| 例文 |
in process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4275件
The tracking regulator directs hydraulic fluid from the piston pressure chamber to the source of pressurized hydraulic fluid when the tracking regulator detects a drop in the pressure of the process fluid flow, and the tracking regulator directs additional hydraulic fluid from the source of pressurized hydraulic fluid to the piston pressure chamber of the processing column when the tracking regulator detects an increase in the pressure of the process fluid flow, thereby regulating the set bed pressure.例文帳に追加
追跡調整器は、処理流体流れの圧力の降下を検出すると、ピストン圧力室からの水圧流体を、加圧された水圧流体の供給源へ向かわせ、処理流体流れの圧力の上昇を検出すると、加圧された水圧流体の供給源からの追加の水圧流体をピストン圧力室に向かわせることにより、基材床の圧力を調節する。 - 特許庁
A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material.例文帳に追加
シリコン基板Wよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール5を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜6を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁
In another embodiment, a method for process integration in manufacture of a photomask includes depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加
別の実施形態では、フォトマスク製造におけるプロセス集積方法は、第1の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第2のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第3のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁
(e) For food containing additives (excluding those used for nutrient enrichment, processing aids (meaning substances which are added to food during the processing process and which are removed before the completion of said food or which are changed by some of the raw materials of said food into ingredients such as those generally contained in said food without causing an evident increase in the total quantity of the ingredients, or ingredients whose quantity is so small as to have little impact on said food), and carryover (meaning substances which are used in the process of producing or processing the raw materials of food but are not used in the process of producing or processing said food and whose quantity is not large enough to impact on said food); hereinafter the same shall apply in (e)) which are used as listed in the middle columns of appended table 5: the fact that said additives are contained and the labeling listed in the relevant right hand columns of the same table. For food containing other additives: the fact that said additives are contained; 例文帳に追加
ホ 添加物(栄養強化の目的で使用されるもの、加工助剤(食品の加工の際に添加される物であつて、当該食品の完成前に除去されるもの、当該食品の原材料に起因してその食品中に通常含まれる成分と同じ成分に変えられ、かつ、その成分の量を明らかに増加させるものではないもの又は当該食品中に含まれる量が少なく、かつ、その成分による影響を当該食品に及ぼさないものをいう。)及びキャリーオーバー(食品の原材料の製造又は加工の過程において使用され、かつ、当該食品の製造又は加工の過程において使用されない物であつて、当該食品中には当該物が効果を発揮することができる量より少ない量しか含まれていないものをいう。)を除く。以下ホにおいて同じ。)であつて別表第五の中欄に掲げる物として使用されるものを含む食品にあつては、当該添加物を含む旨及び同表当該下欄に掲げる表示並びにその他の添加物を含む食品にあつては、当該添加物を含む旨 - 日本法令外国語訳データベースシステム
The manufacturing method of the decorative material 8 having the woodgrain feeling is equipped with a process for providing the rotary shaft 1a of a woodgrain brush 1 in parallel to the surface 4a of a resin material 4 to apply woodgrain processing to the surface 4a of the resin material 4 by the rotating woodgrain brush 1.例文帳に追加
木目ブラシ1の回転軸1aを樹脂材4の表面4aに対して並行に設け、回転する木目ブラシ1により樹脂材4の表面4aに木目加工を施す工程を備える木肌感を有する化粧材8の製造方法とする。 - 特許庁
To avoid high manufacturing cost due to a complicated manufacturing/ assembling process requiring precise processing for uniformizing the thickness of a side wall of a dielectric cylinder that is used to cover the reflecting face of a secondary reflecting mirror in the structure for supporting the conventional secondary reflecting mirror of this kind.例文帳に追加
従来のこの種の副反射鏡支持構造は、副反射鏡の反斜面を覆う誘電体円筒を用いているが、この誘電体円筒の側壁の厚さの均一化に精密加工を要する等、製造/組立工程が複雑で製造コストが高くなる。 - 特許庁
To provide an image processor and an image processing method by which transparency process can be performed in a favorable manner by a small amount of memory, even when a group of object images which is constituted by sequentially overwriting object images is superimposed on another object image or a background.例文帳に追加
オブジェクト画像を順次上書きすることによって構成されるオブジェクト画像のグループを他のオブジェクト画像または背景に重ね合わせる場合でも、少ないメモリ容量で良好に透明処理が行える画像処理装置及び画像処理方法の提供。 - 特許庁
To feed and collect a liquid crystal glass substrate timely to a liquid crystal manufacturing device, by fitting to the processing cycle of the liquid crystal manufacturing device, through an in-process conveyer device having an automatic conveyer carriage.例文帳に追加
無人搬送台車を備えた工程内搬送装置を介して、液晶製造装置の処理タクトに合わせて、液晶製造装置に対してタイムリーに液晶ガラス基板の供給、回収を行うことができる液晶ガラス基板貯留装置を提供すること。 - 特許庁
The process liquid supply means comprises a nozzle 30 for supplying the processing liquid almost uniformly in the one-side direction of the substrate 20, and the moving means moves the nozzle 30 on the principal surface of the substrate 20 orthogonal to the one-side direction.例文帳に追加
上記処理液供給手段は、基板20の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル30からなり、上記移動手段は、ノズル30を前記一辺方向と直交する基板20主表面上を移動させる手段である。 - 特許庁
A system microcomputer 8 and a memory controller 9 reads memory contents stored in the memory circuit 6, performs a process for determining an appropriate frequency dividing ratio N by arithmetic processing, and controls a delay amount of the delay circuit 11 and the frequency dividing ratio N of the PLL circuit 7.例文帳に追加
システムマイコン8およびメモリコントローラ9は、メモリ回路6に記憶されたメモリ内容を読み込み、演算処理により適切な分周比Nを求めるための処理を行い、遅延回路11の遅延量およびPLL回路7の分周比Nを制御する。 - 特許庁
When a crack reaching the surface processing indentation 11a and the internal crack 12c is formed in a process for dicing the silicon substrate 10 into element chips 10a by an external force, detection of a separated/unseparated part and redicing of a unseparated part are performed for the element chip.例文帳に追加
外力によってシリコン基板10を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕11aと内部亀裂12cとに至る亀裂を形成する際に、素子チップ10aについての分離/未分離部分の検出、未分離部分の再割断を行う。 - 特許庁
To prevent the generation of deficiency such that rule cracking is developed when a strong rule is applied to a corrugated cardboard sheet at once by the creaser of a corrugated cardboard sheet box making machine and, if a rule not developing rule cracking is appalied, bending deficiency is generated in the bending processing of a downstream process.例文帳に追加
段ボールシート製函機のクリーザで段ボールシートに対して一度に強い罫線を付与すると罫割れが生じ、罫割れが生じないような罫線の付与では下流工程の折り曲げ加工で折り曲げ不良が生じていたが、これらの不良発生を防止する。 - 特許庁
To enhance the efficiency of data processing and the availability for users when a distributing content and a distributing time for digital content are set, and also implement the excellent user's operability for the digital content or the advertisement, and an efficient distributing process in accordance with a terminal position and the likes.例文帳に追加
デジタルコンテンツの配信内容や配信時刻の設定に際してのデータ処理効率やユーザ利便性を向上させ、また、携帯端末の位置等に応じた効率的配信処理や、デジタルコンテンツや広告に対する優れたユーザ操作性を実現可能とする。 - 特許庁
Thereby, as the surface of the orientation film 15 draws gently-sloping inclination at the parts where the spacers present, the uniform orientation treatment of the whole parts including the parts where the spacers are present can be carried out in a process for performing orientation processing to the orientation film 15.例文帳に追加
これにより、配向膜15の表面がスペーサ21が存在する箇所においてなだらかな傾斜を描くので、配向膜15に配向処理を行う工程において、スペーサ21が存在する部分を含めて全体に均一に配向処理を行うことができる。 - 特許庁
It possible to photograph a microscopic image at high speed, makes it unnecessary to open and process many image files when browsing by storing the image data in one file, and eliminates need of a large capacity memory, thereby achieving high-speed processing or display.例文帳に追加
本発明によれば、顕微鏡画像を高速に撮影することが可能であり、画像データを1つのファイルに格納することによって閲覧時に多数の画像ファイルを開いて処理する必要がなく、多量のメモリも不要で、高速に処理や表示ができる。 - 特許庁
In the color filter for the display device, having a color filter layer constituted by performing heat-treatment on the plastic film, the plastic film is made of crosslinking resin and heated at temperature of heat-processing temperature of the color filter layer or more, prior to the formation process of the color filter layer.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に加熱処理してなるカラーフィルタ層を有する表示装置用カラーフィルタにおいて、プラスチックフィルムが架橋性樹脂からなり、かつカラーフィルタ層の形成工程より先にカラーフィルタ層の加熱処理温度以上の温度で加熱されている - 特許庁
To provide a processing apparatus for the drum type workpiece which is simple in structure but can process the spline after correcting the circumferential wall section so that the spline diameter of the circumferential wall section of the drum type workpiece reaches a predetermined value.例文帳に追加
本発明の課題は、簡単な構造でありながら、ドラム形状のワークの周壁部のスプラインの直径が所定値になるように周壁部を矯正した後に、スプラインに加工を施すことのできるドラム形状ワークの加工装置を提供することである。 - 特許庁
The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample.例文帳に追加
同一真空装置に集束イオンビーム光学系31と電子ビーム光学系41を備え、ウェーハ21の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ72を備えた。 - 特許庁
As for the method of production, e.g. in the case of using the d-limonene and polystyrene as the raw materials of the molding materials, a process of mixing the d-limonene with the polystyrene, distilling the mixture to distil off the d-limonene and then mold-processing the residual mixture, etc., is provided.例文帳に追加
製造方法としては、例えば、d−リモネン、成形体原料としてポリスチレンを使用した場合、d−リモネンおよびポリスチレンを混合した後、その混合物を蒸留し、d−リモネンを留出した後、残った混合物を成形加工する方法などがある。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus which can improve yield by displaying existence or non-existence of a wafer in relation to a process progress of the wafer to precisely inform an operator of a processing state of wafers to avoid disposal of nondefective products even when the device stops.例文帳に追加
ウエハの有無と、ウエハのプロセス進捗状況とを対応させて表示し、装置が停止した場合にも、操作者にウエハの処理状況を正確に知らせて、良品を廃棄するのを防ぎ、歩留りを向上させることができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To well dry a substrate surface while preventing a watermark from occurring on the substrate surface in an apparatus and a method of processing the substrate for drying the substrate surface wetted with a process liquid by means of a solvent with low surface tension such as IPA.例文帳に追加
処理液で濡れた基板表面をIPAなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生するのを防止しながら基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁
In the printer system with a host computer 1 and a printer 2 connected thereto, the printer 2 is equipped with a printer controller 3 which carries out staged power control and an image adjustment process by a processing event notification of PDL data based on a page description language from the host computer 1.例文帳に追加
ホストコンピュータ1とプリンタ2が接続されたプリンタシステムにおいて、プリンタ2は、ホストコンピュータ1からのページ記述言語に基づいたPDLデータの処理イベント通知により、段階的な電力制御と画像調整プロセスを実施するプリンタコントローラ3を備えた。 - 特許庁
To improve user's original storage work efficiency by discarding an abnormal original when reading the abnormal original while easily confirming the abnormal original in a storage processing of continuous original images to continuously process following original image reading.例文帳に追加
連続原稿画像の蓄積処理における異常原稿を容易に確認しつつ、異常原稿の読み込み時に、該異常原稿を破棄して、後続する原稿画像読み取りを連続処理可能としてユーザの原稿蓄積作業効率を向上することである。 - 特許庁
To provide an improved automated sample workcell which is operable to process one or two or more biological samples even in a case that no inspection order has been received for the samples, thereby avoiding delays and speeding up sample processing.例文帳に追加
試料に対する検査オーダーを受け取っていない場合でも、その1つまたは2つ以上の生物学的試料を処理するように動作可能で、それにより遅延を回避し、試料処理を迅速化することが可能な改良型自動試料ワークセルを提供する。 - 特許庁
To provide a production method that allows processing steps of photo-resist (PR) coating, exposure and development to be cut down so that the production process can be simplified as a whole, and also allows a circuit pattern of a printed circuit board to be formed finely and precisely through fewer steps and in a shorter time.例文帳に追加
フォトレジスト(PR)塗布、露光、現像工程を減らすことができ、全体的に工程が単純化されるとともに、より少ない工程と時間で印刷回路基板の回路パターンを微細で正確に形成することができる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which expands the range of a realizable variable power rate by setting the process speed of image reproduction in accordance with a variable power rate and also accelerates the processing speed of image reproduction within the allowable range of a scanner scanning speed.例文帳に追加
変倍率に対応して画像再生のプロセス速度を設定することにより、実現可能な変倍率の範囲を拡大するとともに、スキャナの走査速度の許容範囲内で画像再生の処理速度を高速化する画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The detection region 121, the slab type spectroscopic part 108, the light detection part 111, and the control circuit 114 are formed in one and the same manufacturing process by a heretofore known silicon processing technology, a light source 105 and the power source part are easily integrated by mounting.例文帳に追加
検出領域121,スラブ型分光部108,光検出部111、制御回路114は、公知のシリコン加工技術により同一の製造課程で形成可能であり、光源105や電源部は、装着することで一体化することが容易である。 - 特許庁
To form a deposited film with uniform thickness and quality and few defect on a substrate with a large area at a high processing speed in a process for fabricating a semiconductor device wherein the deposited film is formed on the substrate by plasmanizing a raw material gas by high-frequency power.例文帳に追加
高周波電力によって原料ガスをプラズマ化し、基体上に堆積膜を形成する、半導体装置の製造方法において、高速な処理速度で大面積の基体上に、膜厚、膜質共に均一で欠陥の少ない堆積膜を形成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an epitaxial silicon wafer, in which the polishing process is simplified, thereby the productivity is enhanced and the cost is reduced, the density of LPD (light point defects) generated on the surface of a mirror-polished wafer caused by processing is reduced, and the surface roughness of the surface of the wafer is improved.例文帳に追加
研磨工程の簡略化で生産性が高まり、コストダウンが可能で、鏡面研磨されたウェーハ表面に生じる加工起因のLPDの密度を低減し、ウェーハ表面の表面粗さを改善可能なエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process and system for making fuel, using as a raw material animal oil such as beef tallow and lard remaining as a residue after meat processing, which can give clean fuel having flowability at low viscosity, without being solidified in a low temperature or ordinary temperature region.例文帳に追加
食肉加工後に残渣物として残る牛脂や豚脂などの動物性油脂を原料として、低温乃至常温域で固化せず、低粘度で流動性を保持するクリーンな燃料を得ることのできる燃料化方法および燃料化システムを提供する。 - 特許庁
In the analysis process, it is suitable that the configurations are determined from the upstream side by repeating processing to determine that the maximum number of downstream side devices are directly connected to the downstream side ports among the devices connected to the downstream side ports.例文帳に追加
解析工程では、下流側ポートの先に接続されている機器のうち、下流側機器数が最大のものをその下流側ポートに直接接続されていると決定する処理を繰り返して、上流側から構成を決定していくことが好適である。 - 特許庁
To solve the problem of being stagnant since a postprocessing process is interrupted, useless waiting time and paper replenishing operation are required and the other image forming processing cannot be performed, when paper runs out of a paper feeding tray in the middle of binding and forming a book by a postprocessor.例文帳に追加
後処理装置にて製本形成をおこなっている途中で、用紙が給紙トレイから無くなったとき後処理工程を中断させ、無駄な待ち時間や用紙補充操作を要したり、他の画像形成処理ができず停滞するという問題が生じる。 - 特許庁
To provide a polishing composition which has the sufficiently larger polishing rate of a tantalum compound than that of copper and substantially almost not polish SiO_2, in the CMP processing process of a semiconductor device having the barrier layer of the tantalum compound and the insulating layer of the SiO_2.例文帳に追加
銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層を有する半導体デバイスのCMP加工プロセスにおいて、タンタル化合物の研磨レートが銅に比べて充分に大きく、SiO_2の研磨は実質的に殆んど起こらない研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
When a pointer is put over the area of the sub-recipe number of a process unit (washing unit, a dehydrating baking unit, coating unit, etc.), in a recipe picture, a comment ('operation is included and liquid chemicals are used') showing the contents of processing conditions specified by the sub recipe number is displayed.例文帳に追加
レシピ画面において、処理ユニット(洗浄ユニット、脱水ベークユニット、塗布ユニット等)のサブレシピ番号の領域にポインタを重ねたとき、当該サブレシピ番号により特定される処理条件の内容を表すコメント(「動作有り・薬液有り」)を表示させる。 - 特許庁
A production line evaluation means 4 calculates a Q-Time upper limit based on the preconditions 3 and evaluates the production line by means of the ratio of the Q-Time upper limit to average processing time Ep per lot (i.e., upper limit WL for the number of work-in-process lots).例文帳に追加
生産ライン評価手段4は、前提条件3aに基づきQ-Time上限値を求めるとともに、Q-Time上限値と1ロットあたりの平均処理時間Epとの比(すなわち仕掛ロット数上限値WL)を用いて生産ラインの評価を行っている。 - 特許庁
A movement area detecting process part 3 detects whether or not a set detection processing object block is in the movement area according to encoded mode information (p) of a current frame, prediction error information (a), and movement prediction information (b).例文帳に追加
移動領域検出処理部3は、現フレームの符号化モード情報pと、予測誤差情報aと、動き予測情報bを基に、該検出対象設定部2によって設定された検出処理対象ブロックが移動領域に属するか否かを検出する。 - 特許庁
To provide a substrate conveyance carrier in which an object to be conveyed is suppressed from being destroyed or deformed when releasing the object to be conveyed, while suppressing occurrence of position deviation of the object to be conveyed even when applying heating processing such as a reflow process, and which is available iteratively.例文帳に追加
リフロー工程などの加熱処理が施される場合においても被搬送物の位置ずれの発生を抑制しつつ、被搬送物の剥離時において被搬送物の破壊や変形の発生が抑制され、繰り返し使用可能な基板搬送用キャリアを提供する。 - 特許庁
To accurately process a workpiece with a spindle rotating at a high speed by sufficiently increasing a critical speed of the spindle, in a spindle device and a double wheel grinding device for rotatably supporting the spindle with a bearing section and processing the workpiece.例文帳に追加
本発明は、主軸を軸受部により回転可能に支持して被加工物の加工を行う主軸装置及び両頭研削装置に関し、主軸の危険速度を十分に高めて、高速回転する主軸により被加工物を高精度に加工することを目的とする。 - 特許庁
A section 18 of computing compensation movement amount computes a compensating movement amount in the subscanning direction 9 of the process processing section 3, based on a newly measured displacement or displacement stored beforehand based on the determination of the section 17 of determining the need for displacement measurement.例文帳に追加
補正移動量算出部18は、ずれ量計測要否判断部17の判断に基づいて、新たに計測されたずれ量または予め記憶されたずれ量に基づいて、工程処理部3の副走査方向9の補正移動量を算出する。 - 特許庁
To provide both a method for modifying a mixed waste oil of a vegetable oil and an animal oil discharged from a food processing process, etc., simply in a short time to reuse it as a high-quality fuel and a method for resource saving through the mixed waste oil.例文帳に追加
食品加工工程などで排出する植物性油と動物性油との混合廃油を簡便かつ短時間で改質し高品質な燃料として再使用可能な方法の提供及び混合廃油を介して行う省資源方法を提供する。 - 特許庁
To provide a heat-bondable filament which scarcely changes the dimension when subjected to a heat bonding treatment in a post process or the like, has an excellent processing property, scarcely lowers the strength after the thermal treatment, and can suitably be used for the uses of industrial materials requiring high strength.例文帳に追加
後工程等で熱接着処理を行った際の寸法変化が小さく、加工性に優れており、また熱処理後の強力低下が小さく、強度が要求される産業資材用途に好適に使用することができる、熱接着性長繊維を提供する。 - 特許庁
If it is not necessary to use a virgin starting clay which is indispensable in a general processing of holding a shape during formation of a work by a hand-made process using an electric lathe for a pottery and thus a work can easily be formed and its shape can be held, no long-period training is not necessary.例文帳に追加
陶芸用電動轆轤を使う手造りにて作品成形途中の形状保持に通常の手順では必要なバージンの原料土が不要で、作品形状を容易に成形してその成形品を保持出来れば、長い熟練期間は必要ない。 - 特許庁
To provide a processing device for a photosensitive material, the device carrying out an appropriate UV post-exposure process and then preventing deformation due to overheating, in an UV post-exposure device that promotes polymerization of a photopolymerization layer of a photosensitive material sheet having the photopolymerization layer.例文帳に追加
光重合層を持つ感光材料シートの光重合層の重合を促進させるUV後露光装置において、適切なUV後露光処理を実施した後、過加熱による変形の発生を防止する感光材料処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a laminated ceramic electronic component, capable of suppressing cracks caused by the thinness of external electrode paste coating, suppressing chipping caused by the collision of components with each other in a post process and performing efficient barrelling processing further.例文帳に追加
外部電極ペースト塗布厚みの薄さに起因するクラックを抑制でき、また、後工程における部品同士の衝突によるカケやチッピングを抑制でき、さらには効率的なバレル研磨処理が可能である積層型セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, since a process for creating the density data (CMYK) corresponding to a plurality of relative movement (or a plurality of recording element groups) can be performed in a lump from the input image data, the increase of the load and the time of data processing can be suppressed.例文帳に追加
これにより、入力画像データから、複数の相対移動(あるいは複数の記録素子群)に対応する濃度データ(CMYK)を生成する工程を一括して行うことが出来るので、データ処理の負荷および処理時間の増大を抑制することができる。 - 特許庁
Thereafter, when notification that the recipient has extracted the document by the device of the transmission destination is not received within a period of validity, the communication control section 36 performs the same process again and retransmits the document to the image processing device located in the vicinity of the recipient at that time.例文帳に追加
その後、通信制御部36は、送信先の装置で受取人が文書を取り出した旨の通知を有効期限内に受信しなければ、再び同じ処理を行い、その時点で受取人の近くにある画像処理装置に文書を再送する。 - 特許庁
To obtain cellulosic fiber dyeable with a a cationic dye which develops dyeing having resistance to wet-heat treatment even in a processing process adopting the wet-heat treatment.例文帳に追加
湿熱処理に耐性のある染色発現を達成する、すなわち湿熱処理を採用する加工工程を行っても実用上満足できるカチオン染料染色特性および染色濃度を有するカチオン染料可染性セルロース系繊維及びその織編物を提供する。 - 特許庁
Each processor can thus process the processes for applying the image effects in divided image signal field units, so that the plurality of processors can be used efficiently to increase the throughput of the entire image generation processing.例文帳に追加
こうすると、各プロセッサにおいて画像効果を適用する処理を画像信号のフィールド単位に分割して処理することができるようになることから、複数のプロセッサを効率的に活用でき、画像生成処理全体のスループットを向上することができるようになる。 - 特許庁
A zero run processing section 7 for a process of counting zero coefficients is provided not in a Huffman encoding section 5 but before the Huffman encoding section 5, the zero coefficients are processed before Huffman encoding and the Huffman encoding section 5 processes non-zero coefficients and a zero run length only.例文帳に追加
ゼロ係数をカウントする処理を行なうゼロラン処理部7を、ハフマン符号化部5の中ではなく、ハフマン符号化部5の前に設け、ゼロ係数の処理をハフマン符号化の前に行ない、ハフマン符号化部5では、非ゼロの係数とゼロランレングスのみを処理する。 - 特許庁
In a process of etching the wiring of a printed board using an etchant prepared by mixing a plurality of constituents for formation, temperature control and stirring are performed for a supplemental chemical solution for supplementing the etchant consumed for the etching processing or at a standby time.例文帳に追加
複数の成分を混合したエッチング液を用いてプリント基板の配線をエッチング処理して形成する工程において、エッチング処理又は待機時に消費されたエッチング液を補充するための補充薬液に対して、温度調節および攪拌を行う。 - 特許庁
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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