「process state」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

In this surface state measuring method for measuring the surface state of a semiconductor wafer 12 based on infrared rays emitted from the semiconductor wafer 12 after multiple reflection by the inside of the semiconductor wafer 12, a reference spectrum is measured before a prescribed manufacturing process, and a measuring spectrum is measured after a prescribed manufacturing process, and the noise caused by the interference fringe is reduced based on the reference spectrum and the measuring spectrum.例文帳に追加

半導体ウェハ１２内部を多重反射した後に半導体ウェハ１２より出射される赤外線に基づいて半導体ウェハ１２の表面状態を測定する表面状態測定方法において、所定の製造工程前に参照スペクトルを測定し、所定の製造工程後に測定スペクトルを測定し、参照スペクトル及び測定スペクトルに基づいて、干渉縞に起因するノイズを低減する。 - 特許庁

A transition control part 406 updates transition state information 402 maintaining a transition state in an descriptive text forming process based on event information 401 regarding the content of an event included in an input image and transition condition information 403 showing a transition condition in transition from one node (state) to another node by occurrence of the event and a transition node destination.例文帳に追加

遷移制御部４０６は、入力された映像内に含まれるイベントの内容に関するイベント情報４０１と、イベントの発生により、あるノード（状態）から別のノードに遷移するときの遷移条件と遷移先ノードを示す遷移条件情報４０３に基づいて、説明文生成過程における遷移状態を保持した遷移状態情報４０２を更新する。 - 特許庁

A reachable tree generation part 2 sets initial states for each of the stages using the discrete models, and generates a reachable tree as a state transition diagram of each stage indicative of a state which can be reached from an initial state, and a whole reachable tree generation part 3 generates a reachable tree of the whole continuous process using the reachable trees of all the stages generated by reachable tree generation part 2.例文帳に追加

可到達木作成部２は、その離散モデルを用いて、ステージ毎に初期状態を設定し、当該初期状態から到達可能な状態を示す各ステージの状態遷移図である可到達木を作成し、全体可到達木作成部３は、可到達木作成部２により作成した全ステージの可到達木を用いて、連続プロセス全体の可到達木を作成する。 - 特許庁

Thereby, for example, in the case a cancellation command for a printing job is dispatched from a host unit 3, the printing job is cancelled and the error state of the error linked with the printing job is automatically erased so that a process of a printing job and a process of an error can be executed in relation with each other.例文帳に追加

それにより、例えばホスト装置３から或る印刷ジョブのキャンセル要求が来ると、その印刷ジョブをキャンセルするとともに、その印刷ジョブに関連付けられたエラーのエラー状態を自動的に解除するというように、印刷ジョブの或る処理とエラーの或る処理とを関連付けて行うことができる。 - 特許庁

Concerning a smoke sensor conveyer 20 for holding and conveying a smoke sensor (work) 10a in the assembly process or complete state in a smoke sensor assembly process 30, this smoke sensor conveyer 20 is provided with a nozzle 25 for blowing a gas to the held smoke sensor 10a.例文帳に追加

煙感知器組立て工程３０内の、組立て過程または完成状態にある煙感知器（ワーク）１０ａを保持して搬送する煙感知器搬送装置２０において、保持された煙感知器１０ａに対して気体を吹き付けるノズル２５を煙感知器搬送装置２０に設けたことを特徴とする。 - 特許庁

A node-to-node synchronizing apparatus 300 for synchronization between nodes accepts a mask generation request for requesting generation of process location information (masks) showing the location state of each process which participates in waiting of synchronization from each of the processes in a computer node 100 which participates in the waiting of synchronization before accepting a synchronization request for requesting waiting of synchronization.例文帳に追加

ノード間同期装置３００は、同期の待ち合わせを要求する同期リクエストを受け付ける前に、同期の待ち合わせ参加する計算機ノード１００内のプロセスの各々から、同期の待ち合わせ参加する各プロセスの配置状況を示したプロセス配置情報（マスク）の生成を要求するマスク生成リクエストを受け付ける。 - 特許庁

To perform a material injection process in both of two processes while holding both cavities to a half opened state and to perform a compression process while shortening a cycle time at the same time without requiring any special movement of a mold unable to damage the molding result of a first component.例文帳に追加

両方のキャビティを半ば開いた状態に維持しながら２工程共において材料の射出工程を行い、第１の部品の成形結果を損ないかねない型の特別な移動を何ら必要とすることなく、同時にサイクル時間を短縮させながら圧縮工程を行うことを可能にすること。 - 特許庁

The production method for the amorphous carbon composite comprises: a gelation process of preparing a gelatinous compound having plural nanoparticles dispersed therein, from a dispersion containing an organic compound and a plurality of nonoparticles each having a functional group on the surface thereof; and a heating process of heating the gelatinous compound, to solidify the compound in the state wherein the plural nanoparticles are dispersed.例文帳に追加

有機化合物及び表面に官能基を有する複数のナノ粒子を含む分散液から複数のナノ粒子が分散したゲル状化合物を得るゲル化工程と、ゲル状化合物を加熱して、複数のナノ粒子を分散させたまま固形化する加熱工程と、を有するアモルファスカーボン複合材の製造方法。 - 特許庁

During a time ranging from the middle of an ice making process to completion of the ice making process, a gutter 21 moved to cause a flow of ice making water in a state to distribute the water to an ice water storage 17 of the ice making water tank and a drainage 19 is provided between an ice making plate 3 and the ice making water tank 15.例文帳に追加

製氷工程の途中から製氷工程終了までの間、製氷水を排水する排水手段として、製氷板３と製氷水タンク１５との間に製氷水タンクの貯水部１７と排水部１９とに製氷水を振り分けて流すように動くガター２１を設ける。 - 特許庁

To provide a polymerization process for efficiently synthesizing an amphoteric polymer as a sludge dehydrating agent capable of forming a flocculated state having good water filtrability and good releasability of the dehydrated cake from filter cloth at a high concentration and a process for efficiently dehydrating an organic sludge using the amphoteric polymer as a dehydrating agent.例文帳に追加

良好な濾水性と濾布剥離性を有する凝集状態を実現できる汚泥脱水剤としての両性高分子を高濃度で効率良く合成する重合方法を提供し、さらにその両性高分子脱水剤を使用して、効率良く有機汚泥を脱水する方法を提供する。 - 特許庁

Further, when the input of the television receiver is switched to the DVD recorder side in a state wherein the television receiver is power on and the DVD recorder is power off, a process of power on the DVD recorder and a process associated with initialization of the television receiver are performed.例文帳に追加

また、テレビジョン受像機の電源がオン状態であり、ＤＶＤレコーダの電源がオフ状態である場合においてテレビジョン受像機の入力がＤＶＤレコーダ側に切り換えられると、ＤＶＤレコーダの電源をオンさせる処理、およびテレビジョン受像機に対する初期設定に関連する処理が実行される。 - 特許庁

In the method for heat treating a semiconductor wafer in the horizontal heat treatment furnace using an SiC process tube having a CVD-SiC film formed on the inner wall face, heat treatment is performed under such a state as a wafer boat holding a semiconductor wafer is placed in the SiC process tube through a tray made of CVD-SiC.例文帳に追加

内壁面にＣＶＤ−ＳｉＣ膜を形成したＳｉＣプロセスチューブを使用した横型熱処理炉により半導体ウェーハを熱処理する方法であって、前記半導体ウェーハを保持したウェーハボートをＣＶＤ−ＳｉＣ製のトレイを介して前記ＳｉＣプロセスチューブの内部に載置した状態で熱処理を行うようにした。 - 特許庁

Moreover, there are a process in which the aescending voltage is applied only for prescribed time to the motor M in the state of the open position of the tray 4 to slightly descend the tray 4, and a process in which a holding voltage is applied to the motor M to suspend the tray 4 after the prescribed time, and repeating both processes alternately, the tray 4 is intermittently driven and descended.例文帳に追加

また、トレイ4が開位置の状態にて、所定時間だけモータＭに下降電圧を印加して、一旦トレイ4を僅かに下降させる工程と、所定時間経過後に、モータＭに保持電圧を印加してトレイ4を一旦停止する工程を有し、両工程を交互に繰り返して、トレイ4を間欠駆動して下降させる。 - 特許庁

An apparatus 50 for making a silicon film in an HSG state includes a vertical reactive tube 22, a process gas feeding system 52 connected to one of upper and lower ends of the reactive tube 22 for feeding a process gas to the reactive tube 22, and a vacuum suction system 30 connected to the other end of the reactive tube 22 for reducing the pressure of the reactive tube 22.例文帳に追加

本装置５０は、縦型の反応管２２と、反応管の上下両端部の一方に接続され、反応管にプロセスガスを供給するプロセスガス供給系統５２と、反応管の他方の端部に接続され、反応管を減圧する真空吸引系統３０とを備え、シリコン膜にＨＳＧ化を施す。 - 特許庁

This method for producing the wafers includes a BMD forming process for forming inner micro-defects (BMD) at the inside by subjecting a silicon single crystal in an ingot state to heat treatment and a wafer processing process for processing the ingot in which the inner micro-defects (BMD) are formed into wafers.例文帳に追加

ウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行ない内部に内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成するＢＭＤ形成工程と、前記内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成したインゴットをウエーハに加工するウエーハ加工工程を有するウエーハの製造方法。 - 特許庁

Data in a block are erased under the control of an erasing process by a write state machine 3 to erase the data in this block and erasure protection 7 erases EC data written to the storage location, corresponding to the erased block and omits a next erasing process for the block whose EC data have been erased.例文帳に追加

ライトステートマシン３の消去処理の制御に基づいて、ブロック内のデータを消去し、このブロック内のデータを消去するとともに、イレーズプロテクト７は、消去されたブロックに対応する記憶場所に書き込まれたＥＣデータを消去し、次の消去処理では、このＥＣデータが消去されたブロックに対する消去処理を省く。 - 特許庁

To achieve the rationalization of a gathering state in a bonding process, the stabilization of feed in a feed process, etc. by achieving not only the elimination or sharp reduction of violent behavior but also the induction and re-occurrence of bending only on an intentional surface side in the shrink strain developed in veneer accompanied by drying.例文帳に追加

乾燥に伴ってベニヤ単板に顕在化する収縮歪の内で、あばれについては解消乃至大幅に減少させ、曲がりについては意図した面側のみに誘導再発生させることにより、接着工程に於ける集合姿勢の適正化、搬送工程に於ける搬送の安定化等を図る。 - 特許庁

This coil inserting method includes a process of disabling a lower coil and an upper coil to compete with each other by pushing down the curved sections in a direction of leaving the axis of the stator core in a state that the coil curved sections are projecting from the end faces of the stator core in a process of pushing multiphase coils into the slots of the stator core.例文帳に追加

複相のコイルをステータコアのスロットに押し込む過程で、ステータコアの先端からコイル曲線部が出ている状態でその曲線部をステータコアの軸心から離間する方向に押し倒すことにより、下方のコイルと上方のコイルとが競合しなくなるようにする工程を含んだコイル挿入方法とする。 - 特許庁

In a process flow to obtain multiple pieces of work block information arranged in an intended order, the process flow editing unit 42 uses an after-the-fact condition for work block information to be processed to set internal state information of the block information to be set which is subsequent to the work block information to be processed.例文帳に追加

工程フロー編集部４２は、複数の作業ブロック情報を所望の順序で並べて得られる工程フローにおいて、処理対象作業ブロック情報よりも後続の設定対象ブロック情報の内部状態情報を、当該処理対象ブロック情報の事後条件を用いて設定する。 - 特許庁

The cooling method for the heating furnace includes: an air cooling process performed in such a state that refractory and atmospheric temperature within the furnace exceeds 800°C; and a water cooling process performed by supplying cooling water to the furnace interior when the refractory and atmospheric temperature within the furnace becomes 800°C or lower.例文帳に追加

本発明に係る加熱炉の冷却方法は、炉内の耐火物及び雰囲気温度が８００℃超の状態で行う空冷工程と、炉内の耐火物及び雰囲気温度が８００℃以下になったときに冷却水を炉内に供給して行う水冷工程を備えてなることを特徴とするもおのである。 - 特許庁

A texture winding process for winding a texture 25 on a molding surface S side of a mandrel 7 and a roving winding process for spirally winding a roving 35 on the molding surface S side of the mandrel 7 in the state of maintaining a tilt angle β of -10 to +10 degrees with respect to a peripheral direction of the mandrel 7 are alternately repeated for a plurality of times.例文帳に追加

織物２５をマンドレル７の成形面Ｓ側に巻付ける織物巻付工程と、ロービング３５をマンドレル７の周方向に対して−１０〜＋１０度の傾斜角βを保った状態でマンドレル７の成形面Ｓ側に螺旋状に巻付けるロービング巻付工程を交互に複数回繰り返すこと。 - 特許庁

The method for applying the coating composition comprises a first process of impregnating a body to be impregnated with a coating composition containing fine particles having hydrophobic surface and particle size of ≤100 nm in the dispersed state in an organic solvent and a second process of coating the object to be coated by using the body to be impregnated.例文帳に追加

コーティング組成物の塗工方法は、有機溶媒中に、表面が疎水性で、粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を分散状態で含有するコーティング組成物を、含浸体に含浸させる第一の工程と、この含浸体を用いて被コーティング物体に塗布する第二の工程とを備えている。 - 特許庁

The method has a laminating process, wherein Mg plates 1 containing Mg and Ni plates 2 containing Ni are alternately laminated to form a laminated body 31a, and a rolling and joining process, wherein the laminated body 31a is rolled to form a Mg-Ni laminating and mixing plate 32 consisting of Mg plates and Ni plates which are integrated in a thin walled state.例文帳に追加

Ｍｇを含むＭｇ板１と，Ｎｉを含むＮｉ板２とを交互に積層して積層体３１ａを形成する積層工程と，積層体３１ａを圧延することにより，Ｍｇ板とＮｉ板とが薄肉化した状態で一体化したＭｇ−Ｎｉ積層混合板３２を形成する圧延接合工程とを有する。 - 特許庁

Moreover, the solid-state imaging device is manufactured by having a process of depositing the silicon nitride film 14 by a reduced pressure CVD (chemical vapor deposition) method by connecting with the transfer electrode or the buffer layer 11d and a process of depositing the refractory metal layer 13 on that to form the shunt wiring layer 7d.例文帳に追加

また、転送電極又は緩衝層１１ｄに接続して、減圧ＣＶＤ（化学的気相成長）法により窒化珪素膜１４を成膜する工程と、その上に高融点金属層１３を成膜してシャント配線層７ｄを形成する工程とを有して前記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

To provide an image forming unit capable of obtaining a satisfactory image in a stable state at any time while keeping the center distance between a photoreceptor and a developing roller constant, irrespective of an environmental change such as a change in temperature, to provide a process cartridge equipped with the image forming unit and an image forming device equipped with the process cartridge.例文帳に追加

温度等の環境変化があっても感光体と現像ローラの中心間距離を一定に保ち、常に安定して良好な画像を提供できる作像ユニット、前記作像ユニットを設けたプロセスカートリッジ、及び前記プロセスカートリッジを備えた画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The diagnosis control part 40 invalidate the mask state of the mask control part 42 and outputs a nonmaskable interruption note to the central processing unit 1 when a fault process end answer reception part 44 does not receive a fault process end signal 121 within a specific time clocked by a timer part 45 after an interruption notice is given.例文帳に追加

診断制御部４０は、割り込み通知した後に、タイマ部４５が計時する所定時間内に障害処理終了応答受信部４４が障害処理終了信号１２１を受信しなければ、マスク制御部４２のマスク状態を無効化し、中央処理装置１にノンマスカブル割り込み通知を出力する。 - 特許庁

The method for cultivating genus Eustoma plants comprises the following processes to obtain Eustoma plants blooming in a state of having short length: a first culture process of aseptically culturing seeds of a dwarf variety of genus Eustoma plants under a non-ventilated condition for a prescribed period of time after seeding; and a second culture process of aseptically culturing the plants under a plant-aerated condition.例文帳に追加

ユーストマ属の矮性品種の種子を播種した後の所定期間を無通気条件下で無菌培養して植物体を得る第１培養工程と、植物体通気条件下で無菌培養する第２培養工程とを経て、草丈の低い状態で開花するユーストマ属植物を得る。 - 特許庁

Thus, when variation start and the start winning are detected in one timer interruption process while the Pachinko game machine 10 is in the high probability state, the jackpot drawing accompanying the variation start and the start permission determination of the continuation notice performance accompanying the start winning are completed before the start of the next timer interruption process.例文帳に追加

これにより、パチンコ機１０が高確率状態にある中で、一のタイマ割込処理で変動開始と始動入賞とが検出された場合に、変動開始に伴う大当たり抽選と始動入賞に伴う連続予告演出の開始許可判定とを、次のタイマ割込処理の開始までに完了させることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the present invention includes: holding a wafer (w) in a reaction chamber 11; supplying a first process gas containing a source gas and a second process gas composed of a hydrogen gas or inert gas onto the wafer (w) alternately in a rectified state; and rotating and heating the wafer (w) to deposit a film on the wafer (w).例文帳に追加

本発明の半導体製造方法は、反応室１１内にウェーハｗを保持し、ウェーハｗ上に、ソースガスを含む第1のプロセスガスと、水素ガスまたは不活性ガスからなる第２のプロセスガスを、交互に整流状態で供給し、ウェーハｗを回転させ、ウェーハｗを加熱してウェーハｗ上に成膜するものである。 - 特許庁

The wiping process includes the stabilization step of stabilizing the state of the wipe member 12a until the wipe member 12a starts the wiping process after touching the ejection surface.例文帳に追加

複数のノズルが形成されたノズル形成領域を含む噴射面上をワイプ部材１２ａが摺動するワイピング工程を有し、ワイピング工程は、ワイプ部材１２ａが噴射面に接触してからノズル形成領域を摺動するワイピング処理を開始するまでに、ワイプ部材１２ａの状態を安定化させる安定化ステップを含んでいる。 - 特許庁

The method for growth of the group III nitride compound semiconductor layer using a nitrogen source in the state of radicals, plasmas, or atoms includes a first step for alternately repeating a process to supply only the dopant element, and a process to simultaneously supply a compound including the group III element and a nitrogen raw material.例文帳に追加

ドーパント元素のみを供給するプロセスと、ＩＩＩ族元素を含む化合物と窒素原料を同時に供給するプロセスを交互に繰り返すことからなる第一の工程を含む、ラジカル化、プラズマ化または原子化された窒素源を用いたＩＩＩ族窒化物化合物半導体層の成長方法。 - 特許庁

This method for producing the trialkylgallium includes a first process for heating a mixture of the magnesium and the gallium in a molten state under a vacuum and a second process for reacting the mixture heated under the vacuum with the alkyl chloride in at least one kind of ether compound so as to synthesize the trialkylgallium.例文帳に追加

マグネシウムと溶融状態のガリウムとの混合物を真空下で加熱する第１の工程と、少なくとも１種のエーテル化合物中で、真空加熱された上記混合物と塩化アルキルとを反応させることによりトリアルキルガリウムを合成する第２の工程とを含むトリアルキルガリウムの製造方法。 - 特許庁

To narrow a region used for rotating a motor in the zero state of driving force and to instantly performing a driving process by motor or a regenerative process, when a clutch is connected during deceleration of a hybrid vehicle run by driving one side of front wheels and rear wheels with an engine and driving the other side with the motor.例文帳に追加

前輪または後輪の一方をエンジンで駆動し、他方をモータにより駆動して走行するハイブリッド車両の減速時にクラッチを接続する際に、駆動力が０の状態でモータを回転させる領域を狭めるとともにモータによる駆動処理または回生処理を即時に実行可能にする。 - 特許庁

This method for producing the water-based coating composition includes a process for preliminarily mixing 100 pts.wt. of a resin emulsion with 20-50 pts.wt. of an aqueous acrylic resin solution in such a state as free from organic solvent and another process for adding the organic solvent to the mixture of the resin emulsion and the aqueous acrylic resin solution.例文帳に追加

有機溶剤を含まない状態で、樹脂エマルション１００重量部に対しアクリル系樹脂水溶液２０〜５０重量部を事前混合する工程と、前記樹脂エマルションと前記アクリル系樹脂水溶液の混合液に有機溶剤を添加する工程とを含む、水性塗料組成物の製造方法である。 - 特許庁

To provide a mirror finishing method capable of forming a cured material layer whose surface is in a mirror finished surface state on a base material surface without the need of the process of recovering an optical cationic polymerization composition and the process of drying a solvent, and a manufacturing method of an optical disk using the mirror finishing method.例文帳に追加

光カチオン重合性組成物を回収する工程および溶剤を乾燥する工程を必要とせず、基材表面に、表面が鏡面状態である硬化物層を形成し得る鏡面加工方法、及びこの鏡面加工方法を用いた光ディスクの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The controller 20 holds the vacuuming mechanism 12 nonactive for a first time in a state that the substrate W is mounted on the mounting surface 1a (non-vacuumed cooling process) and then actuates the mechanism 12 for a second time to vacuum the substrate W to the mounting surface 1a (vacuumed cooling process).例文帳に追加

制御部２０は、基板Ｗが載置面１ａに載置された状態で第１の時間に渡って吸引機構１２を非作動状態に保持し（非吸着冷却処理）、その後の第２の時間に渡って吸引機構１２を作動させ、基板Ｗを載置面１ａに吸着させる（吸着冷却処理）。 - 特許庁

Therein, since water contained in the mannan (devil's tongue meat) gives a large effect to the texture and open date of the hamburg steak as the final product, the mannan is finely cut in a frozen state to inhibit the excessive bleeding of water in a mixing process and in a molding process, thus preventing the deterioration in the quality of the final product.例文帳に追加

このとき、マンナン（コンニャクミート）中に含有されている水分が最終製品たるハンバーグの食感や賞味期間に大きな影響を与えるため、マンナンを凍結状態に保持したまま細断して混合工程および成型工程での水分の過剰な滲み出しを抑制し、最終製品の品質の低下を防止する。 - 特許庁

In the case that the image data to be subsequently fed to the printing processor are not prepared by the controlling device, the printing processor is made to wait the feed of image data in a state of suspending the process of respective image data of latent image, development and transfer process.例文帳に追加

印刷処理装置が１頁の画像を形成している最中に、制御装置が印刷処理装置に対して次に供給するべき画像データが準備できていないときは、印刷処理装置が当該画像データの潜像、現像及び転写処理を休止した状態で画像データの供給を待つ。 - 特許庁

To provide a retort treatment method for products relating to a design guideline of retort treatment process, and aiming at a process controlling method preventing a synthetic resin container from causing permanent set into a protruding state so as to be suitable for a product where the synthetic resin container is charged with ingredients.例文帳に追加

本発明はレトルト処理の工程設計指針に係るものであり、合成樹脂製容器が膨出状に永久変形しない工程制御方法を提示することを課題とし、もって合成樹脂製容器に内容物を収納した製品に適したレトルト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This tile panel manufacturing method has a process for casting the concrete slurry in the form 2 to form a concrete substrate layer 3 and a process for pressing the tile group 4 to the concrete substrate layer 3 in a state that the tile group 4 is sucked and held from the surface side thereof to bond the same on the concrete substrate layer 3.例文帳に追加

本発明のタイルパネルの製造方法は、型枠２内にコンクリートスラリーを打設してコンクリート基板層３を形成する工程と、タイル群４を表面側より吸着し保持した状態で、コンクリート基板層３にタイル群４を押圧してコンクリート基板層３に貼着する工程とを有している。 - 特許庁

The test method for a sample of the viscoelastic body includes: a process for fixing the sample to a sample holding means in the state where at least 10% of the initial strain is imparted; and a process for performing a test by using a test means provided separately from the sample holding means, relative to the fixed sample.例文帳に追加

粘弾性体の試料を試験する方法であって、試料を、少なくとも１０％の初期歪みを与えた状態で試料保持手段に固定する工程と、固定された試料に対し、試料保持手段とは別に設けられた試験手段を用いて試験を行う工程とを含む試験方法である。 - 特許庁

To provide a substrate sealing device for allowing the mass production of a flat fluorescent lamp by continuously performing a firing process and a sealing process in the state of holding an upper substrate and a lower substrate of the fluorescent lamp while minimizing work for supplying/pulling the substrates into/out of a heating furnace.例文帳に追加

蛍光ランプの上部基板と下部基板をホールディングした状態において焼成工程と封着工程を連続的に行うことにより、加熱炉への基板の供給及び引出し作業を最小化し、平板型蛍光ランプの大量生産が可能なようにする平板型蛍光ランプの基板封着装置を提供する。 - 特許庁

This system has, in order to grasp the lagging state of work, a means for measuring a residual work quantity every work process, a means for retaining the measured quantity with the time, and a means for displaying the measured residual work quantity as a time lapse graph every process independently or simultaneously in line.例文帳に追加

作業の停滞状況を把握するために、作業工程毎の残留作業量を計測する手段と、計測した量を時刻とともに保持する手段と、各工程毎に、該計測した残留作業量を時間経過のグラフとして個別にまたは、同時に並べて表示する手段とを設けて構成する。 - 特許庁

The metal elution method comprises a first contact process of eluting the metal by bringing it into contact with the pressurized thermal water in a state where the sample is dispersed in the pressurized thermal water, and a second contact process of eluting the metal by further bringing the sample captured by a filter into contact with the pressurized thermal water.例文帳に追加

試料を加圧熱水中に分散させた状態で、加圧熱水と接触させることにより金属を溶出させる第一接触工程と、フィルターに捕捉された試料を更に加圧熱水と接触させることにより金属を溶出させる第二接触工程とを備える金属溶出方法。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of stably forming a liquid immersion area, satisfactorily recovering the liquid, and avoiding outflow, scattering or the like of the liquid to the surroundings to accurately perform an exposure process when the exposure process is performed in a state in which the liquid immersion area is formed between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁