pulse energy and displayed, and also a lamp power average QM and a lamp power induction rate KM are obtained by a computation based on the cumulative value of the lamp powers (SV, SI) of one pulse (a step J5).例文帳に追加

そして、一定時間Ｔa 毎にパルス１個分のエネルギーの累積値を基にエネルギー平均値およびレーザ出力平均値を求めて表示するとともに、パルス１個分のランプ電力（ＳV ・ＳI ）の累積値を基にランプ電力平均値ＱM およびランプ電力投入率ＫM を演算で求める（ステップＪ5 ）。 - 特許庁

Since the etching rate of a SiO2 film 3 for isolation in the n-type well 6, into which both of phosphorus and boron are implanted, is higher than that of the points where either of phosphorus or boron is implanted, a recess or step difference 3a is formed in the SiO2 film 3 during the etching operation of the SiO2 film 4 for protection which becomes positioning patterns 10.例文帳に追加

燐と硼素の双方が注入されるｎ型ウェル６でのアイソレーション用ＳｉＯ_2膜３のエッチングレートは、燐と硼素のいずれかが注入された箇所のそれよりも高くなるので、保護用ＳｉＯ_2膜４のエッチング工程でＳｉＯ_2膜３に位置合わせパターン１０となる窪みないし段差３ａが形成される。 - 特許庁

Before or during the step (ii), a nitride or oxynitride layer (5) of a semiconductor of the thin layer (3) is formed on the exposed region (3a) with a thickness sufficient to provide a ratio of the rate of oxygen diffusion though the exposed region (3a) to that through the region (3b) covered with the mask (4) that is greater than 2.例文帳に追加

ステップ（ii）の前又は最中に、薄い層（３）の半導体の窒化物又は酸窒化物の層（５）は、露出領域（３ａ）上に形成され、上記層（５）の厚さは、露出領域（３ａ）を通る酸素の拡散速度とマスク（４）で覆われる領域（３ｂ）を通る酸素の拡散速度との比が２より大きくなるようにする。 - 特許庁

Whether or not a step motor of an EGR valve exists in a zero point position is investigated (S900), and in EGRSTM ≠O, that is, when performing EGR, an actual EGR flow rate NEGR is determined on the basis of a present motor position EGRSTM, intake pipe pressure PM and an engine speed NE corresponding to valve opening of the EGR valve (S902).例文帳に追加

ＥＧＲ弁のステップモータが零点位置にあるか否かを調べ（Ｓ９００）、ＥＧＲＳＴＭ≠０すなわちＥＧＲ実施中のとき、ＥＧＲ弁の弁開度に対応する現モータ位置ＥＧＲＳＴＭと吸気管圧力ＰＭとエンジン回転数ＮＥとに基づいて実ＥＧＲ流量ＮＥＧＲを求める（Ｓ９０２）。 - 特許庁

The injection rate (cm^3/sec) of the screw feeder is maximized at the start of injection and decreased step-wise or gradually toward the completion of injection so that the temperature of the molten resin reaching the end parts of the cavity is lowered in the range of no solidification.例文帳に追加

キャビティの末端部に到達する溶融樹脂の温度が固化しない範囲で出来るだけ低くなるように、射出開始時のスクリューフィーダによる射出率（ｃｍ^３／ｓｅｃ）が最も大きく、射出終了に向かって段階的にまたは連続的に射出率（ｃｍ^３／ｓｅｃ）が小さくなるようにする。 - 特許庁

The production method of the copolymer for semiconductor lithography is the one for producing a copolymer having at least two kinds of repeating units, and the method includes a step of retaining the copolymer as a solution having a water content rate of from 350 ppm to 10 mass%.例文帳に追加

本発明による半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、少なくとも２種の繰り返し単位を含む半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であって、前記共重合体を含水率が３５０ｐｐｍ〜１０質量％である溶液として保持する工程を有するものである。 - 特許庁

Furthermore, the monitoring device is configured to change a bit rate at which video data is generated from an input signal of the camera, and the information processor judges from an extent of deterioration caused by a video data transmission step whether or not a state of video data received from the monitoring device is excellent for reproduction processing (S250).例文帳に追加

また、監視装置は、カメラの入力信号から映像データを生成する際のビットレートを変更可能な構成にされ、情報処理装置は、映像データの伝送過程による劣化の程度により、監視装置から受信した映像データの状態が、再生処理するのに良好な状態であるか否かを判定する（Ｓ２５０）。 - 特許庁

So, this system decides that the idling is already started in a decision step S2, when the time rate ΔV of the voltage command value V reaches a specified value A, and performs the traction control by reducing the drive power to be supplied from the inverter to the motor in a reduced control subroutine S4, thereby shortening the response time in traction control.例文帳に追加

そこで本発明では、電圧指令値Ｖの時間変化率ΔＶが所定値Ａに達したら、判定ステップＳ２で空転が始まっていると判定し、低減制御サブルーチンＳ４でインバータからモータへ供給する駆動電力を低減してトラクション制御を行うことにより、トラクション制御の応答時間を短縮する。 - 特許庁

The temperature rising rate of an organic metallic material in a vaporizing step is increased by using some of 2-methylpentane, 3-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, cyclopentane, methylal, ethyl formate, methyl acetate, and n-propylamine having a thermal capacity per unit volume of ≤56.5 J/ml as an organic solvent which dissolves the organic metallic material.例文帳に追加

有機金属原料を溶解する有機溶媒として、単位体積あたりの熱容量が５６．５Ｊ／ｍｌ以下の、２−メチルペンタン，３−メチルペンタン，２，２−ジメチルブタン，２，３−ジメチルブタン，シクロペンタン，メチラール，エチルホルメート，メチルアセテートおよびｎ−プロピルアミンのいずれかを使い、気化工程における有機金属原料の昇温速度を増大させる。 - 特許庁

The cool-down step is a process wherein Ar gas of the flow rate of 400-800 sccm is introduced into the plasma etching device for 80 seconds or more, and the pressure in the etching device is made at 200-300 mTorr, and high-frequency voltage of 150 W or less is applied to an upper electrode and a lower electrode, respectively.例文帳に追加

クールダウンステップは、プラズマエッチング装置内に４００sccm以上８００sccm以下の流量のＡｒガスを８０秒間以上導入し、エッチング装置内の圧力を２００ｍTorr以上３００ｍTorr以下にし、上部電極及び下部電極それぞれに１５０Ｗ以下の高周波電圧を印加する工程である。 - 特許庁

At a growing step of the group III nitride crystal, the inner pressure of the reaction vessel and the inner pressure of the pressure vessel are controlled by the nitrogen-containing gas by supplying the nitrogen-containing gas of the amount consumed by growth of the group III nitride crystal by using a pressure controlling vessel 116p and a flow rate controlling vessel 122f.例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物結晶の成長工程においては、ＩＩＩ族窒化物結晶の成長により消費された量の窒素含有ガスを供給し、窒素含有ガスにより、圧力調整器１１６ｐとガス流量調整器１２２ｆとを用いて、反応容器の内圧および耐圧容器の内圧を制御する。 - 特許庁

The solution of the pressure and flow rate components is substituted into the variational principle, a linear algebraic equation about the generalized coordinates is solved by an eigenfunction expansion method, and, in such a case, differentiation about the axial direction coordinates of the eigenvalue which arises because pipe cross sectional dimensions are not uniform in the axial direction is taken into consideration (step S4).例文帳に追加

圧力と流速成分の解を変分原理に代入し、固有関数展開法により一般化座標に関する線形代数方程式を解き、この際、パイプ断面寸法が軸方向に一様でないために生じる固有値の軸方向座標に関する微分を考慮する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The control device 31, determines that the possessor accesses the doorway from the antenna installation side if the field strength change rate e' is not larger than the first predetermined value E1' and larger than a second predetermined value E2' and the field strength e is larger than a third predetermined value E3 (Step 204, 228, 230).例文帳に追加

また、制御装置３１は、電界強度の変化率ｅ'が第１所定値Ｅ１'以下で第２所定値Ｅ２'より大きく、かつ、電界強度ｅが第３所定値Ｅ３より大きい場合には、所持者がアンテナが設置されている側から出入り口に進入すると判定する（ステップ２０４，２２８，２３０）。 - 特許庁

There is provided, a method for assessing the immune status of individuals including a step of detecting expression levels of one or more genes expressed in different levels depending on hematopoietic rate in individuals or the distribution of hematopoietic cell along their mutation paths.例文帳に追加

１つの実施形態において、個体の免疫状態を評価する方法であって、該個体における造血速度またはそれらの変異経路に沿った造血細胞の分布に依存して異なったレベルで発現される１つ以上の遺伝子の発現レベルを検出する工程を包含する、方法が提供される。 - 特許庁

The step(1) comprises continuously feeding the emulsion into a 1st tank, blowing pressurized steam into the emulsion in the 1st tank to evaporate the volatile organic compounds together with the steam and remove them from the emulsion and transferring the resultant emulsion into a 2nd tank at a rate equal to that of emulsion feed.例文帳に追加

工程（１）：第１槽にエマルションを連続的に供給し、同槽内に貯えられた該エマルションに加圧水蒸気を吹き込み、水蒸気とともに有機揮発性物質を蒸発させることにより該エマルションから有機揮発性物質を除去するとともに、供給速度と同等速度でエマルションを第２槽に移送する工程。 - 特許庁

To enhance an operation rate by rapidly carrying out an installment work of a paper tube on a winding shaft at a subsequent step, to transfer a winding product removed out from the winding shaft to a conveying tool and also transfer a winding product removed from the winding shaft at an upper stage, while avoiding a dangerous work, convey it to the outside of a slitter.例文帳に追加

速に次工程の巻取軸への紙管の装着作業を行なって稼働率の向上を図り、巻取軸から抜出した巻取製品を運搬具に移載できて、上段の巻取軸から抜出した巻取製品も危険作業を回避しながら運搬具に移載してスリッタ外へ搬出できるようにする。 - 特許庁

To provide a method which can solve such problems that (1) a polishing amount at the final polishing is large and a material loss become large, (2) a washing cost is high and (3) polishing grains are expensive, which are derived from a polishing step using cerium oxide abrasive grain, and further has small roll-off and can perform polishing at high polishing rate and to provide a polishing liquid.例文帳に追加

酸化セリウム砥粒を用いる研磨工程に由来する（１）最終研磨での研磨量が多く、材料ロスが大きくなること、（２）洗浄コストが高いこと、（３）砥粒が高価であること、等の問題を解消するとともに、ロールオフが小さく、高研磨レートで研磨できる方法、並びに研磨液を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a toner manufactured by a polymerization process has a step for transferring a treating liquid containing at least colored particles, wherein piping whose inner face has been smoothed is used as transfer piping 6, 13 and transfer is carried out at ≥0.7 m/sec flow rate.例文帳に追加

重合法により製造されるトナーの製造方法であって、少なくとも着色粒子を含有する処理液を移送する工程を有し、その際の移送配管６，１３として、内面を平滑化したものを用い、かつ、移送速度を流速０．７ｍ／ｓｅｃ以上の条件で行うことを特徴とする。 - 特許庁

When the contact between a vehicle concerned and an object ahead is judged unavoidable by steering at the time of the automatic braking operation, ("NO" in Step 24), a target slip rate S^* is set at S_2 larger than normal S_1, thereby limiting the operation of the anti-skid control and enhancing the braking performance of the automatic braking.例文帳に追加

自動ブレーキを作動させる際に、自車両が前方物体との接触を操舵回避できないと判断されるときには（ステップＳ２４の判定が“No”）、目標スリップ率Ｓ^*を通常のＳ_1よりも大きなＳ_2に設定することによって、アンチスキッド制御の作動を制限して自動ブレーキの制動性能を向上させる。 - 特許庁

Lens 1 molded in a mold 2 and taken out therefrom is annealed at a specified cooling rate in a specified temperature range determined by a resin material in an annealing step 10, thereby making a residual stress frozen inside of the lens 1 very small to prevent a shape of a transferred surface from being deteriorated.例文帳に追加

金型２内で成形加工して取り出したレンズ１に対して、徐冷工程１０で樹脂材料で定まる所定の温度範囲において所定の冷却速度で徐冷を行い、レンズ１の内部に凍結された残留応力を非常に小さくして転写面形状が劣化することを防ぐ。 - 特許庁

A warm water feed temperature Tjin before circulating a jacket, a discharge temperature Tjout after the circulation, a warm water flow rate Fw for circulating a feed pipe and a temperature Tc in a tank which are parameters necessary for determining cleaning timing are measured in a first heating step of a polymer synthesis process and input to an arithmetic processing part.例文帳に追加

清掃タイミング決定するのに必要なパラメータであるジャケットを循環する前の温水の供給温度Ｔjin、循環後の排出温度Ｔjout、供給管を循環する温水の流量Ｆw、および槽内の温度Ｔcとがポリマー合成過程の第１昇温過程で測定されて演算処理部に入力される。 - 特許庁