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defined processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 308



例文

To provide a process with which one can produce a non-polluting siloxane-urea-copolymer which has a high molecular weight and advantageous mechanical properties defined by the high molecular weight, e.g. high tear strength and high tear elongation, and shows good processability, e.g. low viscosity and a solvent freedom.例文帳に追加

高い分子量およびそれによって制限された有利な機械的性質、例えば高い引裂き強さおよび引裂時の伸びを有し、良好な加工特性、例えば低い粘度および溶剤自由度を示す、汚染のないシロキサン−尿素−コポリマーを得ることができる方法を提供する。 - 特許庁

The masking section 101 reads the character strings contained in the electronic document, determines whether or not the character string falls under the masking object character string representing a personal name according to prefixes and suffixes defined in the masking object determination dictionary 104, and performs the masking process such as a blank according to the determination result.例文帳に追加

マスキング処理部101は、電子文書に含まれる文字列を読み込み、マスキング対象判定辞書104に定義された接頭辞,接尾辞に応じて個人名を示すマスキング対象文字列に該当するか否かを判定し、当該判定結果に応じて伏字等のマスキング処理を行う。 - 特許庁

In a setting process, a new position to be reflected with the position of a detected defective memory page is set, choices for the operating mode of the defective memory page are defined, a page attribute is processed, processing in a normal access mode or page operating mode is instructed and an express page examination table is set.例文帳に追加

設定プロセスは、検出した欠陥メモリページの位置が反映される新しい位置を設定し、欠陥メモリページの作動モードの選択肢を定義し、ページ属性を処理し、正常アクセスモードまたはページ操作モードの処理を指示し、快速ページ調査テーブルを設定する。 - 特許庁

In a process step of spin coating of an organic planarization film 16, the upper limit value of the number of revolutions is specified to L×ω/2η<160, when the number of revolutions during drying and spinning right after coating is defined as ω, the opposite angle length of the substrate as L and the viscosity of the organic planarization film 16 as η.例文帳に追加

有機系平坦化膜16を回転コートする工程において、コーティング直後の乾燥スピン時の回転数ωを、基板の対角長をL、有機系平坦化膜16の粘性をηとした場合、回転数の上限値をL×ω/2η<160 にする。 - 特許庁

例文

The method of manufacturing optical film comprises a surface straightening process of pushing a smoothing roller 2 against the first surface 10 of a polymer film 1 of which the surface temperature is in the range of Tg-10°C to Tg+50°C, wherein the glass transition temperature of the film is defined as Tg.例文帳に追加

ポリマーフィルム1の第1表面10に対して、表面温度が、該フィルムのガラス転移温度をTgとしたとき、Tg−10℃以上、Tg+50℃以下の範囲にある平滑ローラ2を押し当てる表面矯正処理工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁


例文

Furthermore, the method includes a process of polishing the oxide film 26 using ceria slurry as an abrasive until the nitride film 23 is exposed, and a polishing selection ratio defined as the ratio of the polishing speed of the oxide film 26 to the polishing speed of the nitride film 23 is adjusted to 7 to 11.例文帳に追加

この方法は更に、研磨剤としてセリアスラリーを用いて、窒化膜23が露出されるまで酸化膜26を研磨する工程を有し、窒化膜23の研磨速度に対する酸化膜26の研磨速度の比として定義される研磨選択比が7以上且つ11以下に調整される。 - 特許庁

Individual structure is defined in a network type, and in fitness calculation of each individual of an evolutionary computation process, periodical processing is repeated for inputting calculation result data of a different node or an own-node calculated in the preceding period in the calculation of each node to obtain an calculation result according to a network structure.例文帳に追加

ネットワーク型に個体構造を定義し、進化計算過程の各個体の適応度計算で、ネットワーク構造に従って、各ノードの演算で前の周期で算出した他のノードあるいは自身ノードの演算結果データを入力して演算結果を得る周期単位の処理を繰り返す。 - 特許庁

A data setting instruction from a master processor or the change of a status in a system is defined as a start point, and a processing sequencer makes a plurality of pieces of DMA process data setting in parallel based on preliminarily set data setting information including the execution sequence information between a plurality of pieces of data setting.例文帳に追加

マスタプロセッサからのデータ設定指令あるいはシステム内のステータスの変化を起点として、予め設定された複数のデータ設定間の実行順序情報を含むデータ設定設定情報をもとに、処理シーケンサが複数DMAにデータ設定を並列処理させる。 - 特許庁

A feeler device 18 is provided for detecting the finish of the pivotal movement 12 and the correct welding position 16 of the fastening/clamping parts 10 to be defined by adaption of the fastening/clamping parts 10 to the rail web 17, and transmits a control signal necessary for continuous execution of the welding process.例文帳に追加

フィーラー装置18は、枢動運動12の終了と、締結挟持部10のレールウェブ17への適合とによって画定される締結挟持部10の正確な溶接位置16を検知するために設けられ、溶接過程の継続的な実施に必要な制御信号を発信する。 - 特許庁

例文

During the process when the planar coating film 100 spreads toward the outside of the substrate G, the planar coating film 100 comes into contact with a linear resist coating film 76 or is integrated therewith, and the position of an outer edge of the planar coating film 100 is defined by the linear resist coating film 76 and, at the same time, the thickness is controlled.例文帳に追加

その際、面状レジスト塗布膜100が基板Gの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜76と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜76によって面状レジスト塗布膜100の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 - 特許庁

例文

At that time, the plane shape resist coating film 100 contacts to or is integrated into a line shape resist coating film 76 in a process of spreading toward the outside of the substrate G, an outer edge position of the plane shape resist coating film 100 is defined by the line shape resist coating film 76, and at the same time, the film thickness is also controlled.例文帳に追加

その際、面状レジスト塗布膜100が基板Gの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜76と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜76によって面状レジスト塗布膜100の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 - 特許庁

The European Commission is now in the process of drawing up guidelines for the administration of the REACH regulation in preparation for its implementation. Japan will continue to make necessary approaches to the EU in order to ensure that the guidelines are feasible, sufficiently clearly defined and not discriminatory against non-EU companies.例文帳に追加

欧州委員会は施行に向けて、運用に関するガイドラインの作成を行っているところであるが、我が国としては、当該ガイドラインが実行可能かつ明確な内容になるよう、また域外企業にとって不利な内容とならぬよう、引き続き必要な働きかけを行っていく。 - 経済産業省

The image-forming apparatus records object data concern information relating to image data which becomes an object of image forming processing and process stage information relating to progress of this image forming processing; based on these object data concern information and process stage information which have been recorded, following a proposal rule defined beforehand, generates hint information about optimization; and offers this generated hint information.例文帳に追加

画像形成処理の対象となる画像データに係る対象データ関係情報と、当該画像形成処理の経過に関わる処理過程情報とを記録し、当該記録された対象データ関係情報及び処理過程情報に基づき、予め定められた提案ルールに従って、最適化に関するヒント情報を生成して、当該生成したヒント情報を提供する画像形成装置である。 - 特許庁

The electronic device 10 includes: a display unit 15; a display control unit 11a which causes the display unit 15 to display a display image formed in accordance with the information; and a revision control unit 11b which performs a revision process on an image element as a revision object which is defined by a character code contained in the information or vector information.例文帳に追加

この電子機器10は、表示部15と、情報に基づいて形成した表示画像を表示部15に表示させる表示制御部11aと、情報に含まれる文字コード又はベクトル情報により規定される改変対象の画像要素に対して改変処理を施す改変制御部11bとを備える。 - 特許庁

To provide: a developing device in which even in the setting of two conveying members, one above the other, which convey developer in a lengthwise direction and form a circulation path, developer separated from a developer carrier in the conveying path defined by the second conveying member is sufficiently mixed and stirred; a process cartridge; and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤を長手方向に搬送して循環経路を形成する2つの搬送部材を上下方向に設置した場合であっても、第2搬送部材による搬送経路において現像剤担持体から離脱した現像剤が充分に撹拌・混合される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The plating treatment is independently applied to the plurality of semiconductor forming area respectively by coming into contact with an independent plating process tool to correspond to the plurality of the semiconductor element forming areas on the semiconductor substrate where the plurality of the semiconductor forming areas are defined to correspond to the plurality of types.例文帳に追加

複数の品種に対応して複数の半導体素子形成領域が画定された半導体基板上に、前記複数の半導体素子形成領域に対応し且つ相互に独立したメッキ処理治具を当接し、前記複数の半導体素子形成領域のそれぞれに対して独立にメッキ処理を施す。 - 特許庁

A bit value in a bit number [4-3] of a security time setting KSES is defined as a value other than "00", so that a variation setting time changing within a predetermined time range whenever an initialization setting process is executed based on a system reset and a power application is set to a time component included in the security time.例文帳に追加

セキュリティ時間設定KSESのビット番号[4−3]におけるビット値を“00”以外の値とすることにより、システムリセットや電源投入に基づき初期設定処理が実行されるごとに所定の時間範囲で変化する可変設定時間を、セキュリティ時間に含まれる時間成分として設定する。 - 特許庁

A cross retrieval process 28 reads a script definition 25 corresponding to retrieval destination information received from a Web browser 16 and transmits, when an authentication function is defined in the script definition 25, authentication information to an information retrieval site 30 corresponding to the retrieval destination information according to the authentication function.例文帳に追加

横断検索プロセス28は、ウェブブラウザ16から受信した検索先情報に対応するスクリプト定義25を読み出し、そのスクリプト定義25に認証用関数が定義されていた場合には、その認証用関数に従って、その検索先情報に対応する情報検索サイト30へ認証情報を送信する。 - 特許庁

To provide a medium wave stereo broadcast receiving circuit capable of receiving transmitted broadcasting waves without changing the format of medium wave stereo broadcasting waves defined as an actual standard system, removing disturbance which signal receives on a propagation route in a demodulation process, enhancing the sound quality of a demodulation signal and showing a stereo effect.例文帳に追加

事実上の標準方式となっている中波ステレオ放送波の電波型式を変更することなく、送信された放送波を受信し、信号が伝搬路で受けた外乱を復調過程で除去して、復調信号の音声品質を高め、ステレオ効果が発揮できる中波ステレオ放送受信回路を提供する。 - 特許庁

Finally, the inspection map is collated with each piece of data by performing a collation process 40, data coincident with the inspection map is searched among pieces of the data, the working area of the surface of the substrate is defined by the working area layout coincident with the inspection map, and the use classification of the substrates are confirmed and the substrates are sorted 46.例文帳に追加

最後に、照合プロセス40を行って検査マップとそれぞれデータとを照合し、データの中から検査マップに一致したデータを探し出し、また検査マップに一致した作用面積レイアウトにより基板表面の作用面積を定義し、進んで基板の使用類別を確認して分類46する。 - 特許庁

A period from having the inflow accumulation amount after determination of oil supply reaching an amount of starting supply of a fuel of a fuel tank 1 to a delivery pipe 4 to having the fuel in the delivery pipe 4 reach an amount of being substituted to a fuel after oil supply is defined as a concentration learning period so that the concentration learning process is executed only in that period.例文帳に追加

給油が判定された後の流入積算量が、デリバリパイプ4に燃料タンク1の燃料が供給され始める量に達してから、デリバリパイプ4の燃料が給油後の燃料に置換される量に達するまでの期間を濃度学習期間とし、同期間に限定して濃度学習処理を実行する。 - 特許庁

(2)The process according to paragraph (1) represents a logical succession of stages or steps, defined by their carrying on order, by initial conditions, such as the selected raw material, parameters, technical conditions for carrying on and/or employed technical means and by final products or results.例文帳に追加

(2) (1)による方法は,段階又は処置の論理的継続であって,命令によるその遂行によって,初期条件,例えば,選択された原材料,パラメーター,遂行の基となる及び/又は遂行に使用される技術的手段等によって,及び最終的生産物又は結果によって定義されるものを示す。 - 特許庁

A work flow system generating and starting a preceding start business notice work 107 when a preceding business start notice work generation condition is satisfied at the time of executing a previous process business and generating and starting a preceding start business step 108 being a preceding business and a tool or utility where a flow can be defined are installed.例文帳に追加

前工程業務の実行時、先行業務開始通知作業生成条件を満たすと、先行開始業務通知作業107を生成、開始し該当先行業務である先行着手業務ステップ108を生成、開始するようなワークフローシステム及び、フロー定義が出来るツールまたはユティリィティを提供する。 - 特許庁

When a gamma value for gamma compensation set in the liquid crystal projector is defined as γ, the drive signal setting process sets a signal level of each of the drive signals so that values produced by exponentiating, by a power 1/γ, the luminance levels of the output images of the liquid crystal panel at the time of having input each of the drive signals have nearly even intervals.例文帳に追加

駆動信号設定工程は、液晶プロジェクタに設定されるガンマ補正用のガンマ値をγとした場合、各駆動信号を入力した際の液晶パネルの出力画像の輝度値を指数1/γで累乗した値がほぼ等間隔となるように、各駆動信号の信号レベルを設定する。 - 特許庁

This is a method and a device for controlling pullback movement of a machining electrode in an electrolytic corrosion device in which the machining electrode is moved reversely along a machining path B (first pullback path) in which it moves in advance and along a pullback path RV (second pullback path) defined concerning the machining path B when a failure occurs in a machining process.例文帳に追加

加工工程中の故障の際に、加工電極が予め移動した加工経路(B)(第1引戻し経路)に沿って、また加工経路(B)に関して定義された引戻し経路(RV)(第2引戻し経路)に沿って逆行運動される、電食装置における加工電極の引戻し運動の制御方法及び装置。 - 特許庁

An object as ornamenting operation information (for example, plotting process information such as line drawing) to be multiply displayed on general original display information by the Internet such as an HTML document or the like is defined, and the object is made executable at image positions in a high order layer to be multi-layered on the original display information.例文帳に追加

HTML文書等のインターネットで汎用的な原表示情報に対して多重表示される装飾動作情報(たとえば線画等の描画過程情報)としてのオブジェクトを定義し、このオブジェクトを、原表示情報の上に多層化される上位階層の画像位置で実行できるようにしたものである。 - 特許庁

The method for recovering the indium from the indium-containing material containing the indium and the metals other than the indium comprises a leaching process, in which the indium is leached in solution containing sulfuric acid and the sulfuric acid concentration in the indium leaching solution is defined as 35-80 g/L.例文帳に追加

インジウムと前記インジウム以外の金属とを含むインジウム含有物から、インジウムを回収する方法において、前記インジウムを硫酸を含む溶液中に浸出させる浸出工程を含み、インジウム浸出液の硫酸濃度を35〜80g/Lとした、インジウム含有物からインジウムを回収する方法である。 - 特許庁

When a silicon single crystal is produced by pulling a crystal according to the Czochralski method while applying an equiaxially symmetrical cusp magnetic field about a pulling axis to a melt 4 housed in a crucible 1a, the atmospheric pressure is controlled so as to have a specific defined value in the process for pulling the singled crystal.例文帳に追加

(1) 坩堝内に収容される溶融液に引上げ軸に対して等軸対称のカスプ磁場を印加しつつ結晶を引上げるチョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法であって、単結晶の引上げ過程では雰囲気圧力が特定値以上になるように制御することを特徴とするシリコン単結晶の製造方法である。 - 特許庁

Therefore, it is necessary for a programmer to include and/or remove only a certain kind of preliminarily defined header file, and to change variable declaration in the floating point code for simulating the source code across each stage of the conversion process.例文帳に追加

本発明の望ましい実施例において実現された本発明の原理に従って、プログラマは、前述された変換プロセスのそれぞれの段階に亘ってソースコードをシミュレートする目的で、ある種の予め定義されたヘッダファイルを含ませること及び/あるいは取り除くこと、及び、浮動小数点コード内の変数宣言を変更することのみを行なえばよい。 - 特許庁

When an alpha test is performed as a part of a rendering process in a multisampling graphics processing pipeline, instead of taking the single alpha value initially defined for each fragment 80, 81, 82, and 83, an individual alpha value is generated with respect to each of covered sampling position which the fragment in question is used to render.例文帳に追加

アルファテストがマルチサンプリング式グラフィックス処理パイプライン内でレンダリングプロセスの一部として実行される時に、各フラグメント80、81、82、および83について当初に定義された単一のアルファ値を採用するのではなく、個々のアルファ値が、当該のフラグメントがそれをレンダリングするのに使用されているカバーされるサンプリング位置のそれぞれに関して生成される。 - 特許庁

As for the respective information of a state, action, observation and reward defined in a partially observable Markov decision process(POMDP), a plurality of different factors are respectively set, and a factored POMDP clarifying the relations of those factors is constructed.例文帳に追加

部分観測マルコフ決定過程(POMDP:Partially Observable Markov Decision Process)において定義される状態(State)、行動(Action)、観測(Observation)、報酬(Reward)の各情報について、それぞれ複数の異なる要素(ファクタ)を設定し、要素間の関係を明確にしたファクタPOMDP(Factored POMDP)を構築する。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

To improve productivity by simplifying a mounting process onto a vehicle body structural member, and to reduce cost by reducing a fixed means exclusively used for a harness, and to secure an impact energy absorbing function of an impact absorbing rib as defined, in an impact absorbing rib structure deployed between the vehicle body structural member and the interior member.例文帳に追加

車体構造材と車室内装材との間に配備される衝撃吸収リブの構造において、車体構造材への取り付け工程を簡略化して生産性の向上を図り、また、ハーネス専用の固定手段を省いてコストの低減を図ると共に、衝撃吸収リブの衝撃エネルギー吸収機能を設定どおりに確保する。 - 特許庁

On a manufacturing line provided with plural buffers 1-6 for temporarily storing processing lots, each process forms a device group including plural processors of the same kind and the waiting time from the processing completion of a processing lot up to its carrying-out is defined for every device group to be a carrying-out source of the processing lot and to be a carrying-out destination.例文帳に追加

一時的に処理ロットを保管するための複数のバッファ1〜6を備えた製造ラインにおいて、各工程は複数の同種の処理装置が設置された装置群を形成し、処理ロットの搬出元となる装置と搬出先となる装置群ごとに処理ロットが処理完了してから搬出されるまでの待機時間を定義付ける。 - 特許庁

design means only the features of shape, configuration, pattern or ornament applied to any article by any industrial process or means, whether manual, mechanical or chemical, separate or combined, which in the finished article appeal to and are judged solely by the eye; but does not include any mode or principle of construction or anything which is in substance a mere mechanical device, and does not include any trade mark as defined in section 478, or property mark as defined in section 479 of the 4[ Penal Code]: 例文帳に追加

意匠とは、手作業であるか、機械的又は化学的であるか、若しくは分離又は結合であるかを問わず工業的過程又は手段により物品に応用される形状、配置、模様若しくは装飾の特徴であって、完成品において視覚に訴えかつ視認のみにより判断されるものをいう。これには、建築の様式若しくは原理又は実質的に単なる機械的装置であるものを含まず、また、刑法第478 条に定める商標又は同法第479 条に定める財産権を示す標章を含まない。 - 特許庁

The control section converts an orthonormal function system approximating a surface of the sample by linear combination into a new orthonormal function system by the Gram-Schmidt process by using an internal product defined by expression 1, and then defines, as an approximate curved surface of the sample, linear combination of a function group based on, as coefficients, projections calculated for each of functions of the new orthonormal function system.例文帳に追加

制御部は、試料の表面を線形結合により近似する正規直交関数系を、次式で定義される内積を用いてグラム・シュミット法により新たな正規直交関数系に変換し、新たな正規直交関数系の各関数に対して算出した射影を係数とした関数群の線形結合を試料の表面の近似曲面とする。 - 特許庁

During a process in which the mixture containing the liquid and solid components is moved toward the inside of the cylinder member through the spaces each defined between the vertically adjacent inclined plates of the plurality of inclined plates, the solid component in the mixture is separated, and at least part of the liquid component in the mixture is drawn from the outlet.例文帳に追加

そして、液体成分および固体成分を含む混合物が、前記複数の傾斜板のうち上下方向に隣接する傾斜板で挟まれた空間を通って前記筒状部材の内部に向けて移動する過程で、前記混合物中の前記固体成分が分離されて、前記混合物中の前記液体成分の少なくとも一部を前記取出口から取り出される。 - 特許庁

Further, whether the document in reference is created in an upstream process or contents concerned with business being executed at present from business project template data in which a business procedure, its results and reference data to be referred to in the business procedure are defined, and the priority order of the subject found out from the document concerned with the business being executed at preset is increased and displayed on a higher rank.例文帳に追加

さらに、参照中の文書が上流工程で作成されたものか現在実行中の業務に関する内容かを、業務手順とその成果物と業務手順で参照すべき参考資料を定義した業務プロジェクトテンプレートデータから判定して、現在実行中の業務に関する文書から求めた課題の優先順位を高くし、上位に表示する。 - 特許庁

A first process part 120 includes a multistage structure that right and left electrodes 122 between which one copper sheet 101 is held is defined as one station and tow or more stations are provided and an anodic treatment for forming copper particles in necessary quantity to form fine bump like projecting on right and left both surface of the steel sheet 101 by electrolyzing using a copper plate 101 as an anode and an electrode 122 as a cathode is carried out.例文帳に追加

第一工程部120は、1つの銅板101を挟む左右の電極122を1ステーションとして、これを2ステーション以上備えた多段構成となっており、銅板101を陽極、電極122を陰極とする電気分解により、銅板101の左右両面に微細瘤状突起を形成するのに必要な量の銅微粒子を生成させる陽極処理を行う。 - 特許庁

This processor 3 has a dot detector 26 for detecting whether an image is formed with dots defined by digital image data of the original from the A/D converter 13, a background level corrector 31 for correcting the background level of the original image, and a gain multiplier 30 for executing a background removing process of the original image using the corrected background level.例文帳に追加

デジタル信号演算部3は、網点検出部26で、A/D変換器13からの原稿のデジタルの画像データが網点で形成されている画像であるか否かを検出し、地肌レベル補正部31で、当該網点検出結果に基づいて、原稿画像の地肌レベルを補正し、ゲイン乗算部30で、補正された地肌レベルを用いて原稿画像に対して地肌除去処理を行う。 - 特許庁

When human relation graph data for expressing a human relation based on data measured by a sensor or the like are given (101), an energy function describing the mutual action between human beings constituting a working place organization is defined to obtain such a macro index values (104 and 105) as the degree of stress of the organization by a process (103) minimizing the energy.例文帳に追加

センサ等で計測されたデータに基づく人間関係を表現する人間関係グラフデータが与えられた場合に(101)、職場組織などを構成する人と人の相互作用を記述するエネルギー関数を定義し、エネルギーを最小化する処理(103)により、組織のストレス度のような系のマクロな指標値(104、105)を求めることができるようにするものである。 - 特許庁

In this process, Pareto solutions between an objective function F1 and a constraint function F2 varying according to parameters x1 and x2 are derived as to parameter values within an adapting range, and on a coordinate plane defined by the objective function F1 and the constraint function F2, a Pareto curve PRF_P obtained by connecting the coordinate points corresponding to the Pareto solutions mutually is set.例文帳に追加

当該処理においては、パラメータx1及びx2に応じて変化する目的関数F1及び制約関数F2相互間のパレート解が、適合範囲内のパラメータ値について導出され、目的関数F1及び制約関数F2により規定される座標平面上で、パレート解に対応する座標点を繋げて得られるパレート解曲線PRF_Pが設定される。 - 特許庁

When a time period from a detection timing at which each input detection signal is detected to a detection timing in the next detection cycle is defined as an acquisition cycle in units of a plurality of semiconductor light sources, the control unit 6 executes a detecting process program such that at least one acquisition cycle is different from another acquisition cycle in units of the plurality of semiconductor light sources.例文帳に追加

制御部6では、入力された前記各検出信号の検出タイミングから次の検出周期における検出タイミングまでの時間を前記複数の半導体光源ごとに取得周期とする場合に、前記複数の半導体光源ごとに少なくとも一つの取得周期が他の取得周期と異なるように検出処理プログラムを実行する。 - 特許庁

The process for producing a dicyano compound represented by formula (II) (wherein R is a 3-5C aliphatic hydrocarbon group) comprises reacting chloroacetonitrile with triphenylphosphine in the presence of a solvent to obtain a phosphonium salt, reacting the obtained phosphonium salt with a base in the presence of a solvent, and successively reacting the product with an alkanoyl cyanide represented by formula (I) (wherein R is the same as defined above).例文帳に追加

クロロアセトニトリルとトリフェニルホスフィンを溶媒の存在下に反応させることによりホスホニウム塩を得、得られたホスホニウム塩を溶媒の存在下に塩基と反応させた後、続いて下記一般式(I)(式中、Rは、炭素数3〜5の脂肪族炭化水素基を表す。)で示されるアルカノイルシアニドと反応させることによる、下記一般式(II)で示されるジシアノ化合物の製造方法。 - 特許庁

A composition for forming the gap filling material containing a polymer solution is used in manufacturing a semiconductor device by a method which consists of coating the substrate having holes with ≥1 aspect ratio defined by height/diameter with a resist and transferring an image to the substrate utilizing a lithography process and is used to flatten the substrate surface by coating the substrate therewith before coating it with the resist.例文帳に追加

高さ/直径で示されるアスペクト比が1以上のホールを有する基板にレジストを被覆しリソグラフィープロセスを利用して基板上に画像を転写する方法による半導体装置の製造において使用され、レジストを被覆する前の該基板に被覆して基板表面を平坦にするために用いる、ポリマー溶液を含有するギャップフィル材形成組成物である。 - 特許庁

In addition, the rank of former zakko people was not changed from the citizen to zakko again, as is obvious from the fact that zakkoseki was not prepared after the Tenpyo-shoho era, thus they are thought in fact to have served government offices within the scope of zoyo defined under the ritsuryo codes even when requisitioned (this can also be assumed from the subsequent treatment of umakai which followed the similar emancipation process.) 例文帳に追加

しかも旧雑戸の人々は身分的に公民から雑戸に戻された訳ではない事は天平勝宝年間以後に雑戸籍が作成された事実が無いことからも明らかであり、旧雑戸の人々が徴用されたとしても、実際には律令で定められた雑徭の範疇で官司に奉仕したと考えられる(これは同様の解放経過を辿った馬飼のその後の待遇からも推定できる)。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a data processor, a workflow system, a data processing method, and a computer program, can function a materialized view as a self-maintainable view, without increasing a storage capacity, when retrieving or updating information as to a progress situation of process instance in a prescribed condition, using the materialized view including information as to an inquiry result to a database defined in advance.例文帳に追加

事前定義されたデータベースに対する問い合わせ結果に関する情報を含む実体化ビューを用いて、プロセスインスタンスの進行状況に関する情報を所定の選択条件で検索又は更新する場合において、記憶容量を増大させることなく実体化ビューをセルフメンテナブルビューとして機能させることができるデータ処理装置、ワークフローシステム、データ処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

An aspherical coordinate computation part 3 performs a computing process for computing coordinate values by passing variables having coordinate data as initial values to the defined curved-surface functions by dots on the aspherical shape model until the coordinate values converge into a specific target value range while varying the variables, and passes coordinate values within the specific target value range to a shape error computation part 4 when those values are obtained.例文帳に追加

非球面座標計算部3は、非球面形状モデル上の各点毎に、その座標データを初期値とする変数を定義された母線、子線方向それぞれの曲面関数に渡して座標値を算出する算出処理を、該座標値が所定目標値範囲内に収まるまで変数を可変しながら行い、該所定目標値範囲内の座標値が得られると、該座標値を形状誤差計算部4に渡す。 - 特許庁

When a process to make a circulation of forming a plurality of transmission ultrasonic beams progressing along a plurality of transmission scanning lines is defined as one frame, a beam former part obtains scan line signals to represent reception ultrasonic beams along alternately or cyclically different reception scan lines with respect to consecutive different frames extended into the ultrasonic beams as regards ultrasonic beams progressing along identical transmission scan lines in consecutive different frames.例文帳に追加

ビームフォーマ部が、複数本の送信走査線に沿って進む複数本の送信超音波ビームの形成を一巡する過程を1フレームとしたとき、順次異なるフレームにおける同一の送信走査線に沿って進む超音波ビームに関し、その超音波ビーム内に延出する、順次異なるフレームについて交互にもしくは循環的に異なる受信走査線に沿う受信超音波ビームをあらわす走査線信号を得る。 - 特許庁

例文

An electronic control device 61 defines a relation between suction air quantity GA to an engine 11 and temperature (catalyst temperature) of a exhaust system component (exhaust emission control catalyst 27) beforehand, calculates a value following catalyst temperature defined by suction air quantity GA after change and the relation mentioned above with response delay by gradual change process and calculates estimated catalyst temperature based on the value during transient period in which suction air quantity GA changes.例文帳に追加

電子制御装置61は、エンジン11への吸入空気量GAと排気系部品(排気浄化触媒27)の温度(触媒温度)との関係を予め定めておき、吸入空気量GAが変化する過渡時には、その変化後の吸入空気量GAと上記関係とから求まる触媒温度に応答遅れを有して追従する値を徐変処理により算出し、この値に基づき推定触媒温度を算出する。 - 特許庁




  
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