「surface formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

When a printed wiring board is coated with a photoresist for circuit formation, the copper-plated or copper-foiled surface of the printed wiring board is uniformly and finely roughened in advance by using a high-pressure jet type roughening apparatus in order to improve the wettability of a substrate surface and also improve adhesive strength between the photoresist and copper.例文帳に追加

回路形成用のフォトレジストをプリント配線基板に塗装する際に、基板表面の濡れ性を向上させると共に、フォトレジストと銅との密着性を向上させるために、予め高圧噴射型粗化装置を用いてプリント配線基板の銅めっきもしくは銅箔表面を均一かつ微細に粗化する。 - 特許庁

Then a second resin layer 106 is so formed on the top surface of the core substrate 100 as to cover the first semiconductor chip 102 and then the second resin layer 106 and first semiconductor chip 102 are ground from the opposite side of the first semiconductor chip 102 from the circuit formation surface to thin the first semiconductor chip 102.例文帳に追加

その後、コア基板１００の上面に第１の半導体チップ１０２を覆うように第２の樹脂層１０６を形成した後、第２の樹脂層１０６及び第１の半導体チップ１０２を該第１の半導体チップ１０２の回路形成面の反対側から研削して第１の半導体チップ１０２を薄くする。 - 特許庁

When a film forming gas, such as an SiH4 gas containing siliane, is supplied from the gas supply part 31 onto the surface of the wafer W to form a silicon film, a film can be formed while appropriately embedding a silicon film into a recessed part being formed on the surface of the wafer W, even at a film formation rate of 300 Å/minute or higher.例文帳に追加

このガス供給部３１からシランを含む成膜ガス例えばＳｉＨ4 ガスをウエハＷ表面に供給してシリコン膜を形成すると、３００オングストロ−ム／分以上の成膜速度であっても、ウエハＷ表面に形成された凹部にシリコン膜を良好に埋め込みながら成膜を行うことができる。 - 特許庁

To provide an fθ lens which does not cause the rotation of a beam and the deterioration of spot shape at a spot on a image surface and also by which image-formation spot on the image surface is not moved up and down in a subscanning direction, to reduce the production accuracy of the fθ lens and to provide an optical scanner whose assembly accuracy is reduced.例文帳に追加

像面上のスポットにビームの回転及びスポット形状の悪化を引き起こすことなく、又、像面上の結像スポットが副走査方向に上下することがないfθレンズを提供し、そのfθレンズの製造精度を緩和するとともに、組立精度が緩和された光走査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide such a wood-surface coating liquid for use in the formation of a wood-surface coated film as has solved the problems brought by conventional organic or inorganic coatings and thus as is excellent in the water repellency and water resistance, especially as has the good durability to be hard for water vapor to penetrate into the inside even contacting with water for a long period.例文帳に追加

従来の有機系塗料及び無機系塗料の有する問題点を解決し、撥水性・耐水性に優れ、特に長期間水と接触しても内部に水蒸気が浸透し難い、耐久性が良好な木材表面塗工膜を生成するための木材表面塗工液を提供することを課題とする。 - 特許庁

If necessary, the surface configuration of the building constructed of the Oya tuff stone with the adhesive sprayed thereon is restored or created using repair material (mortar) and an adhesive is sprayed again, or dark- colored joints are formed and joint tape is affixed thereon and removed after formation of the layer of surface material.例文帳に追加

なお、必要に応じて、接着剤が吹き付けられた大谷石製建造物の表面形状を修復材料（モルタル）で修復或いは創成した上再度接着剤を吹き付けたり、暗色の目地を形成した上に目地テープを貼着し、表面材料層形成後に目地テープを剥がしたりする。 - 特許庁

The nanoimprint mold comprises a substrate 1, the fine pattern 2 formed on the surface of the substrate, and a chip preventing pattern 3 which is formed on the surface of the substrate and in a vicinity of the fine pattern 2, does not contribute to the formation of the pattern shape to be intended, and prevents the fine pattern from being chipped occurred in cleaning.例文帳に追加

当該ナノインプリントモールドは、基板１と、上記基板表面に形成された微細パターン２と、上記基板表面かつ上記微細パターン２の近傍に形成され、目的とするパターン形状の形成に寄与せず、洗浄時に生じる上記微細パターンの欠けを防止する欠け防止パターン３とを有する。 - 特許庁

The method to repair damaged components of the turbine consists of three processes, the first process to cover the surface of any turbine component including a damaged part with a preliminary molding of solder, the second process to fix the preliminary molding of solder to the surface, and the third process to heat the turbine component to the proper temperature for formation of a brazed joint between the solder and the turbine component.例文帳に追加

本方法は、損傷部分を含むタービン部品の表面にろう材の予備成形体をかぶせる段階と、ろう材の予備成形体を表面に固定する段階と、ろう材とタービン部品との間にろう接継手を形成するのに有効な温度まで該タービン部品を加熱する段階とを含む。 - 特許庁

To solve the problem that, a prior art in which a cooling means for cooling a recording material in a transport part for back image formation, sends cooling air onto the surface of the recording material being transported, substantially perpendicular to the surface of the recording material, which results in insufficient circulation of cooling air during passage of the recording material and hence insufficient cooling effect.例文帳に追加

裏面画像形成用の搬送部において記録材を冷却する冷却手段として、搬送される記録材の紙面にほぼ直角な方向から冷却風を当てる従来の技術では、記録材の通過時における冷却風の流通が十分でなく、冷却効果が十分でないという問題を解決する。 - 特許庁

In a grinding process K3, the semiconductor substrate which has semiconductor circuits formed respectively in a plurality of circuit formation regions which are formed apart from each other on one surface of the substrate is ground by a grinding means to a prescribed thickness from the surface opposite from the circuit-formed one wherein the semiconductor circuits are formed.例文帳に追加

研削工程Ｋ３では、基板の一方面側に互いに間隔をあけて設定された複数の回路形成領域内にそれぞれ半導体回路が形成された半導体基板を、所定の厚さになるまで半導体回路が形成された回路形成面とは反対側表面から研削手段で研削する。 - 特許庁

An anode foil having an oxide film layer formed on the surface and a cathode foil having a film of a metal nitride, a metal carbide, a metal carbonitride, carbon, indium tin oxide or an oxidation retardant conductive material formed previously on the surface are wound through a separator to form a capacitor element which is then subjected to restoration formation.例文帳に追加

表面に酸化皮膜層が形成された陽極箔と、予めその表面に金属窒化物、金属炭化物、金属炭窒化物、カーボン、インジウム酸化スズまたは酸化することの少ない導電性材料からなる皮膜を形成した陰極箔とを、セパレータを介して巻回してコンデンサ素子を形成し修復化成を施す。 - 特許庁

The method comprises a process for forming a relatively narrow and shallow pre-groove 4 of a width W0 on the surface of a semiconductor layer formation side of a semiconductor wafer 1 by dicing, and a process for forming a relatively wide and deep groove 5 of a width W1 on the surface by dicing by hollowing out the pre-groove 4.例文帳に追加

半導体ウエハー１の半導体層形成側の表面に相対的に幅Ｗ０の狭い且つ深さの浅いプレ溝４をダイシングにより形成する工程と、該表面に相対的に幅Ｗ１の広い且つ深さの深い幅広溝５を前記プレ溝４をえぐり取るようにしてダイシングにより形成する工程とを含む。 - 特許庁

This is a formation method of a conductive film to form the conductive film by a spray thermal decomposition method on the surface of a substrate 18, and sprays particulates of a material solution on the surface of the heated substrate in a film-forming device using an atmospheric gas of which the oxygen concentration is 2 vol% or less.例文帳に追加

導電性膜の形成方法は、基板１８の表面に導電性膜をスプレー熱分解法によって形成する導電性膜の形成方法であって、酸素濃度が２体積％以下である雰囲気ガスを用いた成膜装置内において加熱された基板１８の表面に原料溶液の微粒子をスプレーする。 - 特許庁

This recordable optical disk substrate is 77 to 85° in the water drop contact angle measured by a signal surface prior to formation of a dyestuff recording layer of a molded substrate formed with grooves on the signal surface by injection molding an aromatic polycarbonate having a viscosity average molecular weight of 10,000 to 23,000.例文帳に追加

粘度平均分子量１０，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートを射出成形して、信号面にグルーブを形成した成形基板において、色素記録層形成前の信号面で測定される水滴接触角が７７°以上８５°以下であることを特徴とする追記型光ディスク基板。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ferromagnetic tunnel junction element of high MR ratio and high yield, whose film thickness is 1 μm or less and sheet resistance is 0.4 Ω or less having a foundation electrode with an upper surface of small irregularities by an inexpensive device without carrying out surface treatment after film formation.例文帳に追加

１μｍ以下の膜厚でシート抵抗が０．４Ω以下であり、かつ凹凸の小さな上部表面を有する下地電極を持つ、高ＭＲ比かつ高歩留まりの強磁性トンネル接合素子を、成膜後の表面処理を行うことなく、かつ安価な装置にて実現する製造方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device 1 formed by packaging a semiconductor chip 3 with a resin film 2, one end of each lead 4a is connected to each electrode 5 of the chip 3, a thermoplastic resin film 2 is directly bonded by thermal fusing to at least the surface serving as a circuit formation surface of the chip 3 and to the leads 4a.例文帳に追加

半導体チップ３を樹脂フィルム２でパッケージングして成る半導体装置１であり、半導体チップ３の電極部５にリード４ａの一方端が接続され、半導体チップ３の少なくとも回路形成面たる表面及びリード４ａに、熱可塑性の樹脂フィルム２が熱融着によって直接接合される。 - 特許庁

The crystal silicon solar cell manufacturing method according to the present invention includes a reverse side insulation layer formation step of forming a reverse side insulation layer composed of an organic material on the surface of the reverse side of a crystal silicon substrate by a printing method and a step of forming an electrode on a light-receiving surface side after the reverse side insulation layer is formed.例文帳に追加

本発明に係る結晶シリコン太陽電池の作製方法は、結晶シリコン基板の裏面側表面に有機材料からなる裏面絶縁層を印刷法により形成する裏面絶縁層形成工程と、当該裏面絶縁層形成工程の後、受光面側に電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a magnetic film having highly oriented crystal (c) axis on the surface of a steel material by using an electroplating method, which can facilitate a film formation on the surface of a steel material being a substrate having a large area and is high in productivity and cost performance, without preparing an underlying film.例文帳に追加

基板である鉄鋼材料の表面に、下地膜を準備することなく、大面積を有する表面への成膜が容易に可能な生産性や費用効果が高い電気めっき法を用いることにより、鉄鋼材料の表面上に、結晶c軸の高い配向性を有する磁性膜を生成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method by which stable surface modification and thin-film formation on a surface can be performed while avoiding damage to polymer resin film materials due to plasma treatment performed for the polymer resin film materials and to provide an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device produced with the use of the plasma treatment method.例文帳に追加

高分子樹脂フィルム材料へプラズマ処理を行う際、プラズマ処理による高分子樹脂フィルム材料のダメージを抑え、安定した表面改質、表面への薄膜形成が出来るプラズマ処理方法、このプラズマ処理方法による反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置の提供。 - 特許庁

Therefore, an extremely uniform plasma (surface wave plasma) is generated in a micro wave containment chamber M, making it easier to maintain the plasma inside the bottle B even under the atmospheric pressure, whereby the supplied source gas is efficiently plasmatized to uniformly treat the bottle inner surface BI, resulting in an efficient and stable film formation.例文帳に追加

よって、マイクロ波閉じ込め室Ｍには、極めて均一なプラズマ（表面波プラズマ）が生成され、大気圧状態でもボトルＢの内部にプラズマを維持しやすくなり、供給された原料ガスを効率よくプラズマ化してボトル内面ＢＩを均一に処理し、成膜等が効率よくかつ安定して行われることになる。 - 特許庁

A metal plate is subjected to a bending process for the formation of a heating member, the heating member is arranged on the printed board so as to cover the under surface and side surface of the power transistor, and the piezo-electric vibrator is arranged so as to pinch the power transistor between itself and the heating member.例文帳に追加

本発明は上述した課題を解決するため、、プリント基板上に、前記パワートランジスタの下面及び側面を覆う様に板状金属を折り曲げ加工した加熱部材が配置され、前記圧電振動子は前記加熱部材との間に前記パワートランジスタを挟み込む様に配置されていることを特徴とする。 - 特許庁

The recess formation means 14 includes: a press member 21 having a pressurizing surface 21A provided in a planar shape corresponding to the recess C; a platen 22 relatively arranged while sandwiching the adhesive sheet S to the press member 21; and a pressurizing means 23 for pressurizing a pressurizing surface 21A to the adhesive layer A by the press member 21 and the platen 22.例文帳に追加

凹部形成手段１４は、凹部Ｃに対応する平面形状に設けられた押圧面２１Ａを有するプレス部材２１と、このプレス部材２１に対し、接着シートＳを挟んで相対配置されたプラテン２２と、プレス部材２１とプラテン２２とにより押圧面２１Ａを接着剤層Ａに押圧する押圧手段２３とを備えている。 - 特許庁

In the formation method of an insulation film, a mixed gas containing krypton(Kr), ozone(O_3), and an oxidizing gas is activated by microwaves, and the surface of an amorphous silicon film 19 (a silicon(Si)- containing film) is exposed to the activated mixed gas, thus forming an insulation film 19a on the surface of the amorphous silicon film 19.例文帳に追加

クリプトン（Ｋｒ）とオゾン（Ｏ_3 ）と酸化性ガスとを含む混合ガスをマイクロ波で活性化し、アモルファスシリコン膜１９（シリコン（Ｓｉ）含有膜）の表面を上記活性化された混合ガスに曝すことにより上記アモルファスシリコン膜１９の表面に絶縁膜１９ａを形成する絶縁膜の形成方法による。 - 特許庁

To provide a method for forming a single crystal SiC by carbonization of a surface of a Si substrate allowing formation of a high quality single crystal 3C-SiC thin film on the surface of the Si substrate by using atmospheric pressure plasma at a lower temperature and a higher speed as compared with a conventional thermal method, and to provide a crystalline SiC substrate.例文帳に追加

大気圧プラズマを用いて、従来の熱的な手法に比べ、より低温で、かつ、より高速に高品位な単結晶３Ｃ-ＳｉＣ薄膜をＳｉ基板上に形成することが可能なＳｉ基板表面の炭化による単結性ＳｉＣの形成方法及び結晶性ＳｉＣ基板を提供する。 - 特許庁

In a conductor formation step, electrolytic copper plating is performed following to electroless copper plating and a through hole conductor 17 is formed by filling the through hole 16 of the core insulation material 13 entirely, and a conductor layer 19 is formed on the main surface 14 and the rear surface 15 of the core of the core insulation material 13.例文帳に追加

導体形成工程において、無電解銅めっき後に電解銅めっきを施すことにより、コア絶縁材１３のスルーホール用穴１６内全体が充填されてなるスルーホール導体１７が形成されるとともに、コア絶縁材１３のコア主面１４及びコア裏面１５の上に導体層１９が形成される。 - 特許庁

To provide a method for surface-treating a polyimide resin layer, improving the bonding force of the polyimide resin layer by leaps and bounds with a simple surface treatment and also improving the bonding force even in a low roughness copper foil suitable for fine pitch formation, and a method for producing a copper cladding laminated plate used for a high density printed wiring board.例文帳に追加

簡便な表面処理によりポリイミド樹脂層の接着力を飛躍的に向上させ、ファインピッチ形成に適した低粗度銅箔においても接着力を向上させることができるポリイミド樹脂層の表面処理方法と、高密度のプリント配線板に用いられる銅張積層板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the magnetic recording medium includes forming an imprint resist layer on only a substrate surface of data areas of the magnetic recording medium in an imprint resist formation stage; and applying a magnetic field with a substrate surface of servo areas of the magnetic recording medium being in contact with convex portions of the mold structure.例文帳に追加

インプリントレジスト形成工程において磁気記録媒体のデータ部の基体表面にのみインプリントレジスト層を形成し、磁気転写工程において磁気記録媒体のサーボ部の基体表面がモールド構造体の凸部と接触した状態で磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

When receiving a subsequent print request during the falling sequence from determination that there may be no subsequent print request at the falling determination timing till stopping of the photoreceptor surface move, the printer shifts to a control for performing the subsequent image formation processing according to the subsequent print request without stopping the photoreceptor surface move.例文帳に追加

立ち下げ判断タイミングに次の印刷要求が存在しないと判断してから感光体表面移動を停止させるまでの立ち下げシーケンス中に次の印刷要求を受けた場合、感光体表面移動を停止させることなく、次の印刷要求に従った次の画像形成処理を行うための制御へ移行する。 - 特許庁

To obtain a high slag-making promoting action with a refining agent by supplying gaseous oxygen onto molten iron surface and a high dephosphorizing reaction efficiency by restraining the formation of high temperature field by an oxidation reaction on the molten iron surface zone supplied with the gaseous oxygen, in a method for producing a low phosphorus molten iron by a molten iron pre-dephosphorizing treatment.例文帳に追加

溶銑予備脱燐処理による低燐溶銑の製造方法において、気体酸素の溶銑浴面への供給により精錬剤の高い滓化促進作用を得るとともに、気体酸素が供給される溶銑浴面領域での酸化反応による高温場の形成を抑制し、高い脱燐反応効率を得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode plate for a lead storage battery without degradation of formation efficiency by spraying dilute sulfuric acid aqueous solution as particles of 10 to 20 μm on the surface in a laser diffraction method, preventing a crack generated on the surface of the plate by carrying out soaking, and forming a lead sulfate layer thin.例文帳に追加

レーザー回折法で１０〜２０μｍの粒形である希硫酸水溶液を表面に噴霧し、ソーキングを行うことで極板表面に生じる亀裂を防止し、且つ、硫酸鉛層を薄く形成することで化成効率が低下することのない蓄電池用極板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The ground conductor layer 11, in the antenna transmission line, is so formed as to cover only a partial region of the second main surface MP' of the dielectric substrate 42, and the region on the first main surface MP side of the ground conductor layer 11 corresponding to a non-formation region 12' is assured as an antenna mounting space 12.例文帳に追加

アンテナ用伝送線路は、接地用導体層１１が誘電体基板４２の第二主表面ＭＰ’の一部領域のみを覆う形態にて形成され、該接地用導体層１１の非形成領域１２’に対応する第一主表面ＭＰ側の領域がアンテナの実装スペース１２として確保される。 - 特許庁

The cutting prevention part 23 can be formed by rounding only one part of the end face of the tubular material making up the drinking straw 15 once a heating is applied on the retraction side of the inclined surface 21 by a means for spot heating or the like after the formation of the inclined surface 21 made by cutting one opening of a straw unit 15a askew.例文帳に追加

切断防止部２３は、ストローユニット１５ａの一方の開口を斜めに切断して傾斜面２１の形成した後、スポット加熱等の手段によって傾斜面２１の後退側を一定幅だけ加熱するなどして、飲料用ストロー１５を構成する筒状材の端面を一部だけ丸めて形成すればよい。 - 特許庁

This image-formation optical device is produced by using a rod lens array 2 for forming an unmagnified image which is constituted by arranging plural lines of columnar rod lenses 1 having refractive index distribution in a radial direction in a line so that their optical axes may be parallel with each other and arranging an original surface 3 and an image surface 4 on both sides of the rod lens array 2.例文帳に追加

半径方向に屈折率分布を有する円柱状のロッドレンズ１を、その光軸が互いに平行となるように１列に複数本配列した等倍結像のロッドレンズアレイ２を用い、このロッドレンズアレイ２の両側に原稿面３と像面４とを配置して、結像光学装置を作製する。 - 特許庁

The coil bobbin 1 is fitted sequentially in recessed parts formed in the tape forming jigs 50A and 50B and a pressing member, which is energized by a leaf spring presses the insulating tape 12 against a narrow surface 9A and a wide surface 9B, thus performing taping formation.例文帳に追加

コイルボビン１は、テープ成形治具５０Ａおよび５０Ｂにそれぞれ形成された凹部５３Ａおよび５３Ｂに順次嵌合され、板バネ５６Ａ、５７Ａおよび５６Ｂ、５７Ｂに付勢された押圧部材５４Ａ、５５Ｂおよび５４Ｂ、５５Ｂにより、幅狭面９Ａおよび幅広面９Ｂへ絶縁テープ１２が押し付けられ、テーピング成形がなされる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer wiring board for electronic parts which prevents the leakage of ultraviolet rays at exposure, or the creep in of electrolytic copper plating liquid caused by poor adhesion of a dry film at formation of a wiring pattern, by removing the unevenness on the surface of an insulating resin layer along the unevenness on the surface of a lower wiring pattern.例文帳に追加

下側の配線パターンの表面の凸凹に沿った絶縁樹脂層表面の凸凹をなくし、露光時の紫外線漏れや配線パターン形成時のドライフィルムの密着不具合による電解銅めっき液の潜り込みを防止した電子部品用多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A substrate 1 where circuit formation is completed is divided into strips and then stored in a coating palette, an electrode material 4 is held on a roller surface having projections 3 corresponding to electrode intervals of the multiple-chip resistor and made to abut against end surfaces of the striped substrates 1, thereby efficiently forming end surface electrodes with good productivity.例文帳に追加

回路形成が完了した基板１を短冊状に分割した後、塗布パレットに収納し、多連チップ抵抗器の電極間隔に対応した凸部３を有するローラ表面に電極材料４を保持させて、短冊状基板１の端面に当接させることで、生産性良く端面電極を形成することができる。 - 特許庁

To provide mixed metal-based granulates for rapidly removing an oxidized film or an existing film of a metal material surface before coating and making such formation of a metal material surface state before coating as to strengthen adhesion to the coating safe and inexpensive.例文帳に追加

本発明は、混合金属系粒状物に関し、特に、塗装前金属材料表面の酸化皮膜又は既存の塗膜を迅速に除去し、又該塗料の密着度を強くするような塗装前金属材料表面状態の形成を安全且つ安価にするための混合金属系粒状物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer printed wiring board, exhibiting good adhesive strength to plated copper by realizing high elongation property, while keeping surface roughness of an insulating layer after coarsening the surface to ≤3 μm so as to enable micro-wiring in circuit formation by a semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法による回路形成において、微細配線化が可能となるように粗化後の絶縁層表面粗さが３μｍ以下でありながら、高い伸び性を実現することによりめっき銅との良好な接着強度を示す多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The formation method includes (1) a step of forming a silicon oxide film 42 by thermally oxidizing a surface of a silicon layer 40 at an atmosphere temperature at which hydrogen atoms terminated on its surface are not detached, and (2) a step of obtaining a silicon nitride oxide film 42A by subjecting the obtained silicon oxide film 42 to a nitriding process.例文帳に追加

シリコン窒化酸化膜の形成方法は、（イ）表面を終端した水素原子が脱離しない雰囲気温度にて、シリコン層４０の表面を熱酸化することによって、シリコン酸化膜４２を形成する工程と、（ロ）得られたシリコン酸化膜４２を窒化処理することによって、シリコン窒化酸化膜４２Ａを得る工程から成る。 - 特許庁

To provide highly safe bed furniture by imparting stability so as not to easily fall down to the front surface side by utilizing a formation used when it is used as a bed and making the back surface side heavy when using it as storage furniture and improving functionality as the storage furniture for a measure against an earthquake.例文帳に追加

収納家具として使用するときに、ベッドとしての使用時に使用していた構成体を利用して背面側を重くして正面側へ倒れにくいように安定性を付与することができ、地震対策用の収納家具としての機能性を向上させて、より安全性の高いベッド家具を提供する。 - 特許庁

A bank 17 for delimiting pixel formation regions Rpx of a plurality of display pixels PIX arranged on a display panel 10 is serially protruded and arranged from a surface of an insulating substrate 11 in a column direction of the display panel 10 and formed so as to have an inversely tapered cross-sectional shape (side surface).例文帳に追加

表示パネル１０に配列された複数の表示画素ＰＩＸの画素形成領域Ｒpxを画定するためのバンク１７は、表示パネル１０の列方向に、絶縁性基板１１表面から連続的に突出して配設され、かつ、逆テーパ状の断面形状（側面）を有して形成されている。 - 特許庁

Surface potential of a non-exposed part of a photoreceptor drum 11 is detected by surface potential sensors 27Y to 27BK provided for each of the plurality of image formation units 12Y to 12BK in the surroundings and chargers 14Y to 14BK are controlled by a charger control system 50a so that a detection result shows a specified charge reference value.例文帳に追加

感光体ドラム１１の未露光部の表面電位を、周囲の複数の画像形成ユニット１２Ｙ〜１２ＢＫ毎に設けられる表面電位センサ２７Ｙ〜２７ＢＫで検出し、検出結果が規定の帯電基準値となるように、帯電装置制御系５０ａにより帯電装置１４Ｙ〜１４ＢＫを制御する。 - 特許庁