「shape pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method for a light diffusion sheet whereby an opening of accurate shape free from any residue of unnecessary constituent can be formed even if the pattern of a light shield layer has a complex structure.例文帳に追加

複雑な構造を持つ遮光層パターンであっても、不要な成分の残差が無く正確な形状を持つ開口部を形成できる光拡散シートの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive type chemical amplification system photosensitive resin composition having high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and excellent process stability and to provide a method for producing a resist image.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。 - 特許庁

Further, a pattern 25 whose plate face is made to be uneven face is formed in belt shape in a center portion of the band body portion 20, the lever plate 23, and the lever plate securing member 24 excepting both the end portions thereof.例文帳に追加

そして、バンド本体部２０、テコ板２３、テコ板固定部材２４のそれぞれの板面の両端部を除いた中央部に、その板面が凹凸面となるような模様２５を帯状に形成する。 - 特許庁

Data lines S2 in data lines (first signal wiring lines) S1, S2 and scanning lines (second signal wiring lines) G0 to G8 are wired in a nonlinear pattern, based on the outer shape of the display panel.例文帳に追加

さらに、データ線（第１の信号配線）Ｓ１、Ｓ２及び走査線（第２の信号配線）Ｇ０〜Ｇ８のうち、データ線Ｓ２を、上記表示パネルの外形形状に基づいて、非直線状に配線する。 - 特許庁

The existence probability generating section 40 outputs a distribution function that represents a variation degree of the finished pattern shape on the basis of the simulation result stored in a simulation result storing section 46.例文帳に追加

このとき、存在確率生成部４０は、シミュレーション結果格納部４６に格納されているシミュレーション結果に基づいて、仕上がりパターン形状のばらつきの度合いを示す分布関数を出力する。 - 特許庁

A circuit board 26 of the present invention comprises: a substrate 12; an insulation layer 20 covering the top face of the substrate 12; and a conductive pattern 16 in prescribed shape which is formed on the top face of the insulation layer 20.例文帳に追加

本発明の回路基板２６は、基板１２と、基板１２の上面を被覆する絶縁層２０と、この絶縁層２０の上面に形成された所定形状の導電パターン１６とを備えている。 - 特許庁

The laser beam detecting means includes: diffraction optical elements 103a and 103b which shape the defected and scanned laser beams into a pattern consisting of dots or lines; and a plurality of light receiving elements PD1 and PD2 for detecting the pattern, wherein the plurality of light receiving elements have a light receiving face wider than the luminous flux width in a main scanning direction of dots or lines composing the pattern.例文帳に追加

レーザビーム検出手段は、偏向走査されるレーザビームをドットまたはラインからなるパターンに整形する回折光学素子１０３ａ，１０３ｂと、上記パターンを検出するための複数の受光素子ＰＤ１，ＰＤ２とを具備し、複数の受光素子は、上記パターンを構成するドットまたはラインの主走査方向光束幅よりも広い幅の受光面を有する。 - 特許庁

The method has a process for fitting a plurality of die members 3a-3f having the shape of a concentric circle and having a thickness corresponding to the pitch of a relief pattern, to manufacture the die 1 provided with a relief pattern surface 2, and a process for molding an optical material moldable by using a manufactured die 1, to mold the diffracted optical device having the relief pattern on the surface.例文帳に追加

レリーフパターンのピッチに対応する厚さを有する同心円状の型部材３ａ乃至３ｆを複数個嵌合させ、レリーフパターン面２を備えた成形型１を作製する工程と、作製した成形型１を用いて成形可能な光学材料を成形し、表面にレリーフパターンを有する回折光学素子を成形する工程とを有するものである。 - 特許庁

To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.例文帳に追加

色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The mask for exposure used for transferring a desired pattern to the body to be exposed by reflecting obliquely incident exposure light comprises: a mask blank film 2 having operation for absorbing the exposure light; and a reflection film 3 having operation for reflecting the exposure light while being arranged on the mask blank film 2 in a pattern shape corresponding to a desired pattern.例文帳に追加

斜め入射する露光光を反射して被露光体上に所望パターンを転写するために用いられる露光用マスクを、前記露光光を吸収する作用を有したマスクブランクス膜２と、前記所望パターンに対応するパターン形状で前記マスクブランクス膜２上に配され前記露光光を反射する作用を有した反射膜３と、を備えて構成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and shelf stability, high resolution and good process stability, a sensitive material having high resolution and good process stability, a method for producing a relief pattern capable of giving a polymide pattern, etc., of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance and a method for producing a polyimide pattern.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びなポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a new uncolored radiation sensitive resin composition having a high transmittance to visible light, capable of easily forming a cured resin pattern of an objective shape because of a wide range of proper development condition, and capable of forming a cured resin pattern excellent in chemical resistance because the composition has a crosslinkable group, and to provide a cured resin pattern formed using the radiation sensitive resin composition.例文帳に追加

着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、適正な現像条件の範囲が広いので、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成でき、さらに架橋基を有するので耐薬品性に優れた硬化樹脂パターンが形成できる新たな感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a heat resistant negative photoresist composition having satisfactory adaptability even when a photosensitive polyimide precursor has any structure and also having excellent sensitivity and resolution, to provide a method for producing a pattern giving a pattern of a good shape with excellent sensitivity, resolution and heat resistance by using the composition and to provide high reliability electronic parts by imparting such a pattern.例文帳に追加

感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき，しかも感度や解像度も優れる耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a filter element which can adjust the overlapping state of pattern layers freely as required when the pattern layer in which a whole winding part surface has a uniform stitch shape by repeating winding to make strands cross each other is formed, and the pattern layers are laminated to form a cylinder having stitches and a method for producing the filter element.例文帳に追加

素線同士が交差するように巻き付けることを繰り返し行うことで巻付部全面が一様な編目形状を有するパターン層を形成し、そのパターン層が複数積層されて編目を有する筒状体が形成される場合において、各パターン層間の重なり具合を自在に所望どおりに調整できる濾過部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures high shelf stability of a solution of the composition, enhances dissolution contrast between unexposed and exposed parts and forms a pattern with high sensitivity and good resolution while maintaining a high rate of a residual film, a method for producing an accurate pattern of a good shape and high reliability electronic parts with a pattern obtained by the method.例文帳に追加

本発明は、組成物溶液の保存安定性が高く、未露光部と露光部の溶解コントラストを高くし、高い残膜率を維持しながら高感度で解像性の良好なパターンを形成させる感光性樹脂組成物、 良好な形状の精密なパタ−ンの製造法及び前記製造法により得られるパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

This calibration pattern unit for acquiring correction information for an imaging system by image pick-up by the imaging system is put on a plurality of planes or one or more of curved face(s) arranged three-dimensionally to provide a calibration pattern 5-2 or 5-3 formed with a prescribed pattern within a range having a shape substantially same to an object imaged by the imaging system.例文帳に追加

撮像系により撮像することによって当該撮像系の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上または一つ以上の曲面上において、上記撮像系の撮像する対象物と概ね同形状を有する範囲に所定のパターンが形成されたキャリブレーションパターン５−２又は５−３を有するよう構成する。 - 特許庁

The objective distributed density mask used for exposure for forming a photosensitive material pattern having a three-dimensional structure when the photosensitive material pattern is formed on a substrate and transferred to the substrate by etching to produce an article having surface shape with a three-dimensional structure is obtained by forming a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity direction on a transparent substrate.例文帳に追加

基板上に３次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを基板に彫り写すことにより３次元構造の表面形状をもつ物品を製造する際に、感光性材料パターンを形成するための露光に用いる濃度分布マスクであり、透明基板上に２次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものである。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and storage stability, high resolution and good process stability and a photosensitive material having high resolution and good process stability and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a polyimide pattern by which a polyimide pattern of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance can be given.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

The eyeball model having the same shape as an eyeball portion of a human body structure is in such a structure that: each component is molded of a ductile resin such as flexible silicon; each of the components is transparent or colored or provided with a pattern, and attachably/detachably formed in an independent shape or in a sheet shape, and can be deformed by external pressure.例文帳に追加

人体構造の眼球部位と形状を同じくする眼球模型であって、軟質なシリコン等の延性樹脂製により成型された各構成部位からなり、該構成部位が透明または着色ならびに模様を施し、個体もしくはシート状に形成して着脱可能とし、さらに外部圧力によって形状を変形させることができる構造を採用する。 - 特許庁

In addition, the metal film forming method includes a process to form a photo resist pattern of a desired shape on the metal film divided into a plurality of areas and the resin film, and a process to form the metal film pattern of a desired shape by removing a part of the metal film divided into a plurality of areas by the chemical etching method, a plasma etching method or the ion beam etching method.例文帳に追加

さらに、上記複数の領域に分けて形成した金属膜および樹脂フィルム上に、所望形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、化学エッチング法またはプラズマエッチング法もしくはイオンビームエッチング法により、上記複数の領域に分けて形成した金属膜の一部を除去し、所望形状の金属膜パターンを形成する工程とを含む金属膜の形成方法とする。 - 特許庁

To provide a radiation-curable resin composition which enables obtaining a high-definition pattern excellent in the shape in preparing an optical waveguide by the pattern-forming method using a fine lithography technique and has excellent storage stability, an optical waveguide using the resin composition, and a method for manufacturing an optical waveguide.例文帳に追加

微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とするとともに保存安定性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which is high in sensitivity and excellent in LER, exposure latitude and pattern shape, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An image processing apparatus 2 encodes a shape (or edge information) of an image element included in an input image 600 painted in a binary pattern through JBIG2 text region encoding processing or generic region encoding processing and encodes the binary pattern constituting the image element through JBIG2 halftone encoding processing.例文帳に追加

画像処理装置２は、二値パターンで塗られた入力画像６００に含まれる画像要素の形状（又はエッジ情報）をＪＢＩＧ２のテキスト領域符号化処理又はジェネリック領域符号化処理により符号化し、画像要素を構成する二値パターンをＪＢＩＧ２のハーフトーン符号化処理により符号化する。 - 特許庁

After a real circle 108 is obtained in a shape approximate to the substantially circular shaped part 101a of the metal wiring image, a shortest straight distance 107 is obtained on an image between an ideal contact pattern image 106 corresponding to a contact pattern in designing of a resist to be formed corresponding to the metal wiring and the real circle 108.例文帳に追加

メタル配線画像のうちの略円形状の部分１０１ａに近似する真円１０８を求めた後、メタル配線対応させて形成すべきレジストの設計上のコンタクトパターンに対応する理想コンタクトパターン画像１０６と真円１０８との間の画像上での最短直線距離１０７を求める。 - 特許庁

To suppress the deposition of foreign matter on the surface of a reticle pattern by removing chemical materials such as ammonia as materials which cause the formation of deposits from the internal space of a pellicle and to provide a pellicle which retains an accurate pattern shape and patterning precision over a long period of time.例文帳に追加

析出物形成のための原因物質であるアンモニア等の化学物質を、ペリクル内空間から除去することでレチクルパターン面に対する異物析出を抑制し、これにより、正確なパターン形状を長期にわたって維持し、長期にわたるパターニング精度維持を図ることが可能なペリクルを提供する。 - 特許庁

A thin conductive piece 5, appropriate for the shape of the trace of the break or the exfoliation of the substrate for confirming verification used for verifying or confirming the operation state, is adhered to the missing part 21 of the conductive pattern 2 by means of an adhesive agent 51, then the piece 5 is soldered to the conductive pattern 2.例文帳に追加

動作状態についての検証又は確認を行うことに用いる検証確認用基板において、導体パターン２の欠落箇所２１に、断線跡又は剥離跡の形状に見合った形状の肉薄導体片５を粘着剤５１を介して貼着した後、その肉薄導体片５を導体パターン２に半田付けする。 - 特許庁

To provide an appearance inspecting apparatus having the function of detecting an uneven defect and the function of detecting a pattern defect (minute defect) in a color filter or the like, from image data acquired by photographing a substrate such as the color filter or the like having a pattern shape by using an optics and a photographing system with high resolutions.例文帳に追加

カラーフィルタ等のパターン形状を有する基板を解像度の高い光学系と撮像系を用いて撮像した画像データより、カラーフィルタ等のパターン欠陥（微細欠陥）を検出する機能とムラ欠陥を検出する機能とを兼ね備えた外観検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polymeric compound appropriate for a base resin of a positive resist material having a high resolution exceeding a conventional positive resist material, an excellent pattern shape after exposure, and further exhibiting excellent etching resistance, particularly of a chemically amplified positive resist material, a positive resist material and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An exposure condition calculation host 100 reads each data from the databases 111, 121 and 105, and a shape of the circuit pattern formed to be exposed through a mask by the aligners 141 and 142 is calculated by an exposure pattern calculation means 102 on the exposure layer of the semiconductor device on the basis of conditions by these data.例文帳に追加

露光条件算出ホスト１００は、データベース１１１，１２１，１０５から夫々のデータを読み出し、これらデータによる条件の基に、半導体デバイスの露光層に露光装置１４１，１４２でマスクを介して露光して形成される回路パターンの形状を露光パターン計算手段１０２で算出する。 - 特許庁

To control, for example, a droplet shape by integrating a cooling means for forming a droplet by use of an MEMs (Micro Electro Mechanical System) that controls the temperature of a minute area, or a cooling pattern layer in a predetermined minute area, thereby controlling the cooling means or cooling pattern layer minutely.例文帳に追加

本発明は、微小な領域を温度制御するＭＥＭｓ（Micro Electro Mechanical System）を用いて液滴を形成する冷却手段又は冷却パターン層を所定の微小な箇所に集積化することにより、冷却手段又は冷却パターン層を微小に制御して液滴の形状などを制御することができる。 - 特許庁

This infrared absorbing material formed on the surface of the heat sensitive part 1 is formed into a shape in which a film thickness of the pattern edge part is thicker than that in the pattern central part, to reduce heat conductance of a heat conducting path running from the vicinity of the absorbing material central part to a heat sink 3 via the absorbing material edge part.例文帳に追加

感温部１表面上に形成される赤外線吸収体２のパターン中心部の膜厚に対して、該パターン縁部の膜厚が薄い吸収体形状とし、吸収体中心部付近から吸収体縁部を経由してヒートシンク３に流れ込む熱伝導経路の熱コンダクタンスを小さくする。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition developable with a basic aqueous solution, having high resolution, excellent in pattern shape after development and not causing pattern exfoliation in development.例文帳に追加

塩基性水溶液により現像可能で、高解像度でかつ現像後のパターン形状に優れ、現像時のパターン剥離も生じない感光性ポリイミド前駆体組成物、さらに製造工程の短縮が可能であり、製造コストが削減できるパターン製造法及び前記のパターンを有することにより信頼性に優れる電子部品を提供する。 - 特許庁

An In-Ga-Zn-O-based film is so formed as to have an incubation state exhibiting an electron beam diffraction pattern different from a conventionally known amorphous state that a halo shape pattern appears, and from a conventionally known crystal state that a spot appears clearly, and the film is used as a channel formation region of a channel etched thin film transistor.例文帳に追加

ハロー状のパターンが現れる従来公知のアモルファス状態とも異なり、スポットが明確に現れる従来公知の結晶状態とも異なる電子線回折パターンを示すインキュベーション状態を有するＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を形成し、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域として用いる。 - 特許庁

The transparent resin layer 3 is further formed on a conductor pattern layer 2 in a meshed shape etc., formed on a transparent base 1, and the transparent resin layer has a projection part 3t whose surface swells, especially, in a sheet flow direction MD along an end Fr positioned on the conductor pattern layer.例文帳に追加

透明基材１上に形成されたメッシュ状等の導電体パターン層２上に更に透明樹脂層３が形成され、透明樹脂層が、特にシート流れ方向ＭＤに於いて、導電体パターン層上に位置させた端部Ｆｒに沿って表面が盛り上がっている凸出部３ｔを有するものとする。 - 特許庁

To provide a forgery prevention medium having a latent image technique which is capable of preventing a forgery prevention sticker from being replaced by a wrongful peeling act and uses a polarization technique requiring a high technique; and further, a brittleness sticker torn up into the same pattern shape as a latent image pattern, when the brittleness sticker is tried to be wrongfully peeled.例文帳に追加

不正な剥離行為による偽造防止シールの貼り替えを防止することが可能で、かつ、高度な技術を必要とする偏光技術を用いた潜像技術を具備する偽造防止媒体を提供し、さらには、不正に剥がそうとすると潜像パターンと同一のパターン状に破壊される脆性シールを提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has excellent color purity, heat resistance and light resistance and which can be formed into a thinner layer: a color resist having favorable pattern formability; inkjet ink having excellent jetting stability; and a color filter having a favorable pattern shape and a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

色純度に優れ、耐熱性、耐光性に優れ、薄層化が可能な着色硬化性組成物を提供し、パターン成形性の良好なカラーレジスト、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、およびこれを用いたパターン形状の良好なカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

According to the present embodiment, the rotary device can be produced that narrows down a bearing gap and improves the efficiency of raking up the lubricant to increase the dynamic pressure by reducing the deformation of the shape of the protrusions of the thrust dynamic pressure pattern and the variation in the height of the protrusions when forming the thrust dynamic pressure pattern in a method of producing the rotary device.例文帳に追加

この態様によると、回転機器を生産する方法においてスラスト動圧パターンを形成する際にスラスト動圧パターンの凸部の形状の崩れや凸部の高さのバラツキを低減でき、軸受隙間を狭くすると共に潤滑剤のかき集めの効率を向上して動圧を高め得る回転機器を生産できる。 - 特許庁

The RFID tag 5 comprises a rectangular parallelepiped dielectric member 10 having the predetermined dielectric constant, an antenna pattern 30 for transmission and reception formed in looped shape on a surface of the dielectric member 10 by etching etc., and an IC chip electrically connected to the antenna pattern 30 via a chip loading pad 32.例文帳に追加

ＲＦＩＤタグ５は、所定の誘電率を有する直方体状の誘電体部材１０と、この誘電体部材１０の表面にループ状にエッチング等により形成された送受信用のアンテナパターン３０と、このアンテナパターン３０にチップ搭載パッド３２を介して電気的に接続されたＩＣチップ４０と、を備えている。 - 特許庁

The press-forming method comprises forming the molding material into a corner-protruding shape, and forming a concave-convex pattern on each outer surface of the molding material with a concave-convex pattern forming part mounted on each of two shaping molds corresponding to two outer surfaces on the protruding corner sides of the molding material.例文帳に追加

成形材料を出隅形状に成形し、この成形材料の出隅側の二つの外面に対応する二つの成形型を用いて、成形材料の各外面に各成形型に設けた凹凸模様賦型部によって凹凸模様を成形するようにした出隅役物用成形材料のプレス成形方法に関する。 - 特許庁

The positional relation between a pattern light projection device and the camera is preliminarily determined, whereby the three-dimensional position of a characteristic point on a pattern in a camera coordinate system is measured from the principle of triangulation to determine the shape (equation) of the writing surface in the camera coordinate system, whereby the relative moving quantity of the pen tip is calculated.例文帳に追加

あらかじめパターン光投影装置とカメラとの位置関係を事前に求めておくことにより、三角測量の原理から、カメラ座標系におけるパターン上の特徴点の３次元位置を測定して、カメラ座標系における書画面の形状(方程式)を求め、これによりペン先の相対的な移動量を算出する。 - 特許庁

In this circuit formation method, a static electricity latent image in a circuit pattern is formed on the surface of a photoreceptor 1, charged powder for forming a circuit is deposited electrostatically on the static electricity latent image, and an image by the charged powder for forming circuits in a circuit pattern shape is transferred onto a ceramic green sheet 10 before fixing by heat.例文帳に追加

感光体１の表面に回路パターン状の静電潜像を形成し、その静電潜像に回路形成用荷電性粉末を静電的に付着させ、回路パターン状の回路形成用荷電性粉末による像をセラミックグリーンシート１０上に転写させた後、熱によって定着させる回路形成方法である。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming micropatterns that increases the narrowing amount of interval between resist patterns, while maintaining controllability of a resist pattern dimension in the wafer surface and a proper resist pattern shape, in the micropattern forming method that narrows the interval between the resist patterns by heat treatment.例文帳に追加

加熱処理により、レジストパターン間の間隔を狭小化せしめる微細パターンの形成方法において、ウェハ面内でのレジストパターン寸法の制御性、および良好なレジストパターン形状を維持しつつ、レジストパターン間の間隔の狭小化量を増大させることができる微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The inserting label 2 and the hanging label 3 are formed so as to have the same shape with either one turned upside down, and a inserting part 23 is formed at the lower par of a pattern printing section 21 of the inserting label 2, and a hanging section 32 is formed at the upper part of a pattern printing section 31 of the hanging label 3.例文帳に追加

差し込み用ラベル２と吊り下げ用ラベル３は、一方が上下反転状態で相互に同一形状となるように形成され、差し込み用ラベル２の絵柄印刷部２１の下部に差し込み部２３が形成され、吊り下げ用ラベル３の絵柄印刷部３１の上部に吊り下げ部３２が形成されている。 - 特許庁