「microscope method」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

This method is applied for a scanning type probe microscope having a measuring part for scanning a sample 12 by a probe 25 to measure a physical quantity about the sample surface, and constituted to be provided with an XY fine moving mechanism 24 for moving the probe finely, and an XY stage 51 for moving the sample roughly.例文帳に追加

この測定方法は、探針２５で試料１２を走査して試料表面に関する物理的量を測定する測定部を有し、かつ探針を微動させるＸＹ微動機構２４と試料を粗動させるＸＹステージ５１を備えるように構成された走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

A control unit 16 controls a microscope device 13 that magnifies and images a sample 12 with one or more imaging methods, and images and records the image of the sample 12 with one or more imaging methods according to an imaging method list in which combinations of imaging methods specified by a user are registered.例文帳に追加

コントロールユニット１６は、１以上の撮像手法で試料１２を拡大して観察する画像を撮像する顕微鏡装置１３を制御し、ユーザにより指定された撮像手法の組み合わせが登録された撮像手法リストに従って、１以上の撮像手法で試料１２の画像を撮像して記録する。 - 特許庁

The chemical-mechanical-property evaluating method supplies a slurry polishing agent on the surface of a polishing pad and evaluates the Young's modulus of the polish relating object of a polished object, etc. obtained in the chemical mechanical polish for subjecting the pad and such a thin-plate-form polished object as a semiconductor wafer into a relative motion, by using an inter-atom microscope device.例文帳に追加

スラリー状の研磨剤を研磨パッド表面に供給して、パッドと半導体ウエハ等の薄板状被被研磨物とを相対運動させる科学的及び機械的な研磨における、被研磨物などの研磨関連物の表面のヤング率を、原子間力顕微鏡装置を用いて評価する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a needle crystal which can manufacture the needle crystal having an extremely sharp tip without requiring materials such as Au and the like that cause deterioration of a semiconductor crystal, and a cantilever of a scanning type probe microscope which can comply with extremely fine irregularities of the surface of an observation object.例文帳に追加

半導体結晶の劣化を引き起こすＡｕ等の材料を必要とせず、先端が極めて鋭い針状結晶を製造することができる針状結晶の製造方法と、被観察物表面の極めて微細な凹凸に対応することが可能な走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーとを提供する。 - 特許庁

To provide a novel method and apparatus which construct digitally scanned images, and store the digitally scanned images in a tiled format convenient for viewing the images without a microscope, and are improved for transferring the tiled images of a plurality of magnifications in such a manner that the images can be viewed by other users in remote locations.例文帳に追加

デジタル走査されたイメージを構築し、デジタル走査されたイメージを顕微鏡なしでビューするのに好都合なタイル化フォーマットで記憶し、かつリモートロケーションの他のユーザがビューできるように複数の倍率のタイル化イメージを転送するための改良された新規の方法および装置を提供すること。 - 特許庁

Particularly, a preferable example is the powder having rare earth elements (Sc, Y can be treated as rare earth elements)on the particle surfaces, such as having an average long axis length of 10-200 nm when measured in the image photographed by using transmission electron microscope and a specific surface area of 30-200 m^2/g by the BET method.例文帳に追加

特に、粒子表面に希土類元素（Ｓｃ、Ｙも希土類元素として扱う）を有するものが挙げられ、透過型電子顕微鏡写真より計測される平均長軸長が１０〜２００ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積が３０〜２００ｍ^2／ｇであるものが好適な対象となる。 - 特許庁

The screening method comprises the analysis of cell images photographed by a microscope, the evaluation of the parameterized value of the deviation of the contour of the cell from circles C_I and C_O as a morphological character representing the morphological character of each cell in the cell images and the screening of medicines based on the evaluation.例文帳に追加

顕微鏡により取得した細胞画像を解析し、細胞画像中の各細胞の形態的な特徴を表す形態特徴量として、細胞の輪郭の円Ｃ_Ｉ，Ｃ_Ｏからのずれ量をパラメータ化した値を評価し、この評価に基づいて薬剤スクリーニングを行うスクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

In the method, a scanning microscope provided with both a stage 10 for fixing a sample 80 and a cantilever 30 having a probe 40 at its tip part is used to evaluate the local adhesion of the thin film 81 to a substrate 82 in the sample 80, in which the thin film 81 adheres onto the substrate 82.例文帳に追加

本発明の局所密着性評価方法は、試料８０を固定するステージ１０と、探針４０を先端部に有したカンチレバー３０と、を備えた走査型プローブ顕微鏡を用いて、基体８２上に薄膜８１が密着した試料８０の、薄膜８１の基体８２に対する密着性を評価する方法である。 - 特許庁

To prevent measuring error and obtaining sufficient measuring precision when the reflection coefficient of a measuring object is low and a pattern having a higher reflection coefficient exists in the vicinity of the object, in an apparatus and a method for measuring the dimension of a pattern by obtaining an image with an optical microscope.例文帳に追加

光学式顕微鏡により画像を取得してパターンの寸法を測定する装置及び方法において、測定対象のパターンの反射率が低く、近傍に反射率のより高いパターンが存在する場合にも、測定ミスを防止でき充分な測定精度を得ることができるものを提供する。 - 特許庁

In this method, based on position coordinate of the defect detected by defect detecting means, marking through ion beam, etc. is provided around the position coordinate, sample is observed with a transmission electron microscope to identify the defective area from relative positional relationship between the marking and the defect, reliably preparing sample which contains the target defective area.例文帳に追加

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁

The method of detecting the defects of the optically transparent member detects the existence of the refractive index discontinuity defects by using a polarization microscope, for which the area ratio for the intensity ratio of light of wavelength 650-750 nm to light of wavelength 250-650 nm is 0.4 or larger for the wavelength distribution of observation light.例文帳に追加

光透過性部材の欠陥検出方法であって、観察光の波長分布が波長２５０〜６５０ｎｍの光に対する波長６５０〜７５０ｎｍの光の強度比が面積比で０．４以上である偏光顕微鏡を用いて、屈折率不連続欠陥の有無を検出することを特徴とする欠陥検出方法。 - 特許庁

To achieve an electron microscope or an X-ray analysis apparatus, and a sample analysis method for precisely and speedily performing an element analysis with high precision by X rays being generated from a sample by applying electron rays being a foreign object element inspection required for improving a manufacturing yield in a semiconductor element or the like.例文帳に追加

半導体素子等の製造歩留まり向上のために必要な異物元素検査である電子線を照射して試料から発生するＸ線による元素分析を、高精度、高分解能、高速に実施できる電子顕微鏡またはＸ線分析装置及び試料の分析方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

In the fault analyzing method of the semiconductor device, the shape defect (existence of disconnection part 13, for example) in the contact part between gate wiring 4A and wiring 8B is detected by irradiating the contact part with light and observing the direction component of reflected light by a polarizing method using a polarized microscope 20.例文帳に追加

本発明の半導体装置の故障解析方法は、偏光顕微鏡２０を用いた偏光法により、ゲート配線４Ａと配線８Ｂ間のコンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を当該コンタクト部に光を照射し、その反射光の方向成分を観察することで、上記コンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を検出することを特徴とする。 - 特許庁

To detect, in a method detecting particles containing infinitesimal fission materials contained in a collected swipe sample by the fission track method, the particles containing the fission materials in a short time and easily by eliminating sophisticated measuring techniques using special apparatus such as an atomic force microscope and eliminating effects in which the shape of the core of a fission track depends on the surface shape of the particles.例文帳に追加

採取したスワイプ試料中に含まれる極微量核分裂性物質を含む粒子をフィッショントラック法によって検出する手法において、原子間力顕微鏡のような特殊な装置を用いた高度な測定技術を必要とせず、また、フィッショントラックのコアの形状が粒子の表面形状に依存する影響をなくして、短時間で容易に核分裂性物質を含む粒子を濃縮度別に検出する。 - 特許庁

The conductive electroless plating powder in which a nickel film is formed by an electroless plating method on the surface of the core member powder is characterized in that grain boundaries are not admitted at the section in the thickness direction of the nickel film when the section is observed by a scanning electron microscope at magnifying power up to 100,000 times.例文帳に追加

本発明の芯材粉体の表面に無電解めっき法によってニッケル皮膜を形成した導電性無電解めっき粉体は、前記ニッケル皮膜の厚さ方向断面を、走査型電子顕微鏡によって１０００００倍迄の拡大倍率で観察したときに、該断面に結晶粒界が認められないことを特徴とする。 - 特許庁

In a method of evaluating the surface of a principal surface of an attraction retainer onto which an object is to be attracted, surface evaluation of the principal surface is performed based on images of interference patterns in the principal surface obtained using a laser microscope.例文帳に追加

被吸着物を吸着する吸着保持装置の前記被吸着物を吸着する側の主面に対する表面評価方法であって、レーザ顕微鏡を用いて求められた前記主面における干渉縞の像に基づいて前記主面に対する表面評価を行うことを特徴とする吸着保持装置の表面評価方法。 - 特許庁

In the cantilever-type near-field optical probe and its manufacturing method, and the microscope, recording/reproducing device, and fine- machining device using them, a surface plasmon polariton transmission line for guiding light from a light source to a small opening or guiding light from the light source being introduced from the small opening is provided at the cantilever.例文帳に追加

カンチレバー型近接場光プローブとその作製方法、及びこれらを用いた顕微鏡、記録再生装置、微細加工装置であって、該微小開口ヘ光源からの光を導波させ、または／及び該微小開口から導入された光源からの光を導波させるための表面プラズモンポラリトン伝送路が、前記カンチレバーに設けられようにする。 - 特許庁

In the inspection method of the nonmetal inclusion in steel, the surface of steel subjected to mirror surface polishing is observed using an optical microscope using a single wavelength laser beam source as an illumination light source and the nonmetal inclusion is discriminated on the basis of the brightness difference between steel and the nonmetal inclusion in the observed variable density image.例文帳に追加

本発明に係る鋼中非金属介在物検査方法は、照明光源として単波長レーザ光源を使用した光学顕微鏡を用いて鏡面研磨した鋼の表面を観察し、観察した濃淡画像における鋼と非金属介在物との輝度差に基づいて、非金属介在物を識別することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a signal detection apparatus enabling simplification of a mechanism for detecting the displacement of a probe and simplification of the arrangement of a detection system even if a plurality of probes are in use, thus enabling a space saving, a scanning atomic force microscope constructed of the detection apparatus, and a signal detection method.例文帳に追加

プローブ変位検出のための機構を簡単化することができ、また複数のプローブを用いる場合においても検出系の構成を簡便化することができ、省スペース化を図ることが可能な信号検出装置、該信号検出装置によって構成した走査型原子間力顕微鏡、および信号検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical radiation pressure measuring device capable of easily and accurately measuring an optical radiation pressure, a resonance frequency regulating method capable of easily adjusting a resonance frequency of a resonance body, an aperture diameter inspection device evaluating a minute aperture of the resonance body, and a near field microscope provided with the aperture diameter inspection device.例文帳に追加

本発明の目的は光放射圧を簡便かつ正確に測定可能な光放射圧測定装置、共振体の共振周波数を容易に調整可能な共振周波数調整方法、共振体の微小開口を評価する開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁

In the method, a pulse voltage VB is applied to a material 3 having a ferroelectric thin film 1 by a conductive needle 2 by using an atomic force microscope, the amplitude of the pulse voltage VB is changed by a voltage applying means when a film thickness change of the ferroelectric thin film 1 is measured, and also a detecting output is measured through a lock-in amplifier 4.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いて導電性針２によって強誘電体薄膜１を有する試料３にパルス電圧Ｖ_B を印加し、強誘電体薄膜１の膜厚変化分を測定する際に、パルス電圧Ｖ_B の振幅を電圧印加手段によって変化させるとともに、検出出力をロックインアンプ４を通して測定する。 - 特許庁

In the evaluation method of the co-flocculation capacity of bacteria, external force is applied to a capsule 11 for submerged observation containing at least two kinds of bacteria becoming an evaluation target, the co-flocculation states of bacteria before and after external force is applied is observed by a scanning electron microscope and the co-flocculation capacity of bacteria is evaluated on the basis of the observation result.例文帳に追加

本発明の細菌の共凝集能の評価方法は、評価対象となる二種以上の細菌を含む液中観察用カプセル１１に外力を加え、外力を加える前と加えた後の前記細菌の共凝集状態を走査型電子顕微鏡により観察し、その観察結果に基づいて前記細菌の共凝集能を評価する。 - 特許庁

In a method that an image is formed by utilizing a secondary electron amplification by residual gas around a sample in a low vacuum scanning electron microscope(SEM) and an absorption current, the observation with high resolution and good image quality is enabled by an electric field in which an electrode acts with the comparatively reduced number of parts and a design taking scattering of a first electron beam into consideration.例文帳に追加

低真空SEMにおける試料周辺の残留ガス分子による二次電子増幅法と吸収電流を利用して画像を形成する方式に於いて、比較的少ない部品数で電極が作用する電界や１次電子ビームの散乱を考慮した設計によって、低真空における高分解能・良好な像質での観察を可能とする。 - 特許庁

To provide a microobservation apparatus capable of displaying an image of an observation sample of which the change accompanying the lapse of time is detected, together with the effect that the change is detected when the image of the sample gained by a microscope is observed, and to provide a microobservation method and a microobservation program which are executed in the microobservation apparatus.例文帳に追加

顕微鏡によって取得した観察試料の画像を観察する際、時間経過に伴う変化が検出された観察試料の画像を、変化が検出された旨とともに表示することが可能な顕微観察装置、該顕微観察装置において実行される顕微観察方法および顕微観察プログラムを提供すること。 - 特許庁

A coal ash evaluation method: calculates a specific surface area of a particle of a specific type contained in coal ash to be used through a particle analysis using an electronic microscope; and evaluates a suppression effect of the coal ash to be used on an alkali-silica reaction by comparing data on expansion coefficients obtained through alkali-silica reaction tests using mortar mixed with preliminarily collected coal ash from different production areas.例文帳に追加

電子顕微鏡を用いた粒子解析により、使用する石炭灰中に含まれる特定の種類の粒子の比表面積を算出し、予め収集した産地の異なる石炭灰を混合したモルタルによるアルカリシリカ反応性試験の膨張率のデータとを比較し、使用する石炭灰のアルカリシリカ反応の抑制効果を評価する。 - 特許庁

In the evaluation method for the optical characteristics of the optical compensation element using a liquid crystal molecular material, the surface of an optical compensation layer is observed by a polarization microscope, the dimension of each granular domain formed by differences between the axial orientations of liquid crystal molecules are evaluated, and the dimension of the domains has a diameter of 5 μm or less.例文帳に追加

液晶性分子材料を用いた光学補償素子の光学特性の評価方法において、偏光顕微鏡により光学補償層の表面を観察し、液晶性分子の軸方位の違いにより形成された粒状のドメインの大きさを評価し、該ドメインの大きさが直径５μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of correcting the defects of a photomask which is capable of precisely removing the residual defects below 500 nm without the damage on a quartz substrate and segments exclusive of the defects after the correction of the remaining defects formed on a mask and is capable of easily detecting even the end point of the correction and a scanning probe microscope used for the same.例文帳に追加

マスクに形成された残留欠陥修正後の石英基板や欠陥以外の部分へのダメージが無く、５００ｎｍ以下の残留欠陥を精度良く除去することが可能で、修正のエンドポイントも容易に検出できるフォトマスクの欠陥修正方法及びそれに用いる走査プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor obtained by sequentially stacking at least an intermediate layer, a charge generating layer and a charge transport layer on a conductive support, the intermediate layer contains a thermoplastic resin and a microscopic ten-point average roughness obtained by shape observation through an atomic force microscope is ≤3.2 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に、少なくとも中間層、電荷発生層、電荷輸送層が順次積層されて成る電子写真用感光体の製造方法において、前記中間層が熱可塑性樹脂を含有し、且つ、原子間力顕微鏡による形態観察をして得られた微視的な十点平均粗さが３．２ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises: condensing and irradiating pulse laser beams from beneath of a solution with an objective lens 5 of a microscope, thereby generating plasma emission at the upper portion of the solution surface; and condensing the emission spectrum with an objective lens 9 at the upper portion of the solution and measuring it with a spectrometer 12, thereby analyzing a metallic element contained in the solution.例文帳に追加

顕微鏡を使用して溶液の下からパルスレーザー光線を対物レンズ５で集光して照射ことより、溶液表面上部でプラズマ発光が発生する、その発光スペクトルを溶液上部の対物レンズ９で集光して分光装置１２で測定して、溶液に含まれる金属元素を分析することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a magnetic domain observation method, a magnetic domain observation device and a magnetic domain observation program capable of acquiring a clear magnetization image by reducing deterioration of a magnetic domain contrast by image processing in detail, concerning magnetic domain observation using a microscope by utilizing a magnetic Kerr effect for observing the magnetic domain of a magnetic body such as a magnetic head.例文帳に追加

本発明は、磁気ヘッド等の磁性体の磁区を観察する磁気カー効果を利用した顕微鏡を用いた磁区観察に関し、より詳細には磁区コントラストの劣化を画像処理によって低減して明瞭な磁化画像を得ることができる磁区観察方法、磁区観察装置および磁区観察プログラムに関するものである。 - 特許庁

In the cell protrusion extraction method for extracting only the protrusion from the image of the cell body obtained by picking up with a microscope, a binarization process is applied to the obtained cell image, a binarized image is obtained and the cell body is extracted from a compressed image (DC component) obtained by applying a wavelet transform process to the binarized image.例文帳に追加

細胞体を顕微鏡により撮像して得られた画像から突起部のみを抽出する細胞突起抽出方法において、取得した細胞画像に対して二値化処理を行って二値化画像を取得し、この二値化画像をウェーブレット変換処理することにより得られた圧縮画像（ＤＣ成分）から細胞本体部を抽出する。 - 特許庁

In this lubricant degradation measuring method, a photon image generated in a slide contact point of a disk mounted with a semi-spherical pin and the lubricant is detected through an optical microscope constituted of an ultraviolet ray transmitting lens, and the presence of the generation of triboplasma in the vicinity of a lubricating point of the lubricant is determined based on the presence of a UV image.例文帳に追加

半球ピンと潤滑剤を載せたディスクの摺動接触点で発生する光子像を、紫外線透過レンズで構成された光学顕微鏡を通して検出し、UV像の発生の有無により、トライボプラズマが潤滑剤の潤滑点の近傍に発生しているかどうかを判定することからなる潤滑剤の劣化測定方法。 - 特許庁

To quantitatively express directional properties(anisotropy) in a three-dimensional structure created by a target to be noticed in an image to a three-dimensional image constructed by a tomogram acquired nondestructively, a sectional image acquired by direct observations using a microscope, or the like by a nondestructive inspection, such as X rays and a nuclear magnetic resonance method.例文帳に追加

エックス線や核磁気共鳴法などの非破壊検査により非破壊で取得された断層画像や顕微鏡などの使った直接的な観察よって取得された断面の画像などから構築された３次元画像に対して、画像内にある注目対象が作る３次元構造の方向性（異方性）を定量的に表現する。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

In this method, shape measurement for the lens under test which is to be turned about a rotating shaft R_2, performed as changing relative attitude of a microscope interferometer 1 is divided into two steps, such as a surface side measurement performed with the lens under test 9 supported from the rear face side; and a rear face side measurement performed with the lens under test 9 supported from the surface side.例文帳に追加

回転軸Ｒ_２回りに回転せしめられる被検レンズ９に対し、顕微干渉計１の相対姿勢を変えながら行う形状測定を、被検レンズ９が裏面側から支持された状態で行う表面部の測定と、被検レンズ９が表面側から支持された状態で行う裏面部の測定とに分けて行う。 - 特許庁

In the method for analyzing the materials in the microcapsule of the sample for observation containing the microcapsule by the transmission electron microscope, the sample for observation is used as the sample for observation containing the microcapsule, where the microcapsule including monomer capable of photopolymerization is irradiated with light.例文帳に追加

マイクロカプセルを含む観察用試料のマイクロカプセル内の材料を透過型電子顕微鏡により解析する方法であって、該マイクロカプセルを含む観察用試料として、光重合可能なモノマーが内包されたマイクロカプセルに光照射をした観察用試料を用いることを特徴とする、マイクロカプセル内の材料を透過型電子顕微鏡により解析する方法。 - 特許庁

This manufacturing method of a sample for a transmission type electron microscope includes a process for forming a protective film of an amorphous structure to the observation cross section of the specific place of a semiconductor device, a process for removing the periphery of the observation cross section to which the protective film is formed and a process for forming the region containing the protective film into a thin film state.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法において、半導体デバイスの特定箇所の観察断面に非晶質構造の保護膜を形成する工程と；前記保護膜が形成された観察断面の周囲を除去する工程と；少なくとも前記保護膜を含む領域を薄膜化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

An inspection method of an optical semiconductor element includes steps of: driving an optical semiconductor element 2 which is an inspected target with a current smaller than a threshold current of the optical semiconductor element 2 to generate incoherent light; acquiring a light emitting image by observing the light with an emission microscope 10; and analyzing a defective state from the light emitting image.例文帳に追加

光半導体素子の検査方法は、検査対象である光半導体素子２を該光半導体素子２のしきい値電流より低い電流で駆動して、インコヒーレントな光を発生させる工程と、前記光をエミッション顕微鏡１０で観察することにより発光像を得る工程と、前記発光像から不良状態を解析する工程と、を含む。 - 特許庁

In the formation of the transmission electron microscope observation sample for a magnetic material by means of a convergent ion beam machining method, machining is carried out so that a width w1 of the thin piece machined part for observation and a sample thickness t in the part adjacent to the machined part satisfy the relation t<3×w1.例文帳に追加

磁性材料の透過電子顕微鏡観察用試料を集束イオンビーム加工法で作製するにあたり、観察をおこなう薄片加工部の幅ｗ_1 とそれに隣接した部分の試料厚みｔとの間に、ｔ＜３×ｗ_1 なる関係が成り立つように加工することを特徴とする磁性材料の透過電子顕微鏡観察用試料作製方法。 - 特許庁

The method applied to the scanning probe microscope comprises a probe section, having the probe 20 facing the sample 12; a detection section for detecting physical quantities between the sample and the probe; a measuring section for measuring surface information of the sample, based on the physical quantity, when the probe scans the surface of the sample; and a moving mechanism that has at least two degrees of freedom.例文帳に追加

この探針制御方法は、試料１２に対向する探針２０を有する探針部、試料と探針の間の物理量を検出する検出部、探針が試料の表面を走査するとき物理量に基づき試料の表面情報を測定する測定部、少なくとも２自由度を有する移動機構を備え走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

In the method for mounting the microscope observation sample mount of a porous body, a cured resin is subjected to impregnation treatment to the pore section of the porous body by a vacuum impregnation method, a sample mount having a ring type before the curing resin is cured is rotated by a rotary pressurizing apparatus 1 for filling the cured resin into the pore section of the porous body by centrifugal force (1).例文帳に追加

１．多孔質体の顕微鏡観察試料マウント製作方法にして、前記多孔質体の気孔部に真空含浸法により硬化型樹脂を含浸処理し、該硬化型樹脂が硬化する前の型リング付き試料マウントを回転加圧装置１により回転させて前記多孔質体の気孔部へ前記硬化型樹脂を遠心力により充填させることを特徴とする多孔質体の顕微鏡観察試料マウント製作方法。 - 特許庁

To provide a liquid medium for sample observation by an electron microscope and a sample observation method using the liquid medium, capable of preventing charge of a sample observation surface by a simple means, suppressing deformation caused by contraction or the like even after being dried, in a biosample or the like, and restraining an original image of the sample from being obstructed by partial remaining of ion liquid on a contraction impression.例文帳に追加

試料観察面の帯電を簡易な手段で防止でき、生体試料等において、乾燥後も収縮等の変形を抑制でき、さらに収縮痕へのイオン液体の部分的な残留により試料本来の像が妨げられることを抑制できる電子顕微鏡による試料観察用の液状媒体とそれを用いた試料観察方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for quantitatively measuring the surface potential distribution of a solid, especially a semiconductor with high space dissolving capacity using a scanning type tunnel microscope by solving the conventional technical problem that the distance between a probe and the surface of a sample and the thickness of the depleted layer of the surface of the sample are unclear and the measurement in the depleted layer region is difficult, and an apparatus therefor.例文帳に追加

探針／試料表面距離が不明、試料表面の空乏層 厚が不明、空乏層領域での計測が困難、という従来技術の問題点を解決し、固体表面、特に半導体表面の表面電位分布を、走査型トンネル顕微鏡を用いて高い空間分解能で定量的に計測する方法とそのための装置を提供する。 - 特許庁

(b) an average primary particle size of the silica particles measured by a nitrogen adsorption method is 5-100 nm and a coefficient of variation CV value of a particle size of the silica particles measured by an image analysis of a photograph obtained by using a transmission electron microscope is 0-15%; and (c) the polyethylene glycol has a number-average molecular weight of 200-15,000.例文帳に追加

（ａ）：前記シリカ粒子の形状係数ＳＦ１が１．００〜１．２０であること（ｂ）：前記シリカ粒子の窒素吸着法により求められる平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであって、且つ透過型電子顕微鏡写真の画像解析から求められる粒子径変動係数ＣＶ値が０〜１５％であること（ｃ）：前記ポリエチレングリコールは、数平均分子量が２００〜１５０００であること - 特許庁

The testing method of semiconductor device comprises a steps of forming an electrode 10 on the main surface of a semiconductor test sample, cutting out a semiconductor test sample, exposing the cross-section of the semiconductor test sample, and obtaining carrier distribution within the cross-section by scanning the cross-section with a probe 14 of the scanning probe microscope while the predetermined potential is applied to the electrode 10.例文帳に追加

半導体試料の主面上に電極１０を形成する工程と、半導体試料を切断し、該半導体試料の断面を露出させる工程と、前記電極１０に所定電位を与えながら、走査型プローブ顕微鏡のプローブ１４で上記断面を走査することにより、該断面内におけるキャリア分布を得ることを特徴とする半導体装置の検査方法。 - 特許庁