「in process processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

In the multiprocessor system, tasks having parallelism are automatically extracted from an input program being a processing object, by a compiler, and the tasks are arranged in accordance with characteristics of respective process units to perform scheduling for efficiently operating the process units, and processing volumes of the process units are estimated to generate a code for optimizing an operation frequency or a supply voltage.例文帳に追加

マルチプロセッサシステムにおいて、コンパイラにより処理対象となる入力プログラムから自動的に並列性を持つタスクを抽出し、各プロセッサユニットの特性に合わせて当該タスクを配置することで当該プロセッサユニットを効率よく動かすスケジューリングを行い、さらには当該プロセッサユニットの処理量を見積もることで動作周波数や電源電圧を最適化するコードを生成する。 - 特許庁

To easily add an optional apparatus, such as a sheet inserting apparatus in between a post processing apparatus and an image forming apparatus according to need and to add it at low cost, without requiring changes on the image forming apparatus side in the post processing apparatus added to the image forming apparatus and carrying out post processes, such as binding process, folding process and perforating process to a sheet body.例文帳に追加

画像形成装置に付加され、綴じ処理、折り処理、穿孔処理等のシート体の後処理を行う後処理装置において、該後処理装置と前記画像形成装置との間に、シート挿入装置などのオプション装置を、必要に応じて容易に追加できるようにするとともに、画像形成装置側の変更を必要とせず、低コストに追加できるようにする。 - 特許庁

In the plasma nitriding processing apparatus that nitrides a substrate having an insulating film, the wafer temperature is in-process monitored before starting the plasma nitiding processing, and the plasma nitriding time or process pressure is controlled by feeding the monitored value of the wafer temperature back to a CPU to enhance the uniformity of the nitridation quantities among the wafers.例文帳に追加

絶縁膜を有する基板を窒化するプラズマ窒化処理装置において、プラズマ窒化処理を開始する前にウェハ温度をインプロセスで計測し、該ウェハ温度の計測値をＣＰＵにフィードバックしてプラズマ窒化時間またはプロセス圧力を制御することにより、ウェハ間の窒化量の均一性を向上することができる。 - 特許庁

To provide a structure of a camera module which is to attain a thinned film of a camera module manufactured by a wafer processing, does not need human labor or the time and the effort in the manufacturing process, adopts a wafer processing in a process manner and can be simply and mass-produced, and to provide a manufacturing method of the camera module.例文帳に追加

ウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのさらなる一層の薄膜化を実現しようとするものであり、その作製工程においても、人手や手間を要せず、工程的にもウエハプロセスを採用して簡便かつ大量生産できるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method for producing the wafers includes a BMD forming process for forming inner micro-defects (BMD) at the inside by subjecting a silicon single crystal in an ingot state to heat treatment and a wafer processing process for processing the ingot in which the inner micro-defects (BMD) are formed into wafers.例文帳に追加

ウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行ない内部に内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成するＢＭＤ形成工程と、前記内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成したインゴットをウエーハに加工するウエーハ加工工程を有するウエーハの製造方法。 - 特許庁

The CPU 11 loads into the RAM 12 both an image processing program stored in the ROM 13 and the data required to execute the program, and, for a recorded file that is the subject of an image enhancement process, performs the process of enhancing quality of images by area in accordance with the image processing program while taking the edges of objects into consideration.例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、ＲＯＭ１３内に記憶された画像処理プログラムおよびプログラムの実行のために必要なデータを、ＲＡＭ１２へロードし、画像処理プログラムに従って、高画像化処理を行う対象となる録画ファイルについて、物体のエッジを考慮して領域別に高画像化を行う処理を実行する。 - 特許庁

To solve the following problem: eaves occurs due to a difference in etching rate of a multilayer film at a peripheral part to cause contamination diffusion to a next process in a conventional substrate peripheral processing method for making constant the number of rotations of the substrate, in a substrate processing method for supplying a processing liquid to a substrate having a multilayer film formed, from backside of the substrate, while rotating the substrate.例文帳に追加

多層膜成膜した基板を、回転させながら基板に裏面側から処理液を供給する基板処理方法では、基板の回転数を一定にした従来の基板の周辺処理方法では、周辺部の多層膜のエッチングレートの差により、庇（ひさし）が発生し、次工程への汚染拡散の原因となる。 - 特許庁

An individual flow creation part 105 selects processing in which values of the process key match each other between processing executed in the task executed first and processing executed in the task executed later based on the transaction data 202 by every group and creates individual flows 206 indicating that the two selected processings are continuously executed.例文帳に追加

個別フロー作成部１０５は、グループごとに、トランザクションデータ２０２に基づき、先に実施されるタスクにて実行される処理と後に実施されるタスクにて実行される処理とでプロセスキーの値が一致する処理を選択し、選択した２つの処理が連続で実行されることを示す個別フロー２０６を作成する。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor wafer and its processing method whereby the yield of a device manufacturing process is increased by preventing the occurrence of pitching in processing processes after the chamfering process of a wafer wherein an orientation flat or index flat is formed into a cleaved plane.例文帳に追加

オリエンテーションフラットあるいはインデクスフラットが劈開面で形成されるウェハにおいて、面取り工程以降のウェハの加工工程でのチッピングの発生を防止し、素子製作工程での歩留を向上させることのできる、化合物半導体ウェハ及びその加工方法を提供すること。 - 特許庁

This etching method for etching an org. film layer, formed on a wafer in a hermetic processing chamber with a process gas fed into the process chamber, uses a processing gas contg.例文帳に追加

気密な処理室内に処理ガスを導入し，処理室内に配置されたウェハＷに形成された有機膜層に対するエッチング方法において，処理ガスはＮ_２とＨ_２とを含み，真空処理室内の圧力は実質的に５００ｍＴｏｒｒ〜８００ｍＴｏｒｒであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a display with a touch panel of capacitance coupling type and a method for manufacturing the same, which saves a photolithography process dedicated for processing a metallic film and use a photolithography process for processing a transparent conductive film to serve for both in manufacturing the touch panel, thereby reducing the number of processes and manufacturing cost.例文帳に追加

タッチパネルの製造時に、金属膜加工専用のホト工程を省略し、透明導電膜加工用のホト工程と兼用することにより、工程数を削減し、製造コストを低減した静電容量結合方式のタッチパネル付き表示装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Since a stage processing space R3 in the process line 10L is opened to both the area R2 side exclusive for the robot and the area R1 side exclusive for the worker, the robot 80 and the worker perform processing on the process line 10L by cooperating with each other.例文帳に追加

本発明では、処理ライン１０Ｌにおけるステージ処理空間Ｒ３をそれらロボット専用領域Ｒ２側と作業者専用領域Ｒ１側との両方に開放したので、ロボット８０と作業者とが互いに補助し合って処理ライン１０Ｌ上で処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method, which can dissolve with sufficient accuracy a film formed on a substrate also in the end surface of the substrate, and is hard to produce ununiformity of the dissolution by the splash of the process liquid, and furthermore can reduce the amount of the process liquid used.例文帳に追加

基板上に形成された膜を基板の端面においても精度よく溶解することができ、しかも処理液のはね返りによる溶解の不均一が生じ難く、さらに処理液の使用量を低減することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。 - 特許庁

To manufacture ceramic paste, a primary distribution process for distributed-processing a primary mixture containing at least ceramic powder and the first organic solvent and a secondary distributing process for distributed- processing a secondary mixture in which at least an organic binder is added to the primary mixture, are performed.例文帳に追加

セラミックペーストを製造するため、少なくともセラミック粉末と第１の有機溶剤とを含む１次混合物を分散処理する１次分散工程と１次混合物に少なくとも有機バインダを加えた２次混合物を分散処理する２次分散工程とを実施する。 - 特許庁

When the rotating process of the image data read by the reading means 211 cannot be carried out by the hardware rotation processing means 213 in the side of the image reading apparatus 200, the image data is transmitted to a PC 100, and the rotating process of the image data is carried out by a software rotation processing means of the PC 100.例文帳に追加

また、読取手段２１１で読み取られた画像データの回転処理を画像読取装置２００側のハードウエア回転処理手段２１３で行えないときは、該画像データをＰＣ１００に送信して、該ＰＣ１００のソフトウエア回転処理手段で画像データの回転処理を行う。 - 特許庁

To provide a process and a device for manufacturing an integrated circuit element on a substrate (for example, a silicon wafer), which enable an FSG layer to be flattened by a CMP processing process, and besides keep the stability of this FSG layer in the subsequent processing.例文帳に追加

本発明は、ＦＳＧ層がＣＭＰ処理工程によって平滑化されることを可能にし、且つ後続の処理工程の時になお、これらＦＳＧ層の安定性を維持する、基板（例えばシリコンウェハ）上に集積回路素子を製造するためのプロセスと装置とを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method, which prevents residual process liquid from falling from a process liquid discharge opening provided at a central axis member by air flow generated in a gap space formed between a shielding member and a substrate top face.例文帳に追加

遮断部材と基板上面との間に形成される間隙空間に発生する気流によって中心軸部材に設けられた処理液吐出口から残留処理液が落下するのを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A CPU 31 discriminates the process information into substrate specifying information for specifying a lot defined as a processing object and processing contents information for indicating the contents/conditions, etc., of actual process performed to the lot of the object, edits them and respectively records them in a header file and a detailed part file.例文帳に追加

ＣＰＵ３１は、その処理情報を処理対象とされたロットを特定するための基板特定情報と、処理対象のロットに行われた実際の処理の内容・条件等を示す処理内容情報とに分別して編集し、それぞれヘッダファイルおよび詳細部ファイルに記録する。 - 特許庁

If a frame process is delayed in any display timing by temporary occurrence of an excessive processing load in comparison with a data throughput, the next frame process is started without waiting for a display timing (Tn+2, Tn+3).例文帳に追加

データ処理能力に比較して過大な処理負荷が一時的に生じたことに起因して、いずれかの表示タイミングにフレーム処理に遅れが生じたときには、次のフレーム処理を表示タイミング（Ｔｎ＋２，Ｔｎ＋３）を待つことなく開始する。 - 特許庁

To extract a defect information of raw material, such as the positions, the number or the like of defects, and to transfer the defect information from a preceding process to a subsequent process, in case where defective parts exist in roll-shaped web-like raw material unrolled for printing, processing or the like.例文帳に追加

印刷又は加工などのために巻き出されるロール状のウエブ状素材に不良部分が存在した場合に不良位置、個数など素材の不良情報を抽出したり、その不良情報を前工程から次工程に伝達する。 - 特許庁

In an image processing process, the positional information of the cell 88 at the overlapping part e.g., S12, of the boundary parts of the adjacent regions is calculated based on the image data of the respective regions obtained in the imaging process for the same cell 88.例文帳に追加

また、画像処理工程では隣接領域との境界部分が互いに重複する部分（例えばＳ１２）におけるセル８８の位置情報を、同一セル８８について撮像工程にて得られた各領域の画像データに基づいて算出する。 - 特許庁

To provide an image data transmitting system which enables a system process to correctly access a file to transmit image data to an image processing device even if a character string which can be correctly recognized only in a user process is included in a path name which a user designates, and also provide a program therefor.例文帳に追加

利用者が指定したパス名の中に、ユーザープロセスでのみ正しく認識可能な文字列が含まれている場合でも、システムプロセスが正しくファイルにアクセスして、画像処理デバイスへのデータ伝送ができる画像データ送信システムとプログラムの提供。 - 特許庁

When the producing operation of the semi-solidified metal is started, each producing control value pattern is read out in order, and the cooling process and the heating process are controlled in order according to the producing control value corresponding to each processing station, at where each holding vessel shifts.例文帳に追加

半凝固金属の生成運転が開始されると、順次各生成制御値パターンが読み出され、各保持容器が移動した各作業ステーションに対応した生成制御値に従って冷却工程及び加熱工程が順次制御される。 - 特許庁

To improve accuracy or speed of an estimation process about especially a race among attributes of a person in view of difficulty of practical application because of insufficiency of the estimation accuracy or the processing speed in conventional technology related to the estimation process of the race.例文帳に追加

人種の推定処理に関する従来の技術では処理速度や推定精度が不十分であり実用化することが困難であったことに鑑み、人の属性のうち特に人種について推定処理の速度や精度の向上を図る。 - 特許庁

An information processor which executes a processing task according to a job flow which defines the order of execution of a plurality of processing tasks, acquires attribute information indicating restriction about a process to be executed by the processing task which is set up about processing target data to be handled by the processing task for each processing task included in the job flow for which execution is indicated.例文帳に追加

複数の処理タスクの実行順を定義したジョブフローに従って処理タスクを実行する情報処理装置は、実行が指示されたジョブフローに含まれている処理タスクの各々について、処理タスクが扱う処理対象データに関して設定されている、当該処理タスクによって実行される処理に関する制限を示す属性情報を取得する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck of vacuum processing device, a vacuum processing device comprising it and a method for manufacturing the electrostatic chuck capable of easily stabilizing a manufacturing process and coping with making into extra large size area by diversifying the forms of protruding parts in compliance with the characteristics of the process and by simplifying the manufacturing process for the electrostatic chuck having the protruding part.例文帳に追加

突起部の形状を工程の特性に応じて多様化することができ、突起部を有する静電チャックの製造工程を単純化し、製造工程の安定化と超大型面積化への対応が容易な真空処理装置の静電チャック、それを有する真空処理装置、及び静電チャックの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide technologies for improving processing efficiency and shortening a processing time by reducing computational complexity in a process of embedding electronic watermarks in digital video contents, even in a platform where reinforcement of hardware resources can not be expected.例文帳に追加

デジタル映像コンテンツに電子透かしを埋め込む処理の演算量を削減して処理効率向上および処理時間短縮を実現でき、またハードウェアリソースの増強が望めないプラットフォームにおいても処理時間短縮が可能となる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a basket made able to safely chemical-process flying radioactive solid material inside by wrapping flying radioactive solid material in transporting to a chemical-processing facility and throwing as it is in a solving tank in the chemical-processing facility after transporting.例文帳に追加

飛散性の放射性固体物質を化学処理施設へ運搬する際、それらを包装し、運搬後はそのまま化学処理施設の溶解槽中に投入して内部の飛散性の放射性固体物質を安全に化学処理できるようにしたバスケットを提供する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus for supplying process solution on a substrate surface by conveying the substrate in the horizontal direction, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit for attaching the substrate to the bottom plane, a shower unit for supplying the process solution, being located downward being spaced with the substrate at a predetermined interval, and a conveyer unit conveying the substrate support unit in the horizontal direction.例文帳に追加

基板を水平方向に搬送して基板の表面に処理液を供給する基板処理装置において、基板を底面に付着する基板支持ユニット、基板と所定の間隔で離隔して下部に位置し、処理液を供給するシャワーユニット、基板支持ユニットを水平方向に搬送する搬送ユニットを含む基板処理装置。 - 特許庁

The image processing method for binarizing multivalued image data has a random number generating process for generating random numbers, a process for generating dither matrices being different one by one, a storage process for storing the generated dither matrices, and a binarizing process for binarizing the data by comparing the dither matrices being different one by one which have been generated in the generating process with the multivalued image.例文帳に追加

多値画像データを２値化する画像処理方法において、乱数を発生する乱数発生工程と、１つ１つが異なるディザマトリクスを生成する工程と、生成された前記ディザマトリクスを格納する記憶工程と、前記生成工程により生成された１つ１つ異なる前記ディザマトリクスと多値画像とを比較することにより２値化を行う２値化工程とを有する。 - 特許庁

To extensively shorten time needed to fix a spinous process spacer for maintaining an expanded place by pinching a spinous process with an expanded spinous process after dividing vertically the spinous process, when processing vertebral arch plastic surgery in a vertical division method for cervical vertebra spinous process used for medical care of cervical vertebra inflammatory osteomyelitis, cervical vertebra disk herniation, neck stenochoria spinal canal stenosis or ligament ossifying inflammation, etc.例文帳に追加

本発明は、頚椎症性脊髄症、頚椎椎間板ヘルニア、頚部脊柱管狭窄症又は後縦靭帯骨化症等を治療する際に用いる頚椎棘突起縦割法椎弓形成術の際、棘突起を縦割後拡大した棘突起の間に挟み込み、拡大位を保持する棘突起スペーサーに関するものであって、固定に要する時間を大幅に短縮することにある。 - 特許庁

Especially, based on the encoding rule of the 1-bit information word, transition is degenerated in the state of the viterbi decoding process, and efficient decoding processing which causes no increase in circuit scale is carried out.例文帳に追加

そして特に、１ビットの情報語の符号化則に基づくことで、最尤復号過程での状態の遷移を縮退し、回路規模の肥大化を招かない効率的な復号処理を行う。 - 特許庁

To provide an image reduction method for suppressing peaks in a line unit at a local bandwidth of an external memory access in the process of generating a vertically reduced image with an information processing apparatus with an image output function.例文帳に追加

画像出力機能を持つ情報処理装置において、垂直縮小画像を生成する過程で外部メモリアクセスの局所的なバンド幅にライン単位のピークが発生する。 - 特許庁

To provide a processing method of wafer for making a silicon wafer having a precipitation of oxygen density optimal for a device by controlling increase/decrease in precipitation of oxygen density even in a low temperature process.例文帳に追加

低温プロセスにおいても酸素析出物密度の増大／減少を制御し、デバイスにとって最適の酸素析出密度を持つシリコンウェーハを作成するウェーハ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber composition for tire sufficiently dispersing carbon black and/or silica by suppressing troubles in processing such as scattering or adhesion of the substance in kneading process to a kneader.例文帳に追加

混練中における混練機への混練物の飛散および密着などの加工時の問題を抑制し、カーボンブラックおよび／またはシリカを充分に分散させたタイヤ用ゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To shorten a production lead time when the number of the in-process lots of devices is small when executing production in parallel by a plurality of devices which are able to perform any equivalent processing.例文帳に追加

同等な処理を行うことが可能な複数の装置で並列に生産を実施させる場合において、装置の仕掛りロット数が少ない場合の生産リードタイムの短縮を図る。 - 特許庁

In the process, the image processing section 22 generates a design image indicative of the substrate in accordance with the design information and cross-checks the design image with the image of the substrate as indicated by the inspection image information pp.例文帳に追加

その過程で画像処理部２２は、設計情報に基づいて基板を表す設計画像を生成し、検査用画像情報ｐｐにより表される基板画像との照合を行う。 - 特許庁

To develop images of a unit page at a high speed by terminating an access control in a short time to a memory space where no band memory is present in processing to output plotting data by a banding process.例文帳に追加

バンディング処理による描画データの出力処理においてバンドメモリの存在しないメモリ空間のアクセス制御を短時間で終了させ、単位ページの画像の展開を高速化する。 - 特許庁

To extract a click log with a noise query removed when generating a correct answer DB in a correct answer extraction process, which is pre-processing in a device generating a highly precise ranking function.例文帳に追加

高精度なランキング関数生成装置の前段の処理である正解抽出処理における正解ＤＢを生成する際に、ノイズとなるクエリを除去したクリックログを抽出する。 - 特許庁

In the preliminary machining process, a cut formed by allowing two ends to be respectively extended in two directions for mutually forming an angle is formed at the sheet material 11 by a cutting edge for preliminary processing.例文帳に追加

予備加工工程において、シート材１１に、予備加工用切断刃によって、互いに角度を成す２方向に２つの端がそれぞれ延びて形成される切込みが形成される。 - 特許庁

To improve confirmation work of a correction process by generating a list about correction points, in an image processing device which detects a defective region in digital image data for correcting.例文帳に追加

ディジタル画像データの不良領域を検出し補正する画像処理装置において、補正箇所に関するリストを作成することで、補正処理の確認作業の向上を目的とする。 - 特許庁

A frame extraction unit 40 identifies a destination MAC address, a VID, and priority included in a frame in a process of transferring the frame received at ports 1a-1d to a transfer processing unit 42.例文帳に追加

フレーム抽出部４０は、ポート１ａ〜１ｄで受信したフレームを転送処理部４２へ転送する過程で、フレームに含まれる宛先ＭＡＣアドレス、ＶＩＤ、及び優先度を特定する。 - 特許庁

The business flow analysis means 11 calculates a processing efficiency of the business process in reference to business flow correspondence information stored in a business flow correspondence information storage means 12.例文帳に追加

すると、業務フロー分析手段１１は、業務フロー対応情報記憶手段１２に記憶されている業務フロー対応情報を参照して、業務プロセスの処理効率を算出する。 - 特許庁

To obtain a treating agent for synthetic fibers cauring slight accumulation of scum on an interlacing nozzle can in a fluid jet processing process of a synthetic fiber and excellent in long-term preservation stability.例文帳に追加

本発明の目的は、合成繊維の流体噴射加工工程での交絡ノズルスカムの堆積が少なく、長期貯蔵安定性が優れた合成繊維用処理剤を提供することにある。 - 特許庁

To improve processing efficiency by providing a time slot in an exclusive target resource, and locking the time slot of the exclusive target resource in order to simultaneously process resource reservations whose times are different.例文帳に追加

排他対象のリソースに時間スロットを設け、排他対象のリソースの時間スロットに対してロックを行なうことで、時間が異なる予約を同時に処理させて処理効率を向上させる。 - 特許庁